「electron beam processor」に関連した英語例文の一覧と使い方

例文

「electron beam processor」を含む例文一覧(9)

ELECTRON BEAM IRRADIATION WINDOW OF ELECTRON BEAM IRRADIATION TYPE EXHAUST GAS PROCESSOR
電子線照射式排ガス処理装置の電子線照射窓 - 特許庁
WINDOW FOIL COOLING DEVICE OF ELECTRON BEAM EXHAUST GAS PROCESSOR
電子ビーム排ガス処理装置の窓箔冷却装置 - 特許庁
MOVING BODY, LINEAR MOTOR, WAFER STAGE, STAGE UNIT, AND ELECTRON BEAM PROCESSOR
移動体、リニアモータ、ウェハステージ、ステージ装置、電子ビーム処理装置 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR DETECTING END POINT OF ELECTRON BEAM PROCESSOR
電子ビーム加工機の終点検出方法とその機能を備えた装置 - 特許庁
An exposure processor 315 uses the block tray mask 307 to expose a wafer 309 by electron beam.
露光処理部３１５では、ブロックトレイマスク３０７を用いて、ウェハ３０９に電子ビームを露光する。 - 特許庁
PLOTTING SYSTEM, INFORMATION PROCESSOR, ELECTRON BEAM PLOTTING DEVICE, INSPECTION METHOD FOR BASE MATERIAL, PROGRAM FOR EXECUTING THE METHOD, RECORDING MEDIUM HAVING PROGRAM RECORDED THEREON, PLOTTING METHOD AND MANUFACTURING METHOD FOR BASE MATERIAL
描画システム、情報処理装置、電子ビーム描画装置、基材の検査方法、その方法を実行するためのプログラム、プログラムを記録した記録媒体、描画方法、及び基材の製造方法 - 特許庁
In this defect checking device, first an electron beam is applied to the wafer having the mirror polished surface to obtain image data, and the image data is stored in a first area of a first storing part 20 of an image data processor 12.
欠陥検査装置において、まず、鏡面研磨面のウエハに電子ビームを照射して画像データを得、画像データ処理装置１２の第１記憶部２０の第１領域に記憶する。 - 特許庁
When the electron beam is deflected by the output from the original signal generator 101, a fixed Lissajous pattern is obtained on the fluorescent face 113, and the UWB pulse signal is sensed a CCD image analytical processor 120.
原信号発生器１０１の出力で電子ビームを偏向すると、蛍光面１１３に一定のリサージュパターンが得られ、UWBパルス信号のセンシングをＣＣＤ画像解析プロセッサ１２０で行うことができる。 - 特許庁
To provide a plotting system capable of identifying normal/defective products of a base material caused by the errors of plotting due to vibrations, and to provide an information processor, an electron beam plotting device, an inspection method for the base material, a program for executing the method, a recording medium having the program recorded thereon, a plotting method and a manufacturing method for the base material.
本発明は、振動に起因する描画の誤差による基材の良品不良製品を識別することの可能な描画システム、情報処理装置、電子ビーム描画装置、基材の検査方法、その方法を実行するためのプログラム、プログラムを記録した記録媒体、描画方法、及び基材の製造方法を提供する。 - 特許庁

「electron beam processor」を含む例文一覧(9)

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