「electron-beam processing」を含む例文一覧(194)
1 2 3 4 次へ＞- ELECTRON BEAM PROCESSING MACHINE
電子ビーム加工機 - 特許庁 - ELECTRON BEAM PROCESSING DEVICE
電子線処理装置 - 特許庁 - ELECTRON BEAM PROCESSING APPARATUS
電子ビーム処理装置 - 特許庁 - ELECTRON BEAM PROCESSING METHOD
電子ビーム加工方法 - 特許庁 - ELECTRON BEAM FINE PROCESSING DEVICE
電子線微細加工装置 - 特許庁 - ELECTRON BEAM IRRADIATION PROCESSING DEVICE
電子線照射処理装置 - 特許庁 - ALIGNER USING ELECTRON BEAM AND PROCESSING DEVICE USING THE ELECTRON BEAM
電子ビーム露光装置及び電子ビーム処理装置 - 特許庁 - IRRADIATION PROCESSING METHOD OF ELECTRON BEAM
電子線照射処理方法 - 特許庁 - ELECTRON BEAM AMOUNT DETECTOR AND ELECTRON BEAM IRRADIATION PROCESSING APPARATUS
電子線量検出器および電子線照射処理装置 - 特許庁 - ELECTRON GUN AND ELECTRON BEAM IRRADIATION PROCESSING DEVICE
電子銃および電子ビーム照射処理装置 - 特許庁 - ELECTRON BEAM TESTER AND IMAGE-PROCESSING DEVICE
電子ビームテスタ及び画像処理装置 - 特許庁 - ELECTRON BEAM DEVICE, DATA PROCESSING DEVICE FOR ELECTRON BEAM DEVICE, AND METHOD OF PRODUCING STEREO SCOPIC DATA OF ELECTRON BEAM DEVICE
電子線装置、電子線装置用データ処理装置、電子線装置のステレオデータ作成方法 - 特許庁 - ALIGNER USING ELECTRON BEAM AND PROCESSING DEVICE USING THE ELECTRONIC BEAM
電子ビーム露光装置及び電子ビーム処理装置 - 特許庁 - CHAMBER EQUIPMENT FOR ELECTRON BEAM PROCESSING DEVICE
電子ビーム処理装置用のチャンバー設備 - 特許庁 - IMAGE PROCESSING APPARATUS AND ELECTRON BEAM DEVICE
画像処理装置および電子ビーム装置 - 特許庁 - ELECTRON BEAM APPARATUS, ELECTRON BEAM SHAPE MEASURING METHOD AND IMAGE PROCESSING METHOD
電子線装置、電子線形状測定方法及び画像処理方法 - 特許庁 - DATA PROCESSING DEVICE FOR ELECTRON BEAM DEVICE AND METHOD OF STEREOSCOPIC MEASUREMENT OF ELECTRON BEAM DEVICE
電子線装置用データ処理装置、電子線装置のステレオ測定方法 - 特許庁 - ELECTRON GUN, ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE, AND DEGASSING PROCESSING METHOD FOR ELECTRON GUN
電子銃、電子ビーム描画装置および電子銃の脱ガス処理方法 - 特許庁 - POSITION COMPENSATION DEVICE AND ELECTRON BEAM PROCESSING DEVICE
位置補正装置及び電子ビーム加工装置 - 特許庁 - METHOD FOR PROCESSING DATA FOR PATTERN IN-BATCH CELL PROJECTION TO ELECTRON BEAM AND METHOD FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE
図形一括電子線露光用データ処理方法及び電子線露光方法 - 特許庁 - ELECTRON BEAM PROCESSING DEVICE, CONTROL METHOD, AND PROGRAM
電子ビーム加工装置、制御方法及びプログラム - 特許庁 - GRAPHIC DATA PROCESSING METHOD FOR FORMING BEAM-TYPE ELECTRON BEAM IRRADIATION APPARATUS
成形ビーム型電子ビーム照射装置用の図形データ処理方法 - 特許庁 - DRAWING DATA PROCESSING SYSTEM FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
電子ビーム描画装置における描画データ処理方式 - 特許庁 - DATA PROCESSING METHOD FOR PATTERN ONE-SHOT ELECTRON- BEAM EXPOSURE AND PATTERN ONE-SHOT ELECTRON-BEAM EXPOSURE SYSTEM
図形一括電子線露光用データ処理方法および図形一括型電子ビーム露光装置 - 特許庁 - PROCESSING OF DATA FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY, ELECTRON EXPOSURE MASK AND STORAGE MEDIUM
電子線描画用デ—タの処理方法、電子線露光用マスク及び記録媒体 - 特許庁 - ELECTRON BEAM APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING DEVICE USING THE SAME
電子線装置および該装置を用いたデバイス製造方法 - 特許庁 - ELECTRON BEAM LITHOGRAPHIC DATA PROCESSING METHOD, STORAGE MEDIUM STORING LITHOGRAPHIC DATA PROCESSING PROGRAM, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
電子線描画データ加工方法および描画データ加工プログラムを記録した記録媒体、ならびに電子線描画装置 - 特許庁 - ELECTRON BEAM IRRADIATION DEVICE, ELECTRON BEAM IRRADIATION PROCESSING APPARATUS USING THE SAME, AND COLLECTOR ELECTRODE FOR USE IN THE SAME
電子ビーム照射装置、これを用いる電子ビーム照射処理装置、及びこれらに用いるコレクター電極 - 特許庁 - ELECTRON BEAM STERILIZATION METHOD AND APPARATUS AND STERILIZATION PROCESSING SYSTEM
電子線滅菌方法、電子線滅菌装置及び滅菌処理システム - 特許庁 - METHOD FOR PROCESSING GRAPHIC DATA WITH HIGHER ACCURACY FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM
電子ビーム描画装置用の図形データの高精度化処理方法 - 特許庁 - The electron beam irradiation device processing the material 5 to be processed by irradiating the electron beam thereto is characterized by a means shifting an electron beam irradiation device body 1 having the electron beam tube 2, relative to the material 5 to be processed in processing the material 5 to be processed by irradiating the electron beam thereto.
被処理物５に電子ビームを照射して処理する電子ビーム照射装置において、被処理物５の電子ビーム照射処理時、被処理物５に対して電子ビーム管２を備える電子ビーム照射装置本体１を移動させる手段を有していることを特徴とする。 - 特許庁 - It is also desirable that the sterilization processing is done by electron beam irradiation.
また、滅菌処理を電子線照射によって行なうと好ましい。 - 特許庁 - An apparatus with a coaxial barrel of an FBI beam and an SEM includes a coaxial FIB and an electron beam allowing accurate processing by the FIB using an image formed by the electron beam.
電子ビームにより形成された像を使用したＦＩＢによる正確な処理を可能とする同軸の集束イオンビーム及び電子ビームを含むシステム。 - 特許庁 - To provide an electron beam system for a material processing, an amplifier for carrying out a high-speed drive of an induction element and an image generating device for an electron beam system for the material processing.
材料加工用の電子ビームシステム、誘導素子を高速駆動する増幅器、材料を加工する電子ビームシステム用の画像生成装置を提供する。 - 特許庁 - After the electron-beam irradiation processing, the protecting film is dipped in an alkali bath to carry out saponification.
電子線照射処理後、アルカリ浴に浸漬させて鹸化処理を行う。 - 特許庁 - Before the electron-beam irradiation processing, a hydrophilic compound is added to the film surface to be irradiated with electron beams.
電子線照射処理の前に、電子線照射処理するフィルム面に親水性化合物を添加する。 - 特許庁 - The electron beam irradiation surface reforming device 1 is provided with an electron beam generation chamber 25, an electron beam housing 10 which forms the electron beam generation chamber 25 and has an emitting mouth 13a, and a processing housing 30 which forms a processing chamber 31 and has an incident mouth 30a.
電子ビーム照射表面改質装置１が、電子ビーム発生室２５と、電子ビーム発生室２５を形成し出射口１３ａを有する電子ビームハウジング１０と、加工室３１を形成し入射口３０ａを有する加工ハウジング３０とを備える。 - 特許庁 - IMAGE PROCESSING METHOD, IMAGE PROCESSING STORAGE MEDIA, IMAGE PROCESSING SYSTEM, AND ELECTRON BEAM OR X-RAY COMPUTER TOMOGRAPHY SYSTEM
画像処理方法、画像処理記憶媒体、画像処理システム、および電子線またはエックス線コンピュータトモグラフィシステム - 特許庁 - MEMBER USED FOR MASK, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, AND CHARGED PARTICLE BEAM PROCESSING SYSTEM
マスク、半導体素子製造方法、電子ビーム露光装置、荷電ビーム処理装置において用いられる部材 - 特許庁 - ELECTRON BEAM PROCESSING MATERIAL AND METHOD OF MANUFACTURING RUGGED STRUCTURE USING THE SAME
電子線加工材料およびそれを用いた凹凸構造体の製造方法 - 特許庁 - To provide an electron beam processing method and an electron beam processing system in which deterioration in the k value of an insulating film and lowering of chemical resistance can be suppressed.
絶縁膜のｋ値の悪化や耐薬品性の低下を抑制することができる電子ビーム処理方法及び電子ビーム処理装置を提案することを目的としている。 - 特許庁 - ELECTRON BEAM SYSTEM FOR MATERIAL PROCESSING, AMPLIFIER FOR CARRYING OUT HIGH-SPEED DRIVE OF INDUCTION ELEMENT, AND IMAGE GENERATING DEVICE FOR ELECTRON BEAM SYSTEM FOR MATERIAL PROCESSING
材料加工用の電子ビームシステム、および誘導素子を高速駆動するための増幅器、および材料を加工するための電子ビームシステム用の画像生成装置 - 特許庁 - PROCESSING METHOD USING FOCUSED ION BEAM, NANOTUBE PROBE, MICROSCOPE DEVICE, AND ELECTRON GUN
集束イオンビームを用いた加工方法、ナノチューブプローブ、顕微鏡装置、及び電子銃 - 特許庁 - To accelerate the exposure processing of exposure control data, in an electron beam exposure system.
電子ビーム露光装置における露光制御データの展開処理を高速化する。 - 特許庁 - METHOD FOR EXPOSING TO ELECTRON BEAM, SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR PROCESSING EXPOSURE PATTERN DATA, AND PROGRAM
電子ビーム露光方法、半導体装置、露光パターンデータ処理方法およびプログラム - 特許庁 - To provide an electron beam exposure system capable of processing exposure at a high speed.
高速に露光処理を行うことができる電子ビーム露光装置を提供する - 特許庁 - The electron-beam processing is previously performed on the polyimide film surface so as to be activated.
ポリイミドフィルム表面にはあらかじめ電子線処理を施して活性化しておく。 - 特許庁 - To provide an electron gun, an electron beam drawing device, and a degassing processing method for an electron gun that can shorten a downtime when the device operates.
装置の動作時においてダウンタイムを短縮できる電子銃、電子ビーム描画装置および電子銃の脱ガス処理方法を提供する。 - 特許庁 - The structure analysis processing for the small angle electron beam scattering portion may be combined for use.
また、小角電子線散乱部分の構造解析処理を併用することができる。 - 特許庁 - METHOD AND SYSTEM FOR CONTROLLING UNIFORMITY IN BALLISTIC ELECTRON BEAM ACCELERATING PLASMA PROCESSING SYSTEM
弾道電子ビーム促進プラズマ処理システムにおける均一性制御方法及びシステム - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
