「ellipsometry method」を含む例文一覧(3)
- FOUR-ZONE QUENCHING TYPE ELLIPSOMETRY METHOD USING AN IMPERFECT PHASE COMPENSATOR
不完全位相補償子を用いた４ゾーン消光型分光エリプソメトリ法 - 特許庁 - To provide a polishing end point detecting method for quickly detecting a polishing end point by using ellipsometry without executing complicated analysis of a film thickness and a refraction index, and to provide a polishing device.
膜厚および屈折率の複雑な解析をすることなく、エリプソメトリーを利用して速やかに研磨終点を検出することができる研磨終点検出方法および研磨装置を提供する。 - 特許庁 - The method of manufacturing the silicon carbide monocrystalline substrate includes: a process (A) of preparing a silicon carbide monocrystalline substrate having a main surface that is mechanically polished; a process (B) of chemically mechanically polishing the main surface of the silicon carbide monocrystalline substrate; and a process (C) of evaluating an alteration layer that is formed by the chemical mechanical polishing by spectral ellipsometry.
本発明の炭化珪素単結晶基板の製造方法は、機械研磨が施された主面を有する炭化珪素単結晶基板を用意する工程（Ａ）と、前記炭化珪素単結晶基板の前記主面に化学機械研磨を施す工程（Ｂ）と、前記化学機械研磨によって形成される変質層を、分光エリプソメトリによって評価する工程（Ｃ）と、を包含する。 - 特許庁
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