「double layer type」を含む例文一覧(233)

1 2 3 4 5 次へ>
  • DOUBLE LAYER TYPE ELEVATOR
    二層形エレベータ - 特許庁
  • DOUBLE LAYER TYPE COSMETIC
    二層型化粧料 - 特許庁
  • COIN-TYPE ELECTRIC DOUBLE LAYER CAPACITOR
    コイン型電気二重層キャパシタ - 特許庁
  • SHEET TYPE ELECTRIC DOUBLE LAYER CAPACITOR
    シート型電気二重層キャパシタ - 特許庁
  • WINDING-TYPE ELECTRIC DOUBLE-LAYER CAPACITOR
    巻回型電気二重層キャパシタ - 特許庁
  • WOUND TYPE ELECTRIC DOUBLE LAYER CAPACITOR
    捲回型電気二重層キャパシタ - 特許庁
  • COIL-TYPE ELECTRIC DOUBLE LAYER CAPACITOR
    巻回型電気二重層キャパシタ - 特許庁
  • WHOLE SOLID-TYPE ELECTRIC DOUBLE LAYER CONDENSER
    全固体型電気二重層コンデンサー - 特許庁
  • DOUBLE-LAYER TYPE LUNCH BOX MADE OF TITANIUM ALLOY
    チタン合金製2段型弁当箱 - 特許庁
  • LIQUID-LIQUID-BASED DOUBLE LAYER TYPE COSMETIC CONSISTING OF WATER LAYER-OIL LAYER
    水層−油層からなる液−液系の二層型化粧料 - 特許庁
  • To provide a chip-type electric double layer capacitor cell, and to provide a method of manufacturing the chip-type electric double layer capacitor cell.
    本発明はチップ型電気二重層キャパシタセルとその製造方法に関する。 - 特許庁
  • SUBSTRATE TYPE DOUBLE LAYER COIL AND DISPLACEMENT SENSOR APPARATUS
    基板形複層コイル及び変位センサ装置 - 特許庁
  • MANUFACTURING METHOD OF SHEET-TYPE ELECTRIC DOUBLE-LAYER CAPACITOR
    シート型電気二重層キャパシタの製造方法 - 特許庁
  • DOUBLE-LAYER TYPE PRINTED WIRING BOARD AND SEMICONDUCTOR DEVICE
    2層型プリント配線板および半導体装置 - 特許庁
  • DETECTION OBSERVATION METHOD OF ELECTRIC DOUBLE-LAYER TYPE NEUTRINO
    電気二重層型ニュートリノの検出観測法 - 特許庁
  • DOUBLE-LAYER PANEL-TYPE GREENING BLIND, AND GREENING BLIND
    複層パネル型緑化ブラインド、及び緑化ブラインド - 特許庁
  • FUNCTIONALITY DOUBLE LAYER SPRAYING TYPE SURFACE TREATMENT METHOD
    機能性複層型散布式表面処理工法 - 特許庁
  • GEL-LIKE ELECTROLYTE TYPE LAMINATED ELECTRIC DOUBLE LAYER CAPACITOR
    ゲル状電解質型積層電気二重層キャパシタ - 特許庁
  • REGENERATION METHOD OF LIQUID PASSING TYPE ELECTRIC DOUBLE-LAYER CAPACITOR
    通液型電気二重層コンデンサの再生方法 - 特許庁
  • COIN TYPE ELECTRIC DOUBLE LAYER CAPACITOR WITH TERMINAL, AND BATTERY
    端子付きコイン型電気二重層コンデンサおよび電池 - 特許庁
  • To provide a chip-type electric double layer capacitor.
    本発明は、チップ型電気二重層キャパシタに関する。 - 特許庁
  • DOUBLE LAYER TYPE SUPER TWISTED NEMATIC LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
    2層型超捻れネマチック方式液晶表示素子 - 特許庁
  • The chip-type electric double-layer capacitor comprises a means for reducing gaps in chip-type electric double-layer capacitor cells.
    チップ型電気二重層キャパシタセルの空隙を減らす手段を備えてなるチップ型電気二重層キャパシタである。 - 特許庁
  • INTEGRALLY-MOLDED METALLIC PIPE OF SINGLE-LAYER AND DOUBLE-LAYER PLASTIC BUILT-IN TYPE
    単層および復層プラスチック内蔵式一体成型金属製パイプ - 特許庁
  • CARBON BLACK FOR ELECTRODE OF BATTERY OR ELECTRIC DOUBLE LAYER-TYPE CAPACITOR
    電池、電気二重層型キャパシター電極用カーボンブラック - 特許庁
  • A first n-type layer, second n-type layer, third n-type layer, active layer having a multiple quantum well structure, a first p-type layer, second p-type layer, third p-type layer and p-type contact layer are laminated in the order on an n-type contact layer and this light-emitting element has a double heterostructure.
    n型コンタクト層の上に、第一のn型層と、第二のn型層と、第三のn型層と、多重量子井戸構造を有する活性層と、第一のp型層と、第二のp型層と、第三のp型層と、p型コンタクト層とが順に積層され、ダブルへテロ構造を有する。 - 特許庁
  • MANUFACTURING METHOD OF APPLIED TYPE ELECTRODE SHEET OF ELECTRIC DOUBLE LAYER CAPACITOR
    電気二重層キャパシタの塗布型電極シートの製造方法 - 特許庁
  • PROCESS FOR PRODUCING COATING TYPE ELECTRODE SHEET FOR ELECTRIC DOUBLE LAYER CAPACITOR
    電気二重層キャパシタ用塗布型電極シートの製造方法 - 特許庁
  • HIGH-POWER TYPE DOUBLE-LAYER CAPACITOR, ELECTRODE AND MANUFACTURE THEREOF
    ハイパワ—型電気二重層キャパシタ、電極及びその製造方法 - 特許庁
  • The Blaze type or the transmission type diffraction optical element can be applied for an adhesion double layer type phase Fresnel diffraction optical element.
    本発明は、例えば、密着複層型位相フレネル回折光学素子に適用できる。 - 特許庁
  • LOW SELF-DISCHARGE TYPE ELECTRIC DOUBLE LAYER CAPACITOR AND ITS MANUFACTURE
    低自己放電型電気二重層キャパシタ及びその製造方法 - 特許庁
  • A light-emitting layer 1 has a double hetero structure in which an n-type clad layer 2, an adjusting crystal layer 3, an active layer 4, and a p-type clad layer 5 are laminated together.
    発光層部1は、n型クラッド層2、調整結晶層3、活性層4及びp型クラッド層5が互いに積層されたダブルヘテロ構造を有する。 - 特許庁
  • DOUBLE-LAYER PHASE CHANGE TYPE INFORMATION RECORDING MEDIUM AND OPTICAL RECORDING METHOD THEREOF
    2層相変化型情報記録媒体およびその光記録方法 - 特許庁
  • EXTRUSION TYPE COATER FOR SIMULTANEOUSLY FORMING DOUBLE LAYER AND COATING METHOD USING THE SAME
    同時重層用エクストルージョン型コータ及びそれを用いる塗布方法 - 特許庁
  • To obtain a winding-type electric double-layer capacitor that can reduce ESR.
    ESRを低下することができる巻回型電気二重層キャパシタを得る。 - 特許庁
  • METHOD FOR DERIVING BIREFRINGENCE CHARACTERISTIC FOR CLOSE-CONTACT DOUBLE LAYER TYPE DIFFRACTION OPTICAL ELEMENT
    密着複層型回折光学素子の複屈折特性導出方法 - 特許庁
  • The semiconductor light emitting element also includes an n-type clad layer 13 on the light emission layer 12 and an ohmic contact layer 14 on the n-type clad layer 13, and hence has a double-hetero structure.
    発光層12の上にn型クラッド層13と、n型クラッド層13上にオーミックコンタクト層14を備え、ダブルヘテロ構造を構成している。 - 特許庁
  • The section 1 has the double heterostructure, constituted by laminating a p-type clad layer 8, the active layer 4, and an n-type clad layer 7 on another.
    該発光層部1は、p型クラッド層8、活性層4及びn型クラッド層7が互いに積層されたダブルヘテロ構造を有する。 - 特許庁
  • The thicknesses of the A-layer and the B-layer, the concentration of rutile type titanium oxide and the double refractive indexes of the A-layer, and the B-layer satisfy a specific relation.
    A層とB層の厚み、ルチル型酸化チタン濃度およびA層とB層の複屈折率が特定の関係を満たす。 - 特許庁
  • The first belt type portions 41, 44 and the belt type portion 61 form a double-layer structure with each other sandwiching the insulation layer.
    第1帯状部41,44と帯状部分61とは、絶縁層を挟んで互いに二層構造をなしている。 - 特許庁
  • This semiconductor laser 10 has a double-heterojunction multiplayer structure of a 1st buffer layer 14, a 2nd buffer layer 16, an n-type clad layer 18, an active layer/guide layer 20, a p-type clad layer 22, and a p-type cap layer 24 on a substrate 12.
    本半導体レーザ素子10は、基板12上に、第1バッファ層14、第2バッファ層16、n型クラッド層18、活性層/ガイド層20、p型クラッド層22、及びp型キャップ層24のダブルヘテロ接合積層構造を備える。 - 特許庁
  • Further, the build-up type multilayer printed wiring board includes a build-up layer laminated on the double-sided core substrate 16.
    さらに、両面コア基板16の上に積層されたビルドアップ層を備える。 - 特許庁
  • To improve productivity of a large capacitance organic electrolyte type electric double-layer capacitor.
    有機電解液系大容量電気二重層コンデンサの生産性向上を図る。 - 特許庁
  • The GaN compound semiconductor is constituted in a double heterostructure by successively laminating an n-type AlGaN layer 12, an undoped AlGaN layer 16, and a p-type AlGaN layer 18 upon a substrate 10.
    基板10上にn型AlGaN層12、アンドープAlGaN層16、p型AlGaN層18を積層してダブルヘテロ構造とする。 - 特許庁
  • An n-type nitride semiconductor layer 2 and a p-type nitride semiconductor layer 4 are formed while sandwiching the active layer 3 in a double hetero structure.
    活性層3を挟むようにしてn型窒化物半導体層2とp型窒化物半導体層4が形成されており、ダブルへテロ構造を有する。 - 特許庁
  • To provide a chip-type electric double layer capacitor to which surface mounting technique is applicable.
    表面実装技術を適用可能なチップ形の電気二重層キャパシタを提供する。 - 特許庁
  • THERMAL EXPANSION BLOCKAGE PROMOTION TYPE FIRE RESISTANT DOUBLE-LAYER PIPE JOINT AND THERMAL EXPANSION AGENT HOUSING DEVICE
    熱膨張閉塞促進型耐火二層管継手及び熱膨張剤収容装置 - 特許庁
  • In addition, the semiconductor laser device is provided with the same double hetero-junction structure, a second p-type clad layer, a p-type contact layer, and a p-side electrode, and the cleavage end face of the double hetero-junction structure has a disordered layer structure.
    または、同様のダブルヘテロ接合構造、第2のp型クラッド層、p型コンタクト層と、p側電極を具備し、ダブルへテロ接合構造のへき開端面が、無秩序化された層構造である。 - 特許庁
  • To measure an offset among a plurality of recording layers in a multilayer type or double layer type information recording medium.
    多層型又は二層型の情報記録媒体における複数の記録層間のオフセット量を測定する。 - 特許庁
  • An n-type oxide layer 2, a barrier layer 3, and a p-type oxide layer 4 are laminated in order on an insulated substrate 1 such as glass, a metal electrode 5 of double-layer structure is formed on the p-type oxide layer 4, and a metal electrode 6 is formed on the n-type oxide layer 2.
    ガラス等の絶縁性基板1上にn型酸化物層2、バリア層3、p型酸化物層4が順に積層され、p型酸化物層4上には2層構造の金属電極5が、n型酸化物層2上には金属電極6が形成されている。 - 特許庁
1 2 3 4 5 次へ>

例文データの著作権について

  • 特許庁
    Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.