「distribution pattern」を含む例文一覧(1619)
＜前へ 1 2 .... 18 19 20 21 22 23 24 25 26 .... 32 33 次へ＞- To provide a thermoelectric transducer wherein temperature of cold junctions of a thermoelectric pattern can be detected accurately in the case that temperature distribution exists, and yield in the case of manufacturing and deterioration of reliability can be improved.
温度分布がある場合でも熱電パターンの冷接点の温度を正確に検知でき、製造時の歩留まりと信頼性の劣化も改善できる熱電変換素子を提供する。 - 特許庁 - To provide a vehicular lamp capable of providing a preferable light distribution pattern in a diffused state even if prisms are concentrically and cylindrically formed on a reflecting surface of a parabolic surface of revolution.
回転放物面の反射面に同心円でシリンドリカル状のプリズムを形成しても、拡散された状態の好ましい配光パターンが得られる車両用灯具を提供する。 - 特許庁 - To make a headlight for a vehicle of a projector type have a light distribution pattern which does not cause a light beam loss, and the shape and intensity of which are adequate to overhead sign illumination.
プロジェクタ型の車両用前照灯において、光束ロスを生じることなく、オーバヘッドサイン照射に適した形状および明るさを有する配光パターンが得られるようにする。 - 特許庁 - The substrate body (52), the macro-optical characteristic s(54), and the micro-structures (56) cooperate, to cause the monolithic optical element to produce the optical output, giving a predetermined light distribution pattern, and aberrations are corrected.
基体（５２）、マクロ光学的特徴（５４）及び微小構造（５６）は協働して、所定の光分布パターンを与える光出力をモノリシック光学要素に発生せしめ、収差を補正する。 - 特許庁 - To make it possible to carry out beam radiation in a light distribution pattern in immediate response to vehicle's run conditions, in a vehicle headlamp housing a lighting apparatus unit within a lamp body.
ランプボディの内部に灯具ユニットが収容されてなる車両用前照灯において、車両走行状況に即応した配光パターンでビーム照射を行えるようにする。 - 特許庁 - A vehicular headlamp device includes: a lamp unit forming a light distribution pattern Hi for a high beam that includes an upper area above the cut-off line of a light distribution pattern Lo for a low beam and is divided into a plurality of individual patterns Hia-Hie; and a control unit controlling the formation of each of the individual patterns Hia-Hie according to the presence of the forward vehicle 400.
車両用前照灯装置は、ロービーム用配光パターンＬｏのカットオフラインから上方の領域を含むとともに複数の個別パターンＨｉａ〜Ｈｉｅに分割されたハイビーム用配光パターンＨｉを形成可能な灯具ユニットと、前方車両４００の存在に応じて各個別パターンＨｉａ〜Ｈｉｅの形成を制御する制御部と、を備える。 - 特許庁 - To provide a lamp with double filament type in which, by suppressing that light emitted from a low beam filament for passing is reflected by inner lead wires supporting a high beam filament for driving, occurrence of irregular reflection light which does not contribute to formation of low beam light distribution pattern and gives an adverse effect is prevented, and thereby, an optimal light distribution pattern can be formed.
ダブルフィラメントタイプの電球において、すれ違いビーム用フィラメントから放出された光が走行ビーム用フィラメントを支持する内部リード線で反射されるのを抑制することによって、すれ違い用配光パターンの形成に寄与せず、且つ有害な影響を与える乱反射光の発生を防止し、よって最適な配光パターンの形成が可能となるようにすること。 - 特許庁 - To finely control a light irradiation dose to a short distance region of the road surface in front of a vehicle as well, after enabling light irradiation with a light distribution pattern and an irradiation angle corresponding to a traveling situation of the vehicle in a vehicular head-light which forms the light distribution pattern having a cut-off line at the upper end part by a projector type lighting fixture unit.
プロジェクタ型の灯具ユニットにより、上端部にカットオフラインを有する配光パターンを形成する車両用前照灯において、車両走行状況に応じた配光パターンおよび照射角度で光照射を行えるようにした上で、車両前方路面の近距離領域への光照射量についても木目細かく制御できるようにする。 - 特許庁 - To provide a method for making, on a semiconductor surface, a desired pattern having depth changed depending on the place thereof, by using a first mask having a desired pattern and a second mask for controlling the amount of etching seeds diffused in an opening of the desired pattern, the method providing a distribution corresponding to the change in depth, of supply of etching seeds contributing etching.
所望のパターンを有する第１のマスクと、所望のパターンの開口部に拡散されるエッチング種の量を制御するための第２のマスクとを用いて、深さが場所によって変化する前記所望のパターンを半導体表面に作製するための方法において、エッチングに寄与するエッチング種の供給に前記深さの変化に対応した分布を設ける。 - 特許庁 - A fuel cell optimum operation pattern managing system 1 comprises a user management/distribution device 2 for contacting with a user, a data accumulating device 3 for accumulating user information, unit charge and its fluctuation of electricity bill and gas bill, and whether information, and an operation pattern predicting device 4 for predicting a future optimum operation pattern of the fuel cell system of users.
ユーザとコンタクトをとるユーザ管理配信装置２と、ユーザ情報、電気料金及びガス料金単価とその変動、気象情報を蓄積するデータ蓄積装置３と、各ユーザの燃料電池システムの将来の最適運転パターンを予測する運転パターン予測装置４とにより燃料電池最適運転パターン管理システム１を構成する。 - 特許庁 - The distribution condition of the measurement data collected by a plurality of sensors installed on a blast furnace facility is arranged on the two-dimensional plane or three-dimensional space reflecting the installation positions of each sensor on the blast furnace facility, the pattern formed by the measurement data using isopleths or the like, and the pattern or the characteristics information of the pattern is operated by the image processing.
高炉設備上に複数設置される各種センサで収集した計測データの分布状態を、各センサの高炉設備上の設置位置を反映させた２次元平面又は３次元空間上に配置し、計測データによって等値線等で形成される図形を演算し、その図形又は図形の特徴情報を画像処理によって演算する。 - 特許庁 - When a wafer is exposed to a mask pattern through a plurality of exposure shots, a correction exposure amount in each exposure shot is found based upon a previously measured pattern size distribution in each exposure shot after etching, exposure is carried out with respective correction exposure amounts in the respective exposure shots, and the exposed wafer is etched to form the pattern on the wafer.
ウェハ上にマスクパタンを複数の露光ショットにより露光する際に、予め測定されたエッチング後の各露光ショット内のパタン寸法分布に基づき、各露光ショット内の補正露光量を求め、各露光ショットにおいて、それぞれの補正露光量で露光し、露光されたウェハをエッチングすることにより、ウェハにパタンを形成する。 - 特許庁 - The nanotubes 16 are constituted by supplying heat distribution in response to the desired pattern to a raw material substrate 10 containing iron (Fe) as a catalyst, by depositing the iron at positions corresponded to the heat distribution into a first material composed of a semiconductor such as silicon (Si) and by using the iron as the catalyst.
カーボンナノチューブ１６は、シリコン（Ｓｉ）などの半導体からなる第１の物質中に、触媒として鉄（Ｆｅ）を含む素材基板１０に対して、所望のパターンに応じた熱分布を与え、熱分布に応じた位置に鉄を析出させて、この鉄を触媒として形成したものである。 - 特許庁 - The device includes a shade mechanism 34 for changing a shading state of light emitted from a bulb 30 to form one light distribution pattern from a plurality of kinds of light distribution patterns and a first actuator 42 and a second actuator 44 for changing the shading state by the shade mechanism 34.
バルブ３０から照射された光の遮光状態を変化させて複数種類の配光パターンの中から１つの配光パターンを形成するシェード機構３４と、このシェード機構３４による遮光状態を変化させる第１アクチュエータ４２、第２アクチュエータ４４を含む。 - 特許庁 - To prevent a white light emitting device and an infrared light emitting device from being turned on simultaneously and avoid disturbance in forming a light distribution pattern an infrared distribution for a vehicle in a lamp unit and a headlight of the vehicle comprising the white light emitting device and and the infrared light emitting device.
白色光の発光素子と赤外光の発光素子を用いた灯具ユニット及び車両用前照灯において、両発光素子の同時点灯を回避するとともに、車両用配光パターン及び赤外配光の形成に支障を来たさないようにする。 - 特許庁 - The target temperature value of the strip S at each outlet side in plural zones 31 and 32 is set so that the fuel flow distribution in each of plural zones 31 and 32 in the heating zone 3 becomes a prescribed pattern, to put it concretely, the fuel flow distribution in each of the zones 31 and 32 is substantially equalized.
加熱帯３の複数のゾーン３_1 、３_2 の各々における燃料流量分布が所定のパターン、具体的には各ゾーン３_1 、３_2 における燃料流量分布が実質的に均一となるように、複数のゾーン３_1 、３_2 の各々の出側におけるストリップＳの目標板温値を設定する。 - 特許庁 - The outgoing data distribution transmission control section copies the ATM cell on the basis of broadcasting cell identification information of the ATM cell from the demultiplexer 4 and distributes the ATM cell to one of the base stations 10-13, 20-23, and 30-33 on the basis of the information from the outgoing data distribution pattern table.
下りデータ送信制御部６ｂは、多重分離装置４からのＡＴＭセルの同報セル識別情報に基づいてＡＴＭセルを複製して下りデータ分配パターンテーブル６ａからの情報に基づいてＡＴＭセルを基地局１０〜１３、２０〜２３、３０〜３３のいずれかに分配する。 - 特許庁 - The one of valved inlets (13, 15) is closed by a nozzle assembly (10) and the other is distributed to two equal output arrangements (92, 94) of distribution nozzles kept apart in the transverse direction; thus, a space section (96) is provided at a specified place in a distribution pattern.
弁付き入口（１３，１５）の一方がノズルアセンブリー（１０）により遮断されていて、他の一方は、横方向に離間された分配ノズルの二つの等しい出力配列（９２，９４）に分配されていて、分配パターンにおける所定の場所に空間部（９６）が提供されている。 - 特許庁 - The vehicle headlamp 100 is provided with a main lamp unit 17 that is arranged fixedly and can secure a light volume of main light distribution and sub-lamp units 19, 21 as auxiliary lamps that use semiconductor light-emitting elements as light sources and can change or form a light distribution pattern.
車両用前照灯１００は、灯室１５内に、固定配置され主配光の光量を確保できるメインランプユニット１７と、半導体発光素子を光源として配光パターンを変更形成可能とする補助用ランプとしてのサブランプユニット１９，２１とを備える。 - 特許庁 - When a dot analyzing device 1 detects the dot feature value of the image to be evaluated, an image inputting part 3 reads the image pattern of the image to be evaluated as two-dimensional physical quantity distribution data representing variable density information and stores the read physical quantity distribution data in a memory 4.
ドット解析装置１で被評価画像のドットの特徴量を検出するとき、画像入力部３で被評価画像の画像パターンを濃淡情報を表す２次元の物理量分布データとして読み取り、読み取った物理量分布データをメモリ４に格納する。 - 特許庁 - The player can purpose the win by operating the stop switch 6, but the player can be involved only in the third pattern and there are the data distribution processing (S11) and the selection processing of the data A and data B (S14), so that the player can not purpose the win beyond the upper limit of setting in the distribution and selection processings.
遊技者は停止スイッチ６を操作して当たりを狙えるが、関与できるのが第３図柄だけで、しかもデータ分散処理（Ｓ１１）及びデータＡ、データＢ選択処理（Ｓ１４）があるので、これらの処理における設定を越えては当たりを狙うことはできない。 - 特許庁 - To provide a lamp unit of a vehicle headlight of projection type having a plurality of light source units, in which light distribution pattern formed by light from each light source unit is made to have a clear outline and a nearly uniform brightness or a specific intensity distribution.
複数の光源ユニットを備えたプロジェクタ型の車両用前照灯の灯具ユニットにおいて、その各光源ユニットからの光によって形成される配光パターンを、明瞭な輪郭を有するとともに略均一な明るさあるいは特定の光度分布を有するものとする。 - 特許庁 - The transparent electrode 7c of the liquid crystal panel 7 is composed of a first part electrode part comprising pattern electrodes 40a, 40b, 41a, 41b and 42 which are nearly the same in form as an actual wave front abberation distribution and a second part electrode part comprising pattern electrodes 43 and 44.
液晶パネル７の透明電極７ｃは、実際の波面収差分布と略同一形状となるパターン電極４０ａ、４０ｂ、４１ａ、４１ｂ及び４２からなる第１部分電極部と、パターン電極４３及び４４からなる第２部分電極部とで構成される。 - 特許庁 - The Pockels cell is used to correct polarization of the radiation beam, and the array of individually controllable reflective elements is used to give a pupil plane distribution to the radiation beam, and a patterning device is used to give a pattern to the radiation beam, and a projection system is used to project the radiation beam having had the pattern given thereto, to the substrate.
ポッケルスセルを使用して放射ビームの偏光を修正し、個別的に制御可能な素子のアレイを使用して放射ビームに瞳面分布を与え、パターニングデバイスを使用して放射ビームにパターンを付与し、投影系を使用して、パターンが付与された放射ビームを基板に投影する。 - 特許庁 - Phase shifting is performed while a plurality of emitting parts emit a pattern having sine wave-shaped contrast distribution by using a sine wave grid phase shift method, and a phase value of emitted light is calculated on the basis of a pattern image photographed by a plurality of photographing parts while synchronizing with the phase shifting.
正弦波格子位相シフト法を用いて、複数の照射部より正弦波状の明暗分布を持つパターンを照射しながら位相シフトさせ、その位相シフトに同期させて、複数の撮影部で撮影したパターン画像をもとに照射光の位相値を計算する。 - 特許庁 - Since the current density distribution is coarse on the side formed with the dummy electroforming part and is dense on the opposite side, the rugged pattern is low in height on the incident side and high on the opposite side, therefore, even though the light guide plate thus manufactured has a uniform rugged pattern, it can uniformalize brightness.
ダミー電鋳部が設けられた側は、疎な電流密度分布になり、反対側は、密な電流密度分布になるから、入射光側の凹凸パターンの高さは低くなり、反対側は高くなり、このスタンパで作製される導光板は、凹凸パターンが均一でも、輝度を均一にできる。 - 特許庁 - Then, two sub-regions are configured so that each size and relative positional relation follow uniform distribution, and a pattern of two sub-regions associated with a certain dimension are different from a pattern of two sub-regions associated with at least one other dimension.
また、２つの部分領域は、各々の大きさ、および、相対的な位置関係が一様分布に従うように構成され、ある次元に関連付けられる２つの部分領域のパターンは、他の少なくとも１つの次元に関連付けられる２つの部分領域のパターンと相違する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition or the like which has a nearly uniform sensitivity distribution to exposure light having a wavelength of 400-410 nm, is not affected by variation in exposure wavelength during laser exposure, excels in pattern reproducibility, suppresses variation in pattern profile, and can be handled in a daylight environment.
４００〜４１０ｎｍの波長の露光光に対する感度分布が略一定で、レーザ露光時の露光波長のばらつきによる影響を受けず、パターン再現性に優れ、パターン形状のバラツキが極めて抑制され、明室環境下の取り扱いが可能な感光性組成物などの提供。 - 特許庁 - A microphone 109 of a portable terminal 10 picks up outputted sound signals, the frequency analysis of the sound signals is executed in a sound processing unit 108, and an obtained frequency distribution and the equalization pattern data used in equalization processing are collated to correct the equalization pattern data.
携帯端末１０のマイク１０９は出力された音声信号を拾音して、音声処理部１０８にて音声信号の周波数解析を行い、得られた周波数分布とイコライズ処理で用いたイコライズパターンデータを照らし合わせて、イコライズパターンデータを修正する。 - 特許庁 - Then, when a special symbol 1 classified into a special symbol A-3 is determined, the main CPU determines the variation pattern on the basis of a third variation pattern distribution table T3 including variation patterns P4 and P5 similarly to the case that a special symbol 1 classified into a special symbol C is determined.
そして、特図Ａ−３に分類される特別図柄１が決定された場合には、特図Ｃに分類される特別図柄１が決定された場合と同様に、メインＣＰＵは、変動パターンＰ４，Ｐ５から構成される第３変動パターン振分テーブルＴ３に基づき、変動パターンを決定する。 - 特許庁 - A foreign matter inspection device including analysis means which can measure the pattern width and can acquire the luminance distribution for image data of an alignment mark, and image processing means which enables integration processing, subtraction processing, binarization processing, expansion processing and contraction processing includes processing the image data to make the alignment mark clear, and then pattern-matching the alignment mark.
アライメントマークの画像データのパターン幅計測、輝度分布取得が可能な解析手段と、積算処理、減算処理、２値化処理、膨張処理、収縮処理が可能な画像処理手段を備え、画像データに処理を加えて、アライメントマークを明瞭にした後にパターンマッチングを行うようにする。 - 特許庁 - This pattern recognition device is equipped with: an image acquisition means for acquiring a reflected light image as an intensity distribution of reflected light; and a recognition means for recognizing a predetermined pattern from the reflected light image based on the reflected light image acquired by the image acquisition means and reflectivity of an imaging object.
反射光の強度分布としての反射光画像を取得する画像取得手段と、この画像取得手段で取得された反射光画像と被写体の反射率とに基づき該反射光画像から予め定められたパターンを認識する認識手段とを具備する。 - 特許庁 - A mask shown in (a) is formed with a pattern (black marked portion) not transmitting light in a portion (hereinafter referred to as boundary portion) corresponding to the boundary between the unit microlenses, and has a gray degree distribution corresponding to a shape pattern of an objective microlens array in the other portion.
（ａ）に示されたマスクは、単位マイクロレンズ同士の境界に当たる部分（境界部分と称する）には、光を透過させないパターン（黒塗り部分）が形成され、その他の部分は、目的とするマイクロレンズアレイの形状パターンに対応するグレー度分布を有するマスクである。 - 特許庁 - When producing a mask 7 for correction exposure, first of all, a source pattern region 21 on a wafer 8 and a peripheral rear scattering region 22 thereof are divided into sub-fields 20, sufficiently smaller than the distribution radius of smaller of Gaussian distributions, and the area rate of a non-pattern part in each of sub-fields 20 is calculated.
補正露光用マスク７の作製時には、まず、ウェハ８上の原パターン領域２１及びその周辺の後方散乱領域２２を、ガウス分布の小さい方の分布半径よりも十分小さいサブフィールド２０に区分し、各サブフィールド２０での非パターン部の面積率を算出する。 - 特許庁 - When a special symbol 1 classified into a special symbol A-1 is determined, a main CPU determines a variation pattern on the basis of a first variation pattern distribution table T1 including variation patterns P1 and P2 similarly to the case that a special symbol 1 classified into a special symbol B is determined.
特図Ａ−１に分類される特別図柄１が決定された場合には、特図Ｂに分類される特別図柄１が決定された場合と同様に、メインＣＰＵは、変動パターンＰ１，Ｐ２から構成される第１変動パターン振分テーブルＴ１に基づき、変動パターンを決定する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a photomask for inexpensively manufacturing a mask having a mask pattern having high uniformity of in-plane distribution of sizes by being used in a lithography technology of a half pitch of 65 nm and later and possessing excellent size precision of a minute pattern, and to provide a photomask blanks used for it.
ハーフピッチ６５ｎｍ以降のフォトリソグラフィ技術に用いられ、微小パターンの寸法精度に優れ、かつ寸法の面内分布の均一性が高いマスクパターンを有するマスクを安価に製造するフォトマスクの製造方法、およびそれに用いられるフォトマスクブランクスを提供する。 - 特許庁 - In the environmental accounting support apparatus provided with a distribution coefficient master (2-a), a coefficient pattern master, an environmental cost sorting master, and at least one distribution processing means, element data prepared by an existing accounting system is distributed by the distribution processing means and environmental accounting reports totalized in each environmental sort item and in each item excluding targets are prepared.
配賦係数マスタ(2-a)、係数パターンマスタ、環境コスト分類マスタ、及び少なくとも１段の配賦処理手段とを備えた環境会計支援装置であって、 既存の会計システムで作成された素データを、前記配賦処理手段で配賦処理して、環境分類の項目及び対象外の項目毎に集計された環境会計報告を作成する環境会計支援装置。 - 特許庁 - In an information providing device 10, an importance judgment part 11, when receiving a TV broadcast, checks the frequency intensity distribution of the audio signal for every prescribed time interval, performs a matching of the frequency intensity distribution with a frequency intensity distribution registered beforehand as an important pattern to judge a part where, for example, similarity is larger than a threshold as an important part.
情報提供装置１０において、重要度判断部１１は、ＴＶ放送を受信すると、所定の時間区間毎に音声信号の周波数強度分布を調べ、その周波数強度分布について、重要パターンとして予め登録してある周波数強度分布とのマッチングを行い、例えば類似度が閾値以上である部分を重要部分と判断する。 - 特許庁 - Unevenness of a surface and a gradient of a local curved surface are computed (ST104) from the height distribution data and an imaging position shift of a mask pattern is calculated from the unevenness and gradient, and parameters of an optical system of the exposure device (ST105).
高さ分布データから表面の凹凸と局所的な曲面の勾配を演算し(ST104)、凹凸と勾配と露光装置の光学系のパラメータからマスクパターンの結像位置ずれを算出する(ST105)。 - 特許庁 - A light distribution pattern for foggy weather FP is obtained when a movable shade 6 is positioned at a first position with a driving means 7, and that for significant weather SP when the movable shade is positioned at a second position.
駆動手段７により、可動シェード６を第１位置に位置させると、霧天候用配光パターンＦＰが得られ、可動シェード６を第２位置に位置させると、悪天候用配光パターンＳＰが得られる。 - 特許庁 - To provide an aligner, a manufacturing apparatus of semiconductor devices, a phase shift, and its design method, all of which are capable of suppressing a variation in the line width of a miniaturized pattern by correcting the distribution of light intensity between phase shifters.
位相シフタ間の光強度分布を補正して、微細パターンの線幅の変動を抑制できる露光装置、半導体装置の製造装置、位相シフトマスクおよび設計方法を提供する。 - 特許庁 - Thus, the diffusion light-distribution pattern P1 is obtained by reflecting the light L1 of the semiconductor type light source 7 with a first reflection surface 8 formed by the parabolic-columnar curved surface.
この結果、この発明は、半導体型光源７からの光Ｌ１を放物柱状曲面からなる第１反射面８で反射させることにより、拡散タイプの配光パターンＰ１が得られる。 - 特許庁 - A fitted grid pattern is searched and extracted from a plurality of grid patterns P prepared in a data base on the basis of the printed matter setting data (including distribution of printed and divided pages data) of objective printed matter.
あらかじめデータベース内に準備された複数のグリッドパターンＰの中から、対象印刷物の印刷物設定情報（台割情報を含む）に基づいて、適合するグリッドパターンを検索抽出する。 - 特許庁 - Then, the variation time is shortened and distribution time for each time for distributing the shortened portion of the variation time to the following 10 times of the pattern variation is calculated (S205-S206).
そして、変動時間を短縮するとともに、その変動時間が短縮された分をそれ以降の図柄変動１０回に振り分けるための１回あたりに振分時間を算出する（Ｓ２０５〜Ｓ２０６）。 - 特許庁 - An R (round) surface 20 of R shape is formed in front of an upper end edge 18c of a shade 18 which forms a cut-off line of low-beam light distribution pattern in the vehicle headlight of projector type.
プロジェクタ型の車両用前照灯においてロービーム用の配光パターンのカットオフラインを形成するシェード１８の上端縁１８ｃの前側にＲ形状のＲ面２０を形成する。 - 特許庁 - The light of the LED is reflected to a vehicle front by the mirror 3, and the mirror 3 is reciprocally rotated by the scanning actuator 4, and a light distribution pattern is formed in an illumination area by the periodic motion of the mirror 3.
ＬＥＤの光をミラー３で車両前方に反射させ、ミラー３を走査用アクチュエータ４で往復回動し、ミラー３の周期運動により照明領域に配光パターンを形成する。 - 特許庁 - To fix an image without degradation of image quality even in an overlap area irradiated, a plurality of times, with flash light corresponding to a small-light quantity part in a light distribution pattern out of a recording medium.
記録媒体のうち配光パターン中の低光量部分に相当するフラッシュ光が複数回に分けて照射される重複領域においても、画質の劣化を生じさせることなく定着させる。 - 特許庁 - To avoid large-sizing of a whole vehicular head light 100 and form a light distribution pattern P1 small in a lateral width wP1RL without using a light-emitting element light source 1 small in a right-and-left dimension w1a of a light-emitting face 1a.
発光面1aの左右方向寸法w1aが小さい発光素子光源1を用いる必要なく、車両用前照灯100全体の大型化を回避しつつ、横幅wP1RLが小さい配光パターンP1を形成する。 - 特許庁 - At a periphery of the sub mount substrate 2, a side wall 10 composed of a ring-shaped black absorbing member is provided so as to suppress glare light of a light distribution pattern on the lower side of the LED chip 5-1.
サブマウント基板２の周囲には、LEDチップ５−１の下方側の配光パターンのグレア光を抑制するためにリング状の黒色吸収部材よりなる側壁１０が設けられている。 - 特許庁 - Only the intensities of the surface reflected lights are extracted out of a photoreception quantity data obtained by the one-dimensional CCD 122, and the array pattern of the electrodes 31 is measured based on a distribution state thereof.
この一次元ＣＣＤ１２２により得られた受光量データの中から表面反射光の強度のみを抽出し、その分布状態に基づき電極３１の配列パターンを測定する。 - 特許庁
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