「diffraction intensity」を含む例文一覧(365)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 次へ＞- This bioactive crystallized glass bead contains Ca and the ratio of the intensity (I2) of diffraction peak at d=2.94 Å spacing of wallastonite and/or diopside over the intensity (I1) of diffraction peak at d= 2.94 Å of apatite satisfies the equation: 0<I2/I1<3/4 in an X-ray diffraction.
Ｃａを含有し、Ｘ線回折においてウォラストナイト及び／又はディオプサイドの面間隔ｄ＝２．９４Åの回折ピーク強度（Ｉ_2）とアパタイトの面間隔ｄ＝２．８３Åの回折ピーク強度（Ｉ_1）の比が０＜Ｉ_2／Ｉ_1＜３／４の範囲となることを特徴とする。 - 特許庁 - The piezoelectric/electrostrictive body has a ratio between a diffraction peak intensity I_001 of the (001) face and a diffraction peak intensity I_100 of the (100) face of I_001/I_100≤1, in an X-ray diffraction pattern in the same plane after the polarization treatment.
また、本発明の圧電／電歪体は、分極処理後の、電界の印加方向と垂直な面におけるＸ線回折パターンにおいて、（００ｌ）面の回折ピーク強度Ｉ_００ｌと（ｌ００）面の回折ピーク強度Ｉ_ｌ００との比がＩ_００ｌ／Ｉ_ｌ００≦１である。 - 特許庁 - Alternatively, in the range of discharge depth of 50-90%, the relationship of a minimum value I1 of X-ray diffraction intensity of at least one or more X-ray diffraction peak to X-ray diffraction intensity I0 at 100% of discharge depth satisfies I1/I0>0.5.
または、放電深度５０％〜９０％の範囲内において、少なくとも１以上のＸ線回折ピークのＸ線回折強度の最小値Ｉ_1 が放電深度１００％でのＸ線回折強度Ｉ_0 に対しＩ_1／Ｉ_0＞０．５なる関係を満たす。 - 特許庁 - In addition, the coefficient of variation of the first peak intensity showing the maximum intensity in an X-ray diffraction pattern inside a stimulable phosphor layer face is set at 40% or lower.
そして、輝尽性蛍光体層面内のＸ線回折パターンにおいて最大強度を示す第１ピーク強度の変動係数を４０％以下とする。 - 特許庁 - Related to the coat 12, A/B is 1 or higher for an X-ray diffraction pattern, where A is a peak intensity on (111) surface while B is a peak intensity on (220) surface.
皮膜１２は，Ｘ線回折パターンにおける，（１１１）面のピーク強度をＡ，（２２０）面のピーク強度をＢとした場合，Ａ／Ｂが１以上である。 - 特許庁 - Next, the phase of diffraction light is changed, and a plurality of image data (coordinate, intensity) changing intensity by time by phase change are taken in to a storage device.
次に、回折光の位相を変化させ、位相変化により時間的に強度変化する複数の画像データ（座標、強度）を記憶装置に取り込む。 - 特許庁 - Related to silicon carbide, A/B is 1 or higher for an X-ray diffraction pattern, where A is a peak intensity on (111) surface while B is a peak intensity on (220) surface.
かつ，炭化珪素体は，Ｘ線回折パターンにおける，（１１１）面のピーク強度をＡ，（２２０）面のピーク強度をＢとした場合，Ａ／Ｂが１以上である。 - 特許庁 - In the analysis step, parabolic approximation is applied to a relationship between a position of the diffraction spot and diffraction intensity, and a value of diffraction angle at a position corresponding to the vertex of the parabola is set to the diffraction angle at a position corresponding to the center of the gauge volume.
解析工程では、回折スポットの位置と回折強度とを関係を放物線近似し、かつ、放物線の頂点に対応する位置の回折角の値をゲージ体積中心に相当する位置の回折角に設定することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a diffraction grating measurement apparatus which has simple and compact constitution and nonetheless can accurately measure a diffraction angle and an intensity branching ratio in a diffraction grating and even when diffraction beams in the diffraction grating come close to and overlap with each other, can quickly separate the diffraction beams into several distribution functions by a simple method, and to provide a diffraction grating measurement method.
簡易、かつ、小型な構成でありながら、回折格子における回折角及び強度分岐比の正確な測定が可能であり、また、回折格子における各回折光が接近し重なっている場合であっても、簡単な手法によって、迅速に数個の分布関数に分離することができる回折格子の測定装置及び測定方法を提供する。 - 特許庁 - Intensity (I) of a (200) plane obtained by X-ray diffraction of a rolled surface, after it is recrystallized through annealing satisfies I/I0<20, where (I0) is the intensity of the (200) plane obtained by X-ray diffraction of fine powder copper.
焼鈍を行って再結晶組織にした後の圧延面のＸ線回折で求めた（２００）面の強度（Ｉ）が、微粉末銅のＸ線回折で求めた（２００）面の強度（Ｉ_０）に対し、 Ｉ／Ｉ_０＜２０である。 - 特許庁 - The X-ray intensity data are improved by measuring diffraction X rays from the metallic phase contained in the plated layer at a plurality of positions to the same Debey ring and integrating the obtained diffraction X-ray intensity data.
めっき層に含まれる金属相からの回折Ｘ線を、同一のデバイ環に対して複数の位置で測定し、得られる回折Ｘ線強度データを積算することにより、Ｘ線強度データを高める。 - 特許庁 - The intensity ratio I1/I2 of an intensity of peak I1 resulting from (220) crystal face of silicon and the intensity of peak I2 resulting from (111) crystal face obtained by X-ray diffraction is 0.05 or more.
Ｘ線回折によって得られるケイ素の（２２０）結晶面に起因するピークの強度Ｉ１と（１１１）結晶面に起因するピークの強度Ｉ２との強度比Ｉ１／Ｉ２は、０．０５以上である。 - 特許庁 - When the surface layer is subjected to X-ray diffraction, a primary diffraction peak corresponding to a (111) crystal plane is observed as the diffraction peaks corresponding to polycrystalline silicon carbide whose crystal polymorph is 3C, and no other primary diffraction peaks having diffraction intensity of 10% or more that of the primary diffraction peak corresponding to the (111) crystal plane is observed.
表層のＸ線回折により、結晶多形が３Ｃである多結晶炭化ケイ素に対応した回折ピークとして、（１１１）結晶面に対応した１次回折ピークが観察され、（１１１）結晶面に対応した１次回折ピークの回折強度の１０％以上の回折強度を有する他の１次回折ピークが観察されない。 - 特許庁 - In the copper alloy, the integrated intensity ratio I {200}/I{111} obtained by X-ray diffraction regarding a rolling face is ≤1.5.
圧延面についてのＸ線回折により求まる積分強度比Ｉ｛２００｝／Ｉ｛１１１｝が１.５以下である銅合金。 - 特許庁 - To provide an X-ray diffraction device excellent in angle resolving power, reduced in the lowering of X-ray intensity and simplified in its structure in an X-ray diffraction method using a parallel beam method, and the X-ray diffraction method.
平行ビーム法を用いたＸ線回折法において、角度分解能が優れていて、Ｘ線強度の低下が少なく、構造が簡素化されたＸ線回折装置およびＸ線回折方法を提供する。 - 特許庁 - An example of a graph of diffraction intensity by an X-ray diffraction method of the obtained ITO film (as shown), and a strong peak corresponding to the (400) plane of ITO is observed.
選択図には得られたＩＴＯ膜のＸ線回折法による回折強度のグラフの一例を示し、ＩＴＯの（４００）面に対応する強いピークが観測されている。 - 特許庁 - For the ferrite with cadmium chloride structure (LiFeO_2 with CdCl_2 structure), the integrated intensity ratio of the diffraction peak of (003) against the diffraction peak of (104), obtained by the powder method of X ray diffraction, is 2.5 or more, or the half value width of the diffraction peak of (003) is 0.45 of less.
この塩化カドミウム型フェライト（ＣｄＣｌ_2 型ＬｉＦｅＯ_2 ）は、粉末Ｘ線回折法により得られる、（１０４）の回折ピークに対する（００３）の回折ピークの積分強度比が２．５以上、または（００３）の回折ピークの半値幅が０．４５以下となっている。 - 特許庁 - A cerium oxide abrasive is provided that contains slurry, wherein ceric oxide having 2.5 or more of an integrated intensity ratio a/b, when the diffraction intensity by the face (111) obtained by X-ray diffraction is (a), the diffraction intensity by the face (200) is b is dispersed in a medium, and a method of grinding a predetermined substrate with this ceric oxide abrasive is provided.
Ｘ線回折法で得られる（１１１）面による回折強度ａと（２００）面による回折強度ｂがａ／ｂの積分強度比で２．５以上である酸化セリウムを媒体に分散させたスラリーを含む酸化セリウム研磨剤及びこの酸化セリウム研磨剤で、所定の基板を研磨することを特徴とする基板の研磨法。 - 特許庁 - In the expression, I{420} represents an X-ray diffraction intensity of a crystal face {420} on the plate surface of the copper alloy plate material, and I_0{420} represents an X-ray diffraction intensity of the crystal face {420} of a standard powder of pure copper.
Ｉ｛４２０｝／Ｉ_0｛４２０｝＞１.０ ……（１） ここで、Ｉ｛４２０｝は当該銅合金板材の板面における｛４２０｝結晶面のＸ線回折強度、Ｉ_0｛４２０｝は純銅標準粉末の｛４２０｝結晶面のＸ線回折強度である。 - 特許庁 - DIFFRACTION METHOD OF HIGH-INTENSITY PULSE LASER BEAM, TRANSIENT DIFFRACTION GRATING ELEMENT, METHOD OF SUPPRESSING PRE-PULSE OF HIGH-INTENSITY PULSE LASER BEAM, METHOD OF COMPRESSING CHIRPED PULSE LASER BEAM, METHOD OF GENERATING PHASE CONJUGATE BEAM, AND METHOD OF GENERATING SPECTRUM PHASE CONJUGATE BEAM
高強度パルスレーザー光の回折方法、過渡回折格子素子、高強度パルスレーザー光のプレパルス抑制方法、チャープパルスレーザー光の圧縮方法、位相共役光の生成方法、およびスペクトル位相共役光の生成方法 - 特許庁 - An angle ω0 where the intensity of light from the light source 4 entering the photodetector 5 is maximized, and an angle ω1 where the intensity of diffraction X-rays which are detected by an X-ray diffraction system that is set at a specific angle is maximized, are measured.
次いで、測定対象試料を装着して同様に光強度が最大になる角度ω_２と回折Ｘ線強度が最大になる角度ω_３を測定し、次式に基づき測定対象試料の偏差角δを求める。 - 特許庁 - The copper-base alloy excellent in press workability, in which, as to the X-ray diffraction intensity of the cross section of the material, the sum of the diffraction intensity of {111} and that of {222} becomes two or more times that of {200}, and its manufacturing method are provided.
材料の断面のＸ線回折強度で｛１１１｝と｛２２２｝の回折強度の合計が｛２００｝回折強度の２倍以上であることを特徴とするプレス加工性に優れた銅基合金とその製造方法。 - 特許庁 - This intensity measuring method of the single-wavelength light in the EUV domain includes spectral diffraction of EUV light by a diffraction grating, entrance of the spectrally-diffracted light into a multilayer film mirror, reflection of the single-wavelength light, and measurement of the reflected light intensity.
ＥＵＶ光を回折格子により分光し、分光された光を多層膜ミラーに入射し、単波長光を反射し、その反射光強度を測定することを含む、ＥＵＶ領域の単波長光の強度測定方法。 - 特許庁 - Moreover, the distribution of the first peak intensity showing the maximum intensity in an X-ray diffraction pattern inside a stimulable phosphor layer face is isotropic from the center of the support 11.
そして、輝尽性蛍光体層面内のＸ線回折パターンにおいて最大強度を示す第１ピーク強度の分布が支持体中心から等方的である。 - 特許庁 - To determine correctly the integrated intensity of diffraction spots even in the case of a monocrystal sample having poor crystallinity by setting long and narrow intensity calculation frames.
細長い強度算出枠を設定することにより，結晶性の悪い単結晶試料でも回折斑点の積分強度を正しく求めることができるようにする。 - 特許庁 - The light intensity of the diffraction light 19 is weaker than that of the inspection light 17, and becomes weaker as it becomes close to the rear surface 11c.
回折光１９は、検査光１７よりも光強度が弱く、裏面１１ｃに近くなるほど更に弱くなる。 - 特許庁 - These structures differ in the light transmission characteristics and vary the intensity distributions in the order of diffraction of the imaging pupil of optical device.
これらは、光の透過特性に関して異なり、光学装置のイメージング瞳の回折次数の強度分布を変える。 - 特許庁 - Multivalue data are decided based on the information of the diffraction intensity of a reproducing light Z obtained by applying a reference light.
参照光を照射して得られた再生光Ｚの回折強度の情報に基づいて多値データを決定する。 - 特許庁 - The integrated intensity of X-ray diffraction on a rolled surface of the copper alloy satisfy the relations (1): 30≤(I/I_0{220})/(I/I_0{200})≤95 and (2) 0.36≤2×(I/I_0{111})+(I/I_0{311})≤0.48.
（１）３０≦（Ｉ／Ｉ_0｛２２０｝）／（Ｉ／Ｉ_0｛２００｝）≦９５、（２）０．３６≦２×（Ｉ／Ｉ_0｛１１１｝）＋（Ｉ／Ｉ_0｛３１１｝）≦０．４８ - 特許庁 - To provide a diffraction type variable attenuator which can change intensity of light without changing a polarization state.
偏光状態を変化させることなく光の強度を変化させることが可能な回折型可変アッテネータを提供する。 - 特許庁 - The intensity of reflected light of each diffraction degree depends upon the mentioned step quantity, so it indicates the quantity of the incident infrared rays.
各回折次数の反射光の強度は、前記段差量に依存するので、入射赤外線量を示すことになる。 - 特許庁 - An intensity ratio [I(200)/I(111)] between crystal orientation faces (200) and (111) measured by X-ray diffraction of the nickel belt is set to ≥5.0.
ニッケルベルトのＸ線回折により測定される結晶配向面(200)と(111)の強度比〔Ｉ(200)/Ｉ(111)〕を５．０以上とする。 - 特許庁 - Ultrasonic waves of high intensity are propagated into the atmosphere, and a density structure thereof is regarded as a diffraction grating flying at a high speed.
大気中に高強度の超音波を伝播させ、その疎密構造を高速で飛行する回折格子に見立てる。 - 特許庁 - The graphitized carbon fibers have a spacing (d002) of graphite layers, measured by the X-ray diffraction method, of <0.3370 nm and, at the same time, a peak intensity ratio (P101/P100) of the (101) diffraction peak to the (100) diffraction peak of ≥1.15.
黒鉛化炭素繊維は、Ｘ線回折法による黒鉛層間の面間隔（ｄ００２）が０．３３７０ｎｍ未満で、かつ、（１０１）回折ピークと（１００）回折ピークのピーク強度比（Ｐ１０１／Ｐ１００）が１．１５以上である。 - 特許庁 - The light from the objective 2 is converged on a reflective diffraction element 3 to observe the intensity distribution of the reflected light and a push-pull signal when the reflective diffraction element 3 is swung at right angles to a diffraction grating is detected.
反射型回折素子３上に対物レンズ２からの光を集光し、反射光の強度分布を観察し、反射型回折素子を回折格子と垂直な方向に揺動したときのプッシュプル信号を検出する。 - 特許庁 - In the aluminum nitride powder, the intensity ratio I(002)/I(100) of diffraction peak of (002) plane to that of (100) plane in X-ray diffraction using a Cu-Kα ray is 0.2-0.5.
Cu−Kα線を用いたX線回折において（００２）面と（１００）面からの回折ピークの強度比Ｉ（００２）／Ｉ（１００）が０．２〜０．５であることを特徴とする窒化アルミニウム粉末。 - 特許庁 - To provide an X-ray diffraction apparatus in which an X-ray diffraction of a thin film formed on a cylindrical basic body, including an electrophotographic photosensitive body, can be measured with sufficient intensity.
電子写真感光体を始めとする円筒状の基体の上に形成された薄膜のＸ線回折を十分な強度で測定することができるＸ線回折装置を提供する。 - 特許庁 - By applying heat treatment to a metal magnetic powder containing Fe, Si, and Al produced by an atomize method, when the diffraction intensity by X-ray diffraction method from (111) is made to be I(111) and the diffraction intensity from (220) is made to be I(220), the metal magnetic powder is adjusted so as to be I(111)/I(220)≥0.025.
アトマイズ法により作製したＦｅ、ＳｉおよびＡｌを含む金属磁性粉末に、熱処理を施して、Ｘ線回折法による（１１１）からの回折強度をＩ（１１１）、（２２０）からの回折強度をＩ（２２０）としたとき、Ｉ（１１１）／Ｉ（２２０）≧０．０２５からなる金属磁性粉末となるように調整する。 - 特許庁 - It is more preferable that the center line average roughness Ra75 in the surface of the plating layer is ≤0.8 μm, and the ratio of the diffraction intensity Iζof a ζ phase to the diffraction intensity Iδ_1 of a δ1 phase in the plating layer measured using an X-ray diffraction method is ≤0.1.
めっき層表面の中心線平均粗さＲａ７５が０．８μｍ以下であり、Ｘ線回折法を用いて測定されためっき層中のζ相の回折強度Ｉζとδ１相の回折強度Ｉδ_1との比であるＩζ／Ｉδ_1が０．１以下であることはより好ましい実施態様である。 - 特許庁 - The lower electrode 15 is a metal thin film with a thickness of less than 2000 nm whose main component is tantalum and in which intensity ratio I_α/I_β between peak intensity I_β of (002) diffraction peak of tetragonal β phase and peak intensity I_α of (110) diffraction peak of cubic crystal α phase is at most 0.1.
下部電極１５は、タンタルを主成分とする厚さ２０００ｎｍ未満の金属薄膜であって、そのＸ線回折ピークにおいて、正方晶β相の（００２）回折ピークのピーク強度Ｉ_βと立方晶α相の（１１０）回折ピークのピーク強度Ｉ_αとの強度比Ｉ_α／Ｉ_βが０．１以下である。 - 特許庁 - The HC adsorbent has high heat resistance and keeps high XRD (X-ray diffraction) intensity after tested for heat resistance and durability.
当該ＨＣ吸着剤は、耐熱性が高く耐熱耐久処理後におけるＸＲＤ回折強度が高く維持される。 - 特許庁 - A rising part of the light intensity distribution by Fresnel diffraction is approximated by, for example, the hyperbolic second function sech(x).
フレネル回折による光強度分布の立ち上がり部分を、例えばハイパボリックセカンド関数ｓｅｃｈ（ｘ）により近似する。 - 特許庁 - To use a system and a method for equalizing levels of intensity and energy of different diffraction order components of patterned beam.
パターニングされたビームの種々の回折次数部分の強度およびエネルギーを均等化するためのシステムおよび方法を用いる。 - 特許庁 - In a sputtering target of high-purity TaN, the intensity peak ratio (101) plane:(110) plane is 1: 0.49±30%, where the intensity peaks are measured on the surface of the target through an X-ray diffraction method.
高純度ＴａＮからなるスパッタターゲットであって、ターゲット表面においてＸ線回折法で測定された (101)面のピーク強度と (110)面のピーク強度の比（(101)/(110))が0.49±30% 以内である。 - 特許庁 - The spherical alumina powder is characterized in that the ratio of the δ-phase peak intensity detected at 2θ=45.6° to the θ-phase peak intensity detected at 2θ=44.8°, (δ-phase peak intensity/θ-phase peak intensity), is ≥1.0 in X-ray diffraction, the average sphericity is ≥0.90, and the average particle diameter is ≤100 μm.
Ｘ線回折において２θ＝４５．６°に検出されるδ相ピーク強度と２θ＝４４．８°に検出されるθ相ピーク強度の比、（δ相ピーク強度／θ相ピーク強度）が１．０以上である、平均球形度が０．９０以上、平均粒子径１００μｍ以下の球状アルミナ粉末。 - 特許庁 - The transition metal composite oxide has a maximum diffraction peak by a X-ray diffraction using CuKα-ray in 10°<2θ<20° as a single peak and does not have a peak with intensity of not less than 1/10 of the maximum diffraction peak in 20°<2θ<25°.
遷移金属複合酸化物は、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折での最大回折ピークが１０°＜２θ＜２０°に単一ピークとして存在し、且つ２０°＜２θ＜２５°に最大回折ピークの１／１０以上の強度のピークが存在しない。 - 特許庁 - To obtain a highly accurate diffraction element that prevents an intensity decrease of a light beam entering a light receiving unit without a decrease in diffraction efficiency and without a problem of flare or the like, a method of manufacturing the diffraction element, and a spectrometer using the same.
受光手段に入射する光束の強度の低下を防止しつつ、回折効率に低下が無く、フレア等の問題が発生しない高精度な回折素子及び回折素子の製造方法及びそれを用いた分光器を得ること。 - 特許庁 - The unnecessary diffraction X-ray included in the diffraction X-ray beam is removed by a pinhole 109, and only diffraction light 108 from the irradiation area of the Bessel beam on the sample 106 is made to get incident into a detector 110, so as to measure intensity thereof.
そして、回折Ｘ線ビームに含まれる不要な回折Ｘ線をピンホール１０９により除去して、試料１０６上のベッセルビームの照射領域からの回折光１０８のみを検出器１１０に入射させて強度測定を行なう。 - 特許庁 - The copper conductor for the audio/video signal is formed so that an X-ray diffraction intensity I (111) of a (111) face and the X-ray diffraction intensity I (200) of a (200) face at irradiating the X-ray to the cross-section satisfies I (111)≥15×I (200).
オーディオ・ビデオ信号用銅導体は、横断面にＸ線を照射したときの（１１１）面のＸ線回折強度Ｉ（１１１）と（２００）面のＸ線回折強度Ｉ（２００）とがＩ（１１１）≧１５×Ｉ（２００）の関係を満たすように形成されている。 - 特許庁 - A calculator 19 detects a diffraction angle θ from an intensity distribution of the diffraction X-ray 5 measured by the detector 6, the diffraction angle when no influence of refraction of X-ray exists from the data of the angles α, θ is obtained, and an internal stress of the sample 3 is calculated base on the diffraction angle.
算出部１９は、Ｘ線検出器６で測定された回折Ｘ線５の強度分布から回折角度θを検出し、入射角度αと回折角度θのデータから、Ｘ線の屈折による影響がないときの回折角度を求め、それに基づいて試料３の内部応力を算出する。 - 特許庁
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