「etching agent」を含む例文一覧(314)
1 2 3 4 5 6 7 次へ＞- ETCHING AGENT
エッチング剤 - 特許庁 - DRY ETCHING AGENT
ドライエッチング剤 - 特許庁 - ETCHING BACKING AGENT
エッチング裏止め剤 - 特許庁 - ETCHING AGENT COMPOSITION
エッチング剤組成物 - 特許庁 - ETCHING AGENT FOR GLASS
ガラス用エッチング剤 - 特許庁 - ETCHING AGENT, ETCHING METHOD, AND ETCHING AGENT PREPARATION LIQUID
エッチング剤、エッチング方法及びエッチング剤調製液 - 特許庁 - ETCHING AGENT, AND ETCHING METHOD USING THE SAME
エッチング剤及びこれを用いたエッチング方法 - 特許庁 - ETCHING AGENT AND ETCHING METHOD USING THE SAME
エッチング剤及びこれを用いたエッチング方法 - 特許庁 - DENTAL SELF-ETCHING PRIMER TREATMENT AGENT
歯科用セルフエッチングプライマー処理剤 - 特許庁 - ETCHING AGENT FOR TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE FILM
透明導電膜用のエッチング剤 - 特許庁 - ETCHING AGENT FOR COPPER OR COPPER ALLOY
銅または銅合金のエッチング剤 - 特許庁 - ETCHING AGENT FOR NATURAL TEXTILE MATERIAL AND ETCHING FINISHING
天然系繊維材料の抜蝕剤および抜蝕加工方法 - 特許庁 - ETCHING AGENT FOR SYNTHETIC TEXTILE MATERIAL AND ETCHING PROCESSING
合成系繊維材料の抜蝕剤および抜蝕加工方法 - 特許庁 - SILICON WAFER ETCHING AGENT, AND ETCHING METHOD USING THE SAME
シリコンウェハーエッチング剤及びそれを用いたエッチング方法 - 特許庁 - ETCHING AGENT FOR COPPER OR COPPER ALLOY, AND ETCHING METHOD THEREFOR
銅または銅合金のエッチング剤ならびにエッチング法 - 特許庁 - SOFT ETCHING AGENT FOR COPPER CLAD LAMINATE
銅張積層板用ソフトエッチング剤 - 特許庁 - ETCHING AGENT FOR IRON-NICKEL ALLOY
鉄−ニッケル系合金用エッチング剤 - 特許庁 - SELF-ETCHING PRIMER TREATMENT AGENT FOR DENTAL USE
歯科用セルフエッチングプライマー処理剤 - 特許庁 - SOFT ETCHING AGENT FOR COPPER-CLADDED LAMINATED BOARD
銅張積層板用ソフトエッチング剤 - 特許庁 - ETCHING AGENT AND METHOD FOR MANUFACTURING BASE MATERIAL FOR ELECTRONIC EQUIPMENT BY USING THE ETCHING AGENT
エッチング剤及びこのエッチング剤を用いた電子機器用基板の製造方法 - 特許庁 - ETCHING AGENT COMPOSITION FOR TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM
透明導電膜用エッチング剤組成物 - 特許庁 - ETCHING TREATING AGENT FOR COPPER AND COPPER ALLOY
銅および銅合金のエッチング処理剤 - 特許庁 - ETCHING AGENT, ETCHING METHOD, AND FORMED LAMINATE AND DEVICE
エッチング剤、エッチング法、並びに形成された積層体及びデバイス - 特許庁 - MICRO-ETCHING AGENT FOR COPPER AND COPPER ALLOY
銅および銅合金用のマイクロエッチング剤 - 特許庁 - ETCHING AGENT FOR ALUMINUM OR ALUMINUM ALLOY
アルミニウムまたはアルミニウム合金用エッチング剤 - 特許庁 - ETCHING AGENT COMPOSITION FOR THIN FILM HAVING HIGH PERMITTIVITY
高誘電率薄膜エッチング剤組成物 - 特許庁 - ETCHING AGENT FOR SYNTHETIC FIBER MATERIAL, ETCHING PROCESSING METHOD AND ETCHING PROCESSED SYNTHETIC FIBER MATERIAL
合成系繊維材料の抜蝕剤、抜蝕加工方法及び抜蝕加工合成系繊維材料 - 特許庁 - The polishing liquid contains water and an etching agent.
研磨液は、水とエッチング剤とを含有する。 - 特許庁 - METHOD FOR EVALUATING SILICON WAFER AND ETCHING AGENT THEREFOR
シリコンウェーハの評価方法及びそのエッチング液 - 特許庁 - RESIN COMPOSITION, ETCHING AND PRINTING AGENT FOR TEXTILE AND TEXTILE PRINTING METHOD USING THE AGENT
樹脂組成物、エッチング捺染剤及びそれを用いた捺染方法 - 特許庁 - REMOVER AND CLEANING AGENT FOR SEMICONDUCTOR ETCHING RESIDUE
半導体エッチング残渣の除去剤及び洗浄剤 - 特許庁 - To provide an etching agent such that etching liquid is high in stability and fast in etching speed, side etching is small, and linearity of a pattern is excellent.
エッチング液の安定性が高く、エッチング速度が速く、サイドエッチングも少なく、パターンの直線性も良好なエッチング剤を提供する。 - 特許庁 - REMOVAL AGENT FOR DRY ETCHING RESIDUE AFTER FORMING PLATINUM FAMILY PATTERN
白金族パターン形成後のドライエッチング残渣除去剤 - 特許庁 - When a conductive thin film is etched, etching is selectively performed by using an etching solution made of an oxidizing agent and a chelating agent.
導電薄膜をエッチングする際、酸化剤とキレート剤とからなるエッチング液で選択的にエッチングする。 - 特許庁 - To provide an etching agent used for a chemical wet etching method of chemical-resistant crystal material.
耐薬品性の結晶材料の化学的ウェットエッチング法に用いるエッチング剤の提供。 - 特許庁 - ETCHING AGENT OF NATURAL FIBER MATERIAL, METHOD FOR CARRYING OUT ETCHING AND ETCHED NATURAL FIBER MATERIAL
天然系繊維材料の抜蝕剤、抜蝕加工方法及び抜蝕加工天然系繊維材料 - 特許庁 - Oxygen and a silicon etching agent are introduced into a plasma etching chamber including a silicon substrate.
シリコン基板を含むプラズマ・エッチング・チャンバの中に酸素とシリコン・エッチング剤が導入される。 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING STRUCTURE, AND SILICON OXIDE FILM ETCHING AGENT
構造体の作製方法及びシリコン酸化膜エッチング剤 - 特許庁 - POST-TREATMENT AGENT FOR ETCHING TREATMENT WITH CHROMIC ACID-SULFURIC ACID MIXED LIQUID
クロム酸−硫酸混液によるエッチング処理の後処理剤 - 特許庁 - ETCHING AGENT AND METHOD FOR FORMING PATTERN FILM USING THE SAME
エッチング剤と該エッチング剤を用いるパタ—ン膜の形成方法 - 特許庁 - RESIST RELEASE AGENT AND ETCHING METHOD FOR THIN PLATE USING THE SAME
レジスト剥離剤、及び、それを用いた薄板のエッチング方法 - 特許庁 - POSTTREATMENT AGENT FOR ETCHING TREATMENT WITH CHROMIC ACID-SULFURIC ACID MIXED LIQUID
クロム酸−硫酸混液によるエッチング処理の後処理剤 - 特許庁 - ETCHING AGENT FOR TITANIUM AND ELECTRONIC PARTS PRODUCED BY USING THE SAME
チタンのエッチング剤及びそれを用いて製作した電子部品 - 特許庁 - The etching agent comprises an aqueous solution containing oxalic acid and a carboxylic acid.
シュウ酸とカルボン酸を含有する水溶液からなるエッチング剤。 - 特許庁 - An in-situ etching agent supports the growth of selective silicon epitaxy.
インサイチュエッチング剤は、選択的シリコンエピタキシーの成長を支持する。 - 特許庁 - An apparatus for etching the preform 12 includes a reservoir tank housing a liquid etching agent.
プリフォーム１２をエッチングするための装置は、液体のエッチング剤を収容する貯留槽を備えている。 - 特許庁 - IGNITION-INITIATING AGENT WITH PHOTO ETCHING FILAMENT PREVENTED FROM STATIC DISCHARGING
静電気放電から保護されたホトエッチングフィラメントを有する点火起爆剤 - 特許庁 - ETCHING AGENT COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING SAME
エッチング剤組成物およびこれを用いた半導体デバイスの製造方法 - 特許庁 - SILICON ANISOTROPIC ETCHING AGENT COMPOSITION FOR SILICON MICROFABRICATION, SILICON ETCHING METHOD, AND ELECTRONIC APPARATUS WITH SILICON SUBSTRATE PROCESSED IN ITS ETCHING
シリコン微細加工に用いるシリコン異方性エッチング剤組成物、シリコンエッチング方法及びそのエッチングを施されたシリコン基板を有する電子機器 - 特許庁 - To provide an etching agent that can prevent the generation of etching residues completely, and at the same time carry out etching under mild conditions when a transparent conductive film is to be etched.
透明導電膜をエッチングする際に、エッチング残渣を全く発生せず、且つ、穏和な条件下で、エッチングが行えるエッチング剤を提供することにある。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
