「electron-beam lithography system」を含む例文一覧(113)
1 2 3 次へ＞- ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
電子線描画システム - 特許庁 - ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
電子ビーム描画装置 - 特許庁 - ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD
電子ビーム描画装置、および電子ビーム描画方法 - 特許庁 - ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, AND METHOD OF LITHOGRAPHY
電子線描画装置，電子線描画システム、および描画方法 - 特許庁 - ELECTRON GUN, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD
電子銃、電子ビーム描画装置、及び電子ビーム描画方法 - 特許庁 - ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
電子ビ—ムリソグラフィシステム - 特許庁 - ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
電子ビーム・リソグラフィ・システム - 特許庁 - ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD
電子ビーム描画装置及び方法 - 特許庁 - METHOD FOR DIAGNOSING ELECTRON BEAM DRIFT AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
電子ビームドリフト診断方法、電子ビーム露光装置 - 特許庁 - LITHOGRAPHY METHOD OF SUBSTRATE, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
基材の描画方法、及び電子ビーム描画装置 - 特許庁 - ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND ELECTRON MICROSCOPE
電子線描画装置および電子顕微鏡 - 特許庁 - ELECTRON GUN FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
電子ビーム描画装置用電子銃 - 特許庁 - ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, ELECTRON BEAM DEFLECTION CORRECTING METHOD, AND STANDARD SUBSTRATE
電子ビーム露光装置、電子ビーム偏向校正方法、及び基準基板 - 特許庁 - ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD OF DRAWING USING ELECTRON BEAM
電子線描画装置および電子線を用いた描画方法 - 特許庁 - ELECTRON BEAM IRRADIATION DEVICE, IRRADIATION METHOD, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
電子線照射装置と照射方法および電子線描画装置 - 特許庁 - ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, METHOD OF ADJUSTING THE SAME, AND METHOD OF ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY
電子ビーム描画装置、電子ビーム描画装置の調整方法及び電子ビーム描画方法 - 特許庁 - DRAWING DATA PROCESSING SYSTEM FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
電子ビーム描画装置における描画データ処理方式 - 特許庁 - LASER LENGTH-MEASURING SYSTEM FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
電子ビーム描画装置のレーザ測長システム - 特許庁 - ELECTRON BEAM EMISSION SOURCE, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRON BEAM EMISSION SOURCE AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
電子線放出源、電子線放出源の製造方法および電子線描画装置 - 特許庁 - METHOD FOR ALIGNING ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
電子ビームリソグラフィ装置のアレイメント方法 - 特許庁 - VARIABLE AREA ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
可変面積型電子ビーム描画装置 - 特許庁 - ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND DEFLECTOR THEREIN
電子線描画装置用偏向器及び電子線描画装置 - 特許庁 - ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND MANUFACTURING METHOD OF PRINCIPAL PART THEREOF
電子線描画装置およびその要部の製造方法 - 特許庁 - SYSTEM AND METHOD OF ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY
電子線描画装置及び電子線描画方法 - 特許庁 - ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD THEREFOR
電子ビーム描画装置および描画方法 - 特許庁 - METHOD AND SYSTEM FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY
電子線描画方法及び電子線描画装置 - 特許庁 - METHOD AND SYSTEM FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY
電子線描画方法および電子線描画装置 - 特許庁 - STAGE DEVICE AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM USING THE SAME
ステージ装置及びこれを用いた電子ビーム描画装置 - 特許庁 - ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND INFORMATION RECORDING MEDIUM
電子線描画装置及び情報記録媒体 - 特許庁 - ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD OF DIAGNOSING WRITING DATA
電子ビーム描画装置および描画データの診断方法 - 特許庁 - CURRENT MEASURING METHOD OF ELECTRON BEAM IN VARIABLE AREA ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND VARIABLE AREA ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
可変面積型電子ビーム描画装置における電子ビームの電流測定方法および可変面積型電子ビーム描画装置 - 特許庁 - ELECTRON GUN, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM USING THE SAME
電子銃及びその電子銃を用いた電子ビーム描画装置 - 特許庁 - ELECTRON EMISSION ELEMENT, IMAGE-FORMING DEVICE AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
電子放出素子および画像形成装置および電子線描画装置 - 特許庁 - To provide an electron beam lithography technology which is capable of making a drawing with high dimensional accuracy in an electron beam lithography system that uses a variably shaped beam.
可変成形電子ビームを用いる描画装置において、高い寸法精度での描画を行うことが出来る電子線描画技術を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR CALIBRATING IRRADIATION TIME OF ELECTRON BEAM IN VARIABLE AREA ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
可変面積型電子ビーム描画装置における電子ビームの照射時間校正方法 - 特許庁 - ELECTRON BEAM PROJECTION LITHOGRAPHY SYSTEM HAVING PLURAL OPENINGS
複数の開口を持つ電子ビーム投影リソグラフィシステム - 特許庁 - TARGET MARK MEMBER, WAFER STAGE, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
ターゲットマーク部材、ウェハステージおよび電子ビーム露光装置 - 特許庁 - METHOD FOR PROCESSING GRAPHIC DATA WITH HIGHER ACCURACY FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
電子ビーム描画装置用の図形データの高精度化処理方法 - 特許庁 - METHOD AND SYSTEM FOR ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY
電子線リソグラフィー方法および電子光学的リソグラフィーシステム - 特許庁 - ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, METHOD THEREOF, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND MASK
電子ビーム露光装置、電子ビーム露光方法、素子製造方法、及びマスク - 特許庁 - ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE, SUBSTRATE, MOLD FOR FORMING SUBSTRATE, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
電子ビーム描画方法、基材の製造方法、基材、その基材を形成するための金型、及び電子ビーム描画装置 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR GENERATING PATTERN DATA FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
電子線描画描画用パターンデータ作成方法、電子線描画用パターンデータ作成装置および電子線描画装置 - 特許庁 - ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, BEAM PATTERN LIMITING APERTURE, AND DESIGN METHOD THEREOF
電子ビーム描画装置並びにビームパターン限定アパーチャ及びその設計方法 - 特許庁 - To provide an electron beam lithography system which confirms a state of electron beams in a lithography region in real time before lithographing work.
描画領域の電子線の状態を、描画前にリアルタイムで確認することができる電子線描画装置を提供する。 - 特許庁 - MANUFACTURING SYSTEM OF THICK FILM/THIN FILM HYBRID MULTILAYER WIRING BOARD AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
厚膜薄膜混成多層配線基板の製造システムおよび電子線描画装置 - 特許庁 - To provide a conditioning method for an electron gun capable of effectively suppressing an abnormal discharge of the electron gun, and provide an electron beam lithography system.
電子銃の異常放電を効果的に抑制することのできる電子銃のコンディショニング方法および電子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁 - ELECTRON BEAM LITHOGRAPHIC DATA PROCESSING METHOD, STORAGE MEDIUM STORING LITHOGRAPHIC DATA PROCESSING PROGRAM, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
電子線描画データ加工方法および描画データ加工プログラムを記録した記録媒体、ならびに電子線描画装置 - 特許庁 - To provide a diagnosis method for identifying the amount of drift of the electron beam and its cause in an electron beam lithography system.
電子ビーム露光装置において、電子ビームドリフト量と要因を特定する診断方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a deflector in an electron beam lithography system which can increase the electron beam control accuracy by suppressing crosstalks.
本発明は、クロストークの発生を抑え、電子線制御精度を向上させることが可能な電子線描画装置用偏向器を提供する。 - 特許庁 - METHOD AND SYSTEM FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY, AND METHOD FOR FABRICATING PHOTOMASK
電子ビーム描画方法、フォトマスク製作方法および電子ビーム描画装置 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
