「electron optics」を含む例文一覧(25)
- This system has an electron optics irradiation system.
このシステムは、電子光学的照射システムを有している。 - 特許庁 - Readers require knowledge of electron optics on a broad front.
読者は、幅広い分野の電子光学の知識を必要とする。 - 科学技術論文動詞集 - In the last decade, electron optics has progressed considerably.
最近10年の間に、電子光学は注目に値するほど進歩した。 - 科学技術論文動詞集 - The electron optics of a triode electron gun is reviewed in the following reference.
三極管による電子銃の電子光学は、次の参考文献で概観されている。 - 科学技術論文動詞集 - MANUFACTURING METHOD OF SUBSTRATE, IN PARTICULAR, SUBSTRATE FOR OPTICS, ELECTRONICS OR ELECTRON OPTICS, AND SUBSTRATE OBTAINED BY THE METHOD
基板、特に光学、電子工学または電子光学用基板の製造方法、およびこの製造方法により得られる基板 - 特許庁 - Additionally, the drive shaft of a stage mechanism 70 is set vertical to the axis of the ion-optics system and the axis of the electron-optics system as well.
更に、ステージ機構７０の駆動軸もイオン光学系の軸と電子光学系の軸に垂直にした。 - 特許庁 - A reader who requires knowledge of electron optics on a broad front should consult the following references.
幅広い分野の電子光学の知識を必要とする読者は、以下の参考文献を調べるべきである。 - 科学技術論文動詞集 - The reader is assumed to be familiar with the basic principles of electron optics and of the design of the instrument.
読者は、電子光学の基本的な原理と装置の設計に精通していることを前提とする。 - 科学技術論文動詞集 - In order to observe a worked cross section being worked by an FIB, the axis of the electron optics system of a scanning electron microscope(SEM) 40 is set vertical to the axis of the ion-optics system of an FIB device 20.
ＦＩＢで加工中の加工断面を観察するために、ＦＩＢ装置２０のイオン光学系の軸に対しＳＥＭ４０の電子光学系の軸を垂直にした。 - 特許庁 - Further, either a TV camera 28 or 31 is selected and aligned on the light axis with an electron optics system maintained in a mode of a scanning transmission electron microscope.
更に、電子光学系を走査透過電子顕微鏡モードに維持した状態で、ＴＶカメラ２８か３１が選択されて光軸上に配置される。 - 特許庁 - Further, this is concerned with an electron optics lithography, which is applicable to even the projection and electron-beam writing method.
さらに、本発明は投射リソグラフィーにも電子線書き込み方法にも適用可能な電子光学的リソグラフィーシステムに関する。 - 特許庁 - To provide an electron beam exposure system, equipped with an electron optics system with a short-length optical lens tube and with little geometrical aberrations.
光学鏡筒の長さが短く、幾何収差の小さい電子光学系を備えた電子線露光装置を提供する。 - 特許庁 - Based on the above measurements, calibration factors on the optics system for each sub-field 66 are set, and the calibrations on the electron optics system (for example, deflection position error, image magnification, image rotation, etc.), are conducted.
上記の測定に基づいて、各サブフィールド６６における光学系補正係数を設定し、電子光学系の較正（例えば、偏向位置誤差、像倍率、像回転等）を行う。 - 特許庁 - The fundamental principles of optics govern the design and operation of both the light and electron microscopes.
光学の根本をなす原理は、光学顕微鏡および電子顕微鏡の両方の設計と操作を支配する。 - 科学技術論文動詞集 - A baseplate 4 mounted with an electron optics lens barrel 1 is placed on a stand 5 via vibration control mounts 10A, 10B, 10C and 10D, and the stand 5 is installed on a floor 6.
電子光学鏡筒１を搭載したベースプレート４を、防振マウント１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄを介して架台５上に載せ、架台５を床６上に設置する。 - 特許庁 - To provide an electron beam equipment which prevents dielectric breakdown between electrodes of an electron optics system, especially that in multiple beams, and a device manufacturing method using the electron beam equipment.
電子光学系、特に、マルチビームでの電子光学系の電極間の絶縁破壊を防止した電子線装置と、この電子線装置を用いたデバイス製造方法を得る。 - 特許庁 - The electron optics irradiation system is able to selectively irradiate a relatively large field in the mask surface (8), focus an electron beam on the mask surface (8), or shape it into a desired electron-beam profile.
電子光学的照射システムにより、選択的に、マスク面（８）内の比較的大きなフィールドが照射可能であるか、又は、電子線をマスク面（８）に合焦可能か、或いは、所望の電子線プロフィールに整形可能である。 - 特許庁 - An auxiliary electronic irradiation device 15, that radiates an electron beam directed toward the sample is provided at an inclination of θ degrees with respect to an optical axis O1 of an electron optics system, to which a primary electron beam EB is radiated.
試料に向けて電子ビームを照射する補助電子照射器１５が一次電子ビームＥＢが照射される電子光学系の光軸Ｏ１に対して角度θ傾けられて設けられている。 - 特許庁 - To enable efficient long observation without readjusting an electron gun and an electron optics system in a magnetic field immersion type Cold-FE electron gun.
磁場界浸型Cold-FE電子銃において、長時間の観察においても電子銃や電子光学系の再調整の必要が無く、効率のよい観察を可能とする。 - 特許庁 - The electron beam device comprising a plurality of electron guns EG1, EG2, ..., having the anode 10 and the cathode 11, and electron optics system OS1, OS2, ..., mounted on respective electron guns has an adjusting mechanism for shifting the relative position of the cathode 10 against the anode 11.
カソード１及びアノード１０、１１を有する複数の電子銃ＥＧ１、ＥＧ２、・・と、各電子銃に設けられた電子光学系ＯＳ１、ＯＳ２、・・とを備えた電子線装置は、各電子銃においてカソード１とアノード１０、１１との間の相対位置を変化させるための調整機構を具備する。 - 特許庁 - This reflection-type charged particle beam lithography system is equipped with an electron optics system, where electrons reflected from a mask 217 are bent by an angle of 180° with a projection optics system 216 to be projected onto the surface of a example 219 as reduced in size, a mask stage 218 and an example table stage 220 are kept horizontal in position and prevented from deteriorating in traveling accuracy.
マスク２１７から反射して得られた電子を投影光学系２１６で１８０度曲げて試料２１９面に縮小投影させる電子光学系を実現し、マスクステージ２１８と試料台ステージ２２０を水平にして双方の走行精度を劣化させないようにする。 - 特許庁 - To provide an electron beam irradiation device and its method preventing drop in vacuum in the mounting/demounting of an irradiation object without enlarging a rotating table by arranging an exhaust block at the end of an electron optics lens barrel in the electron beam irradiation device with the rotating table.
回転台を備えた電子線照射装置において、電子光学鏡筒の端部に排気ブロックを配置するとともに、回転台を大きくすることなく、被照射体の着脱作業時の真空劣化を防止することができる電子線照射装置および方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - Then, the deflection center of the electron optics system is positioned at the center of the group of the sub-fields 66-21 to 66-40, by moving the reticle stage and the wafer stage.
次に、電子光学系の偏向中心がサブフィールド群６６−２１〜６６−４０の中央に位置するように、レチクルステージ及びウェハステージを移動させる。 - 特許庁 - To increase the number of openings which can be selected without changing a size of a region of the opening which can be selected in electron optics and reducing an effective drawing speed, and enhance throughput.
電子光学的に選択可能な開口の領域の大きさを変えずに、かつ、実効的な描画速度を落とすことなく選択可能な開口数を増大させ、スループットを向上させる。 - 特許庁 - In conducting calibration of the beam, the deflection center of the electron optics system is positioned at the center of the group of sub- fields 66-1 to 66-20, the sub-fields 66-1 to 66-20 are sequentially scanned by the beam, and the beam property is measured at each position.
ビームの較正を行う際には、まず、電子光学系の偏向中心をサブフィールド群６６−１〜６６−２０の中央に位置させ、サブフィールド６６−１〜６６−２０に順次ビーム走査し、各位置においてビーム性状の測定を行う。 - 特許庁
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