「etching method」を含む例文一覧(6852)
＜前へ 1 2 .... 41 42 43 44 45 46 47 48 49 .... 137 138 次へ＞- METHOD AND APPARATUS FOR RECOVERING INDIUM FROM INDIUM-CONTAINING FERRIC CHLORIDE ETCHING WASTE SOLUTION
インジウム含有塩化第二鉄エッチング廃液からのインジウムの回収方法とその装置 - 特許庁 - METHOD OF ETCHING SiN/Ir/TaN OR SiN/Ir/Ti STACK USING ALUMINUM HARD MASK
アルミニウムハードマスクを用いてＳｉＮ／Ｉｒ／ＴａＮまたはＳｉＮ／Ｉｒ／Ｔｉスタックをエッチングする方法 - 特許庁 - ETCHANT, METHOD FOR ETCHING TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM USING ETCHANT, SUBSTRATE TO BE ETCHED
エッチング液、該エッチング液を用いた透明導電膜のエッチング方法及び被エッチング基板 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS, SPUTTERING APPARATUS, DRY ETCHING APPARATUS, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD
半導体製造装置、スパッタリング装置、ドライエッチング装置及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - A method for forming a dry etching reaction mask is also provided.
さらに、本発明によりドライエッチング反応用マスクを形成する方法も提供される。 - 特許庁 - To provide a detecting method of an etching termination point whose accuracy (detection precision) has been improved.
正確性（検出精度）が向上されたエッチング終点の検出方法を提供する。 - 特許庁 - ETCHING OF PATTERN OF PHOTOGRAPH AND THE LIKE, USING WATER-SOLUBLE TRANSFER PAPER, AND COLORING METHOD FOR ETCHED PART
水溶性転写紙を用いた写真など図柄の蝕刻と蝕刻部の着色方法 - 特許庁 - Additionally, this method enables continuous etching and regrowth so that a low cost process is achieved.
また、エッチングおよび再成長を連続して行えるため、安価なプロセスが可能である。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a Fe-Ni based alloy thin sheet for shadow mask with an excellent etching performance.
エッチング性に優れたシャドウマスク用Fe-Ni系合金薄板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - ETCHING SOLUTION FOR CONDUCTOR AND MANUFACTURING METHOD OF THIN FILM TRANSISTOR DISPLAY PANEL USING THE SAME
導電体用エッチング液及びこれを利用した薄膜トランジスタ表示板の製造方法 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a pyroelectric detection element with reduced damage by etching.
エッチングによるダメージを低減した焦電型検出素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The electric razor has the shaving foil 17 and the cutter 19 in a slit blade structure formed by an etching method.
外刃１７と、エッチング法で形成されるスリット刃構造の内刃１９とを有する。 - 特許庁 - To provide a method for etching an opening with reduced critical dimensions in a substrate layer.
限界寸法の減じた開口部を、基板層にエッチングする方法が記載されている。 - 特許庁 - To provide an etching method causing no surface rougheness on a surface of a low dielectric constant insulating film.
低誘電率絶縁膜の表面荒れを起こさないエッチング方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for precisely etching the surface of a transparent body which allows penetration of laser beam.
レーザを透過する透明体の表面を緻密にエッチング加工する方法を提供する。 - 特許庁 - OPTICAL COUPLER WITH MANY MUTUALLY SELF-ALIGNED ETCHING GROOVES AND ITS MANUFACTURING METHOD
相互自己整列された多数のエッチング溝を有する光結合器及びその製造方法 - 特許庁 - To provide a method and device for selectively etching a substrate using a focused beam.
集束ビームを使用して基板を選択的にエッチングする方法および装置を提供する。 - 特許庁 - To satisfactorily form a transparent electrode composed of ITO by a method other than wet etching.
ＩＴＯからなる透明電極をウェットエッチング以外の方法により良好に形成する。 - 特許庁 - METHOD FOR ETCHING MATERIAL SURFACE BY FOCUSING ELECTRONIC BEAM INDUCED CHEMICAL REACTION
材料表面を集束電子ビーム誘導化学反応によってエッチングするための方法 - 特許庁 - CONTAINER FOR PIEZOELECTRIC VIBRATING REED, APPARATUS AND METHOD FOR ETCHING PIEZOELECTRIC VIBRATING REED
圧電振動片の収容器、圧電振動片のエッチング装置及び圧電振動片のエッチング方法 - 特許庁 - To provide a method for plasma-etching a substrate, especially a microelectronic semiconductor substrate.
基板、特に微小電子半導体基板をプラズマ・エッチングする方法を提供すること。 - 特許庁 - A method for cleaning a deposition chamber and etching a semiconductor substrate is also provided.
堆積チャンバをクリーニングし、そして半導体基板をエッチングする方法も提供される。 - 特許庁 - ELECTROLYTIC ETCHING SOLUTION FOR TITANIUM BASED METALLIC MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING TITANIUM BASED METALLIC PRODUCT
チタン系金属材料用電解エッチング液およびチタン系金属製品の製造方法 - 特許庁 - WASHER-FORM MEMBER MADE OF TETRAFLUOROETHYLENE RESIN HAVING ONE SURFACE ETCHING-PROCESSED AND ITS MANUFACTURING METHOD
片面をエッチング処理した四フッ化エチレン樹脂製ワッシャ状部材とその製造方法 - 特許庁 - PLASMA ETCHING REACTOR AND COMPONENT OF THE SAME, AND METHOD OF PROCESSING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
プラズマエッチング反応器及びその構成部品並びに半導体基板を処理する方法 - 特許庁 - To provide a substrate processing device and its method for selectively etching a substrate surface.
基板表面を選択的にエッチングするための基板処理装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - GLASS ETCHANT LIQUID, GLASS ETCHING METHOD, GLASS SUBSTRATE FOR FLAT PANEL DISPLAY AND FLAT PANEL DISPLAY
ガラスエッチング液、ガラスエッチング方法、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びフラットパネルディスプレイ - 特許庁 - ETCHANT COMPOSITION FOR ITO FILM, AND METHOD OF ETCHING ITO FILM USING THE SAME
ＩＴＯ膜用のエッチング液組成物、および、それを利用したＩＴＯ膜のエッチング方法 - 特許庁 - To provide an ion etching method which does not include the supply of a fluorinated organic compound gas.
気体のフッ素系有機化合物の供給を含まないイオンエッチング方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a plasma processing apparatus and a plasma etching method that have high controllability.
高い制御性を有するプラズマ処理装置およびプラズマエッチング方法を提供する。 - 特許庁 - DRY ETCHING DEVICE AND DEVICE AND METHOD FOR MONITORING OPERATION OF PUMP ATTACHED THERETO
ドライエッチング装置およびそれに付属するポンプの運転監視装置及び運転監視方法 - 特許庁 - To provide a method which selectively perform low-temperature wet etching of an SiN film to an SiO film and Si.
SiO膜、Si対してSiN膜を選択的に低温ウェットエッチングする方法を提供する。 - 特許庁 - COMPOSITION FOR ETCHING AND DESMUTTING USED FOR ALUMINUM AND ALUMINUM ALLOY, AND METHOD THEREWITH
アルミニウムおよびアルミニウム合金に用いるエッチングとデスマッティング用の組成物及びその方法 - 特許庁 - To provide a method for forming a contact hole of a semiconductor element using a reactive ion etching.
反応性イオンエッチングを用いた半導体素子のコンタクトホール形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an extreme-ultraviolet photomask, a method of manufacturing a photomask, and a plasma etching chamber system.
極紫外線フォトマスク、フォトマスクの製造方法、及びプラズマエッチングチャンバシステムを提供する。 - 特許庁 - METHOD OF FABRICATING ALIGNMENT FILM OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND ETCHING APPARATUS USED THEREIN
液晶表示装置の配向膜製造方法及びこれに用いる配向膜エッチング装置 - 特許庁 - To provide an etching method capable of improving the manufacturing yield of a memory array.
メモリアレイの製造歩留りを向上させることの可能なエッチング方法を提供する。 - 特許庁 - PRINTED WIRING BOARD, ITS MANUFACTURING METHOD, AND PLATING/ETCHING/GRINDING PROCESSOR
プリント配線板の製造方法及びプリント配線板並びにめっき・エッチング・研磨処理装置 - 特許庁 - LASER BEAM STIMULATED ETCHING PROCESSING DEVICE, WHEREIN NEAR FIELD OPTICAL PROBE IS USED, AND PROCESSING METHOD THEREOF
近接場光プローブを用いたレーザ光励起エッチング加工装置及び加工方法 - 特許庁 - SYSTEM AND METHOD FOR PREVENTING ELECTRODE DEGRADATION IN ETCHING DEVICE
エッチング装置の電極部劣化防止機構及びエッチング装置の電極部劣化防止方法 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a composition for environmental cleanup, capable of utilizing etching waste liquid.
エッチング廃液を利用しうる環境浄化用組成物の製造方法の提供 - 特許庁 - In an etching method, which is so arranged as to perform the etching treatment of a multilayer film by repeating the etching treatment plural number of times, next etching treatment is performed under the condition, that a last reference position θ1 with respect to a chamber of a semiconductor substrate which was used in the last etching, be readjusted to the next reference position θ2.
エッチング処理を複数回繰り返すことで、多層膜のエッチング処理を行うようにしたエッチング方法において、直前にエッチングしたときに使用した半導体基体のチャンバーに対する直前の基準位置θ１を、次の基準位置θ２に再調整した状態で、次のエッチング処理を行う。 - 特許庁 - DEVICE COMPONENT FOR VACUUM FILM DEPOSITION DEVICE, ETCHING DEVICE OR THE LIKE, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND METHOD FOR REPRODUCING THE SAME
真空成膜装置、エッチング装置等における装置構成部品、およびその製造方法と再生方法 - 特許庁 - To provide a method by which a high selection ratio can be obtained in a pattern forming method for a resin film by dry etching.
ドライエッチングによる樹脂膜のパターン形成方法において、高い選択比が得られる方法の提供。 - 特許庁 - To provide a plasma etching method using selective polymer deposition and a method of forming contact holes using the same.
選択的ポリマー蒸着を用いたプラズマエッチング方法及びこれを用いたコンタクトホール形成方法を提供する。 - 特許庁 - SUBSTRATE WITH TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME, ETCHING METHOD USING THE SAME, AND LIGHT ELECTROMOTIVE FORCE DEVICE
透明導電膜付き基板及びその作製方法，それを用いたエッチング方法並びに光起電力装置 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR MAINTAINING TREATMENT LIQUID CONCENTRATION AND METHOD AND DEVICE FOR ETCHING SEMICONDUCTOR WAFER
処理液濃度維持方法及び処理液濃度維持装置並びに半導体ウェーハのエッチング方法及びエッチング装置 - 特許庁 - DRY ETCHING METHOD FOR ITO FILM, PRODUCTION OF LIQUID CRYSTAL ELEMENT SUBSTRATE USING THE METHOD AND LIQUID CRYSTAL ELEMENT SUBSTRATE
ＩＴＯ膜のドライエッチング方法及び該方法を用いた液晶素子基板の製造方法、液晶素子基板 - 特許庁 - ETCHING LIQUID COMPOSITION AND PATTERNING METHOD OF CONDUCTIVE FILM USING THE SAME AND MANUFACTURING METHOD OF FLAT PANEL DISPLAY
エッチング液組成物及びこれを利用した導電膜のパターニング方法並びにフラットパネルディスプレイの製造方法 - 特許庁 - FORMING METHOD OF HOLE OR GROOVE PART USING INDUCTIVELY COUPLED PLASMA ETCHING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF INK JET HEAD
誘導結合型プラズマエッチング装置を利用した穴または溝部の形成方法及びインクジェットヘッドの製造方法 - 特許庁
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