PATTERNDRAWING METHOD, PATTERNDRAWING DEVICE, DATA PROCESSING DEVICE AND DATA PROCESSING METHOD パターン描画方法、パターン描画装置、データ処理装置およびデータ処理方法 - 特許庁
This results in the improved patterndrawing efficiency of the patterndrawing device. その結果、パターン描画装置1におけるパターンの描画効率が向上される。 - 特許庁
POSITION DETECTION METHOD, PATTERNDRAWING METHOD, PATTERNDRAWING APPARATUS, AND COMPUTER PROGRAM 位置検出方法、パターン描画方法、パターン描画装置およびコンピュータプログラム - 特許庁
PATTERNDRAWING CORRECTION METHOD, PATTERNDRAWING APPARATUS, METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK, AND PHOTOMASK パターン描画補正方法、パターン描画装置、フォトマスク製造方法、及びフォトマスク - 特許庁
DATA MANAGEMENT DEVICE AND PATTERNDRAWING SYSTEM データ管理装置およびパターン描画システム - 特許庁
OPTICAL UNIT ARRAY AND PATTERNDRAWING APPARATUS 光学ユニットアレイおよびパターン描画装置 - 特許庁
PATTERNDRAWING METHOD AND APPARATUS パターン描画方法、及びパターン描画装置 - 特許庁
METHOD FOR DRAWING FINE PATTERN ON DENIM CLOTH デニム地への繊細模様描出方法 - 特許庁
METHOD FOR DRAWINGPATTERN IN AUTOMATIC MOLDING MACHINE FOR GREEN SAND MOLD AND PATTERNDRAWING DEVICE USED FOR THIS METHOD 生型用自動造型機における抜型方法と該方法に用いる抜型装置 - 特許庁
DRAWINGPATTERN MULTIPLEXING APPARATUS, AND DRAWINGPATTERN MULTIPLEXING METHOD, PROGRAM AND ANISOTROPIC REFLECTING MEDIUM 図柄多重化装置、図柄多重化方法、プログラムおよび異方性反射媒体 - 特許庁
The pattern is formed on the photomask according to the drawingpattern. 描画パターンに従ってフォトマスク上にパターンを形成する。 - 特許庁
To enable starting drawing in a short time with stable execution, in regard to patterndrawing on a drawing object while making a drawingpattern coincident with an underlying pattern. 描画パターンを下地パターンに一致させながら描画対象物に描画するパターン描画を短時間で開始することができ、しかも安定して実行する。 - 特許庁
PATTERNDRAWING DEVICE AND POSITION CONTROL METHOD パターン描画装置および位置制御方法 - 特許庁
METHOD OF DRAWING ULTRA-FINE PATTERN WITH HIGH ACCURACY 極微細パターンの高精度描画方法 - 特許庁
STAGE MOVING DEVICE AND PATTERNDRAWING DEVICE ステージ移動装置およびパターン描画装置 - 特許庁
DEVICE AND METHOD FOR PATTERNDRAWING パターン描画装置およびパターン描画方法 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR PATTERNDRAWING パターン描画方法、及びパターン描画装置 - 特許庁
PATTERNDRAWING APPARATUS AND IMAGE FORMING APPARATUS パターン描画装置および画像形成装置 - 特許庁
the act of drawing V-shaped pleats on a paper dress pattern 型紙にV字形のひだを入れること - EDR日英対訳辞書
LIQUID DROP DISCHARGING APPARATUS, DRAWINGPATTERN GENERATING METHOD, DRAWINGPATTERN GENERATING PROGRAM, AND ELECTRONIC EQUIPMENT 液滴吐出装置、描画パターン作製方法、描画パターン作製プログラムおよび電子機器 - 特許庁
FINE PATTERNDRAWING MATERIAL, DRAWING METHOD USING THE SAME AND FINE PATTERN FORMING METHOD 微細パターン描画材料、それを用いた描画方法及び微細パターン形成方法 - 特許庁
To improve the quality of drawing by smoothly drawing a pattern edge. パターンのエッジを滑らかに描画して、描画品質を向上させる。 - 特許庁
FINE-PATTERN DRAWING METHOD AND ITS APPARATUS 微細パターンの描画方法およびその装置 - 特許庁
A dimension bias is entered to a drawingpattern. 描画パタンに対して、寸法バイアスを入れる。 - 特許庁
Drawing data is generated which includes work drawing data for drawing on a work W and inspection drawing data for drawing an inspection pattern on a drawing sheet 55. ワークWに描画するためのワーク描画データと、描画シート55に検査パターンを描画するための検査描画データとを含んだ描画データを生成する。 - 特許庁
Drawing data including work drawing data for performing drawing on the work W and inspection drawing data for drawing an inspection pattern on a drawing sheet 55 are produced. ワークWに描画するためのワーク描画データと、描画シート55に検査パターンを描画するための検査描画データとを含んだ描画データを生成する。 - 特許庁
PATTERNDRAWING METHOD AND DROPLET EJECTION APPARATUS パターンの描画方法及び液滴吐出装置 - 特許庁
A pattern such as the figure, the size of the pattern, a drawing area and others are set as the drawing information. 描画情報としては、図形等の絵柄、絵柄の大きさ、描画領域などが設定される。 - 特許庁
CHENILLE YARN FOR DRAWING ONLY PATTERN PORTION AND WOVEN FABRIC 柄部のみを描出するシェニール糸と織物 - 特許庁
The drawingpattern is formed matching the pattern data by using the selected photomask drawing device. 選択されたフォトマスク描画装置を用いてパターンデータに従った描画パターンを形成する。 - 特許庁
To draw a drawingpattern on a base pattern with high precision. 下地パターンに対して描画パターンを高精度に重ねて描画する。 - 特許庁
To provide a drawing method and a drawing device with improved drawing accuracy on an edge part of a pattern. パターンの縁部の描画精度が向上された描画方法および描画装置を提供する。 - 特許庁
To provide a patterndrawing method, a pattern data generation method, and a patterndrawing apparatus capable of highly accurately and adjusting a drawing position of a drawing block by conforming a drawingpattern to a foundation pattern to draw on the object to be drawn. 描画ブロックの描画位置を高精度に調整して描画パターンを下地パターンに一致させながら描画対象物に描画することができるパターン描画方法、描画データ生成方法、ならびにパターン描画装置を提供する。 - 特許庁
A pattern data processing section divides pattern data according to predetermined drawingpattern to produce divided pattern data. パターンデータ処理部は、所定の描画パターンに応じたパターンデータを分割し、分割パターンデータを生成する。 - 特許庁
PATTERN-DRAWING METHOD, MASK, AND MASK MANUFACTURING METHOD パターン描画方法、マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁
To provide a line drawing method which prevents an end part from thickening when drawing a line pattern. 線状パターンを描画する際に、端部が太くなることを防止する。 - 特許庁
To provide a verification method of an image drawingpattern capable of verifying the image drawingpattern even during image drawing, and to provide an electron-beam writing apparatus. 描画中でも描画パターンの検証が可能な描画パターンの検証方法および電子線描画装置を得る。 - 特許庁
Also, the patterndrawing can be executed stably, because a time required for drawing each division pattern is substantially identical, irrespective of drawingpattern contents. また、各分割パターンを描画するための時間も、描画パターンの内容にかかわらず、ほぼ同一であり、パターン描画を安定して実行することができる。 - 特許庁
In a patterndrawing apparatus 1, an information pattern representing the drawing information is generated by an information pattern generating unit 511, and an expanded drawingpattern is generated by a drawing data generating unit 512 where the information pattern is added to a wiring pattern. パターン描画装置1では、情報パターン生成部511により描画関連情報を示す情報パターンが生成され、描画データ生成部512により配線パターンに情報パターンが追加されて拡張描画パターンが生成される。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN DATA AND METHOD FOR DRAWING PHOTOMASK WITH ADDITIVE PATTERN パタンデータの作成方法および付加パタン付きフォトマスクの描画方法 - 特許庁
DRAWING METHOD OF CONDUCTIVE WIRE PATTERN BY LASER SCANNING レーザ走査による導電線パターンの描画方法 - 特許庁
DRAWING OF FIGURE FOR DART TREATMENT USING BASIC PATTERN OF CLOTHES 衣服の原型を用いたダーツ処理作図方法 - 特許庁
METHOD FOR DRAWINGPATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK パターン描画方法及びフォトマスクの製造方法 - 特許庁
A dummy pattern is drawn using a drawing machine. その後、描画機を用いて、ダミーパターンを描画する。 - 特許庁
AUXILIARY TOOL FOR DRAWING FIGURE MODELLING AFTER PAPER PATTERN 型紙をもとに倣い図形を描くための補助具 - 特許庁
Therefore, the patterndrawing device 1 is capable of drawing a pattern at an accurate position on the substrate 9. したがって、パターン描画装置1は、基板9上の正確な位置に描画を行うことができる。 - 特許庁
To provide a patterndrawing device, for efficiently drawing a pattern in a small hardware scale. 少ないハードウェア規模で効率よく図形描画処理を実行することのできる図形描画装置を得る。 - 特許庁
The drawingpattern multiplexing apparatus 1 forms cell group for each drawingpattern by a cell group forming means 23. 図柄多重化装置1は、セルグループ形成手段23によって、図柄ごとにセルグループを形成する。 - 特許庁