「fluence」を含む例文一覧(72)

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  • The second low fluence oblique laser beam (45) and others have a lower fluence than the first low fluence oblique laser beam (24).
    第2の低フルエンス斜レーザビーム(45)は、第1の低フルエンス斜レーザビーム(24)よりも低いフルエンスを有する。 - 特許庁
  • Fluence is a term used in radioactive physics.
    フルーエンスとは放射性物理学で使われる用語である。 - Weblio英語基本例文集
  • In the boundary area (20), laser shocking peening can be performed by using a second low fluence laser beam (45) having lower fluence than a first low fluence laser beam (24) or more low fluence laser beams.
    境界区域(20)は、第1の低フルエンスレーザビーム(24)よりも低いフルエンスを有する、第2の低フルエンスレーザビーム(45)又はさらに多い低フルエンスレーザビームを用いてレーザショックピーニングすることができる。 - 特許庁
  • LOW FLUENCE BOUNDARY OBLIQUE LASER SHOCK PEENING
    低フルエンス境界斜レーザショックピーニング - 特許庁
  • LOW FLUENCE BOUNDARY LASER SHOCKING PEENING
    低フルエンス境界レーザショックピーニング - 特許庁
  • MONTE CARLO CRITICALITY-MODE SYSTEM AND METHOD FOR COMPUTING NEUTRON FLUENCE AND GAMMA FLUENCE IN NUCLEAR REACTOR
    原子炉における中性子フルエンス及びガンマフルエンスを計算するためのモンテカルロ臨界モードシステム及び方法 - 特許庁
  • The pulse laser beams are incident at the fluence rate over the fluence threshold capable of forming a hole when the beam spot has the size thereof.
    パルスレーザビームは、ビームスポットがそのサイズであるときに、穴を形成することのできるフルエンスのしきい値以上のフルエンスで入射する。 - 特許庁
  • The method includes sampling a laser beam shot from a pulsed treatment laser as a reference portion, and measures the fluence distribution of the beam of the reference portion and computes laser beam characteristics from the measured fluence distribution.
    本発明の方法は、パルス型治療用レーザーからのビームのレーザーショットを、参照部分としてサンプリングすることを含む。 - 特許庁
  • This enables energy irradiation at a high fluence sufficient for an SLS method while preventing aberration, to increase the fluence margin in a crystallizing process by the SLS method.
    これにより、SLS法による結晶化工程におけるフルエンスマージンを拡大することができる。 - 特許庁
  • To accurately understand the continuous positional distribution of neutron fluence.
    中性子フルエンスの連続的な位置分布を精度良く把握する。 - 特許庁
  • Then, the fluence ϕ in the printing position M at the start of the printing is increased from the fluence ϕa insufficient for marking or lower to the fluence ϕa sufficient for marking or higher in a heating time Ta.
    そして印字開始時の印字位置Mにおけるフルエンスφをマーキング不能な程度のフルエンスφa以下からマーキング可能な程度のフルエンスφa以上へ加熱時間Taかけて増大させるようにする。 - 特許庁
  • The border area (20) may be laser shock peened with progressively lower fluence oblique laser beams starting with the one first fluence oblique laser beam (24) wherein the progressively lower fluence oblique laser beams are in order of greatest fluence to least fluence in a direction outwardly from the first area through the border area (20) to the non-laser shock peened area (22).
    境界区域(20)は、第1のフルエンス斜レーザビーム(24)から始まり第1の区域から境界区域(20)を横断して非レーザショックピーニング区域(22)まで外向き方向に最大フルエンスから最小フルエンスの順になった徐々に低くなる低フルエンス斜レーザビームを用いて、レーザショックピーニングする。 - 特許庁
  • The fluence when light is scattered most intensely is determined as a specified value by adding a fixed fluence to the fluence that corresponds to the point at which the scattering intensity is the highest, and laser annealing can be executed always under optimum conditions by laser annealing the amorphous silicon based on the specified value.
    光が最も散乱する際のフルエンスは、散乱度の最も高い位置に相当するフルエンスに所定のフルエンスを加えて設定値とし、この設定値に基づいて、アモルファスシリコンをレーザアニールすることにより、常に最適なレーザアニールができる。 - 特許庁
  • Preferably, the fluence of the ultrashort pulse laser is 1.0-2.0 J/cm^2.
    好ましくは、超短パルスレーザーのフルエンスは、1.0J/cm^2〜2.0J/cm^2である。 - 特許庁
  • To obtain a method for forming a high mobility polysilicon film a high fluence margin.
    移動度の高いポリシリコン薄膜の形成を、高いフルエンスマージンで実現する。 - 特許庁
  • To accomplish imaging of a lithographic printing plate with a reduced fluence demand.
    低減されたフルエンス要求でもってリソグラフ印刷プレートのイメージングを達成する。 - 特許庁
  • In the boundary area (20), laser shocking peening can be performed by using a step-down low fluence laser beam which begins from one first fluence laser beam (24) which is in order from the maximum fluence to the minimum fluence in the outward direction from the first area to the non-laser shocking peening area (22) through the boundary area (20).
    境界区域(20)は、第1の区域から境界区域(20)を通って非レーザショックピーニング区域(22)に至る外向き方向に最大フルエンスから最小フルエンスの順になっている、1つの第1のフルエンスレーザビーム(24)から始まる逓減低フルエンスレーザビームを用いて、レーザショックピーニングすることができる。 - 特許庁
  • Each instrument of the system measures the fluence distribution of the reference portion of the beam and computes the resection amount per laser shot from the measured fluence distribution.
    上記システムの各装置は、ビームの参照部分のフルエンス分布を測定し、および測定したフルエンス分布からレーザーショット当りの切除量を算出することを実現する。 - 特許庁
  • To provide a system and a method for calculating neutron fluence and gamma fluence in a nuclear reactor.
    本発明は、一般に原子炉に関し、より具体的には原子炉における中性子フルエンス及びガンマフルエンスを計算するためのシステム及び方法に関する。 - 特許庁
  • In the laser beam machining method where a work is machined using ultrashort pulse lasers, pulse lasers of two or more shots of which the fluence is set to the machining threshold or less of the fluence at the time when one pulse irradiation is applied to a work 6.
    超短パルスレーザを用いて被加工物を加工するレーザ加工方法であって、1パルス照射時のフルエンスの加工閾値以下のフルエンスに設定した複数ショット数のパルスレーザを被加工物6に照射する。 - 特許庁
  • The value of an irradiation fluence, which is related to a femto-second laser beam in a low fluence region causing non-thermal ionization discharge on the surface of the solid by being irradiated thereon, is set within a low fluence range according to a required separation depth separated from the surface of the solid and the property of the surface of the solid.
    固体表面から剥離すべき所望の剥離深さ及び固体表面の材質に応じて、固体表面に照射されることで固体表面に非熱的なイオン化放出を引き起こす低フルーエンス領域内のフェムト秒レーザに係る照射フルーエンスの値を、低フルーエンス領域内で設定する。 - 特許庁
  • The energy fluence of the femtosecond laser used in the machining stage is 1×10^-4 to 5 J/cm^2.
    加工工程において用いられるフェムト秒レーザのエネルギーフルエンスは1×10^−4J/cm^2以上5J/cm^2以下である。 - 特許庁
  • In oscillation, the laser produces a pulse having the duration of 5 to 100 msecond and fluence of 10 to 50 J/cm2.
    発振において、レーザは、5ないし100m秒の持続時間および10ないし50J/cm^2 のフルエンスを有するパルスを発生する。 - 特許庁
  • If the neutron radiation is leaked, the gold foils 1 and 1cd are taken out for measuring a neutron fluence, and a measuring result is presented to customers.
    中性子線漏洩時はこれらの金箔1、1cdを取出し、中性子フルエンスを測定し、測定結果を顧客に提供する。 - 特許庁
  • It is possible to detect with ease the fluence when light is scattered most intensely regardless of the irradiation condition of the excimer laser beam.
    エキシマレーザビームの照射状況に関わらず、光が最も散乱する際のフルエンスを容易に発見できる。 - 特許庁
  • Ultra-short pulse having a fluence for generating an ablation in the ribbon, is generated by using a laser beam (21).
    レーザ(21)を用い、リボン上にアブレーションを生じさせるフルエンスをもつ超短パルスを発生する。 - 特許庁
  • Total bow value is calculated in every channel, based on a channel face fast fluence and/or channel face control parameter (520).
    総バウ値を、チャネルごとに、チャネル面高速フルエンスおよび/またはチャネル面制御パラメータに基づいて計算する520。 - 特許庁
  • The femto-second laser beam is irradiated on the surface of the solid with the value of the irradiation fluence set as described above.
    そして、固体表面に対して、このように設定された照射フルーエンスの値でフェムト秒レーザを照射する。 - 特許庁
  • The method determines channel face fast fluence channel face control operation parameters for all the channels (510).
    チャネル面高速フルエンス・チャネル面被制御運転パラメータを、すべてのチャネルについて判定する510。 - 特許庁
  • To provide a specimen information acquisition apparatus capable of obtaining an image in which an influence of a light fluence distribution in a specimen is reduced is reduced.
    被検体内の光量分布の影響を低減した画像を得ることが可能な被検体情報取得装置を提供すること。 - 特許庁
  • Thus, by adjusting the fluence, the fine structure can be formed by selecting the dendrite crystalline projections or the needle-like crystalline projections.
    したがって、フルーエンスを調整することにより微細構造を樹枝状結晶突起又は針状結晶突起に選択して形成することができる。 - 特許庁
  • A laser beam irradiating a resistor element 24 is formed of laser pulses which are each one micro-second or below in width and has a processing point fluence of a few J/cm2 or above.
    抵抗体素子24へ照射するレーザ光はマイクロ秒以内のパルス幅で数J/cm^2以上の加工点フルエンスにする。 - 特許庁
  • A high polymer material obtained by filling a high polymer material with an inorganic filler is irradiated with a laser of high fluence as a first stage, and the irradiated part is irradiated with a laser of low fluence as a second stage to increase its surface roughness.
    高分子材料に無機フィラーを充填した高分子成形材に第1段階として高フルーエンスのレーザを照射し、第2段階として、この照射部に低フルーエンスのレーザを照射して表面粗さを増すようにした。 - 特許庁
  • The laser shock peening method includes laser shock peening a first area (14) with at least one high fluence normal laser beam (16) and laser shock peening a border area (20) between the first area (14) and a non-laser shock peened area (22) of the article (10) with at least one first low fluence oblique laser beam (24).
    本方法は、第1の区域(14)を、高フルエンス垂直レーザビーム(16)を用いてレーザショックピーニングする段階と、第1の区域(14)と物品(10)の非レーザショックピーニング区域(22)との間の境界区域(20)を、第1の低フルエンス斜レーザビーム(24)を用いてレーザショックピーニングする段階とを含む。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method using laser shocking peening of the boundary area where borders on a surface on which laser shocking peening is performed at low fluence and goods manufactured by the same.
    本発明は、レーザショックピーニングした表面と境を接する境界区域を低フルエンスでレーザショックピーニングすることを使用する製造方法及びそれにより製造した物品を提供する。 - 特許庁
  • Preferably, an irradiation laser fluence used for the laser annealing is set in 0.3-1.5 J/cm^2 and the number of times of irradiation of pulse laser beam is set in 1-100 shot.
    好ましくは、レーザーアニーリングに用いる照射レーザーフルエンスを0.3J/cm^2〜1.5J/cm^2、パルスレーザー光の照射回数が1〜100ショットとする。 - 特許庁
  • The method further comprises a step of shaping the space profile of the laser beam pulse so as to realize the substantially uniform fluence over the space profile.
    また、空間プロファイルにわたって実質的に均一なフルエンスになるようにレーザパルスの空間プロファイルを整形するステップを有している。 - 特許庁
  • To provide a measuring service method capable of quickly measuring neutron fluence with precision, for evaluating group or personal dose of neutron radiation in an emergency.
    緊急時の中性子線による集団および個人線量を評価するために、中性子フルエンスを高精度かつ迅速に測定できる測定サービス方法を提供する。 - 特許庁
  • A hard carbon film deposited on the surface of a base material is irradiated with a pulse laser of low fluence (such as a femtosecond laser), thus glassy carbon can be deposited on the irradiated part.
    基材表面に成膜された硬質カーボン膜に、低フルーエンスのパルスレーザー(フェムト秒レーザー等)を照射することで、照射部分にガラス状炭素を形成することができる。 - 特許庁
  • A low-fluence ultra-short pulse laser beam (femtosecond laser beam) is applied to the surface of a solid material as it is controlled for polarization, to form a fine structure whose size is smaller than the wavelength of the laser beam applied.
    固体材料表面に、低フルーエンスの超短パルスレーザー(フェムト秒レーザー)を偏光制御して照射することで、照射したレーザーの波長より小さいサイズの微細構造を形成する。 - 特許庁
  • The method still further comprises a step of radiating at least one subsequent laser pulse having the pulse energy, the pulse width and the fluence sufficient to avoid formation of the channel at the bottom part 15 of the hole 10.
    さらにパルスエネルギー、パルス幅、および穴10の底部15でチャネルの形成を回避するのに十分なフルエンスを有する少なくとも1つの後続のレーザパルスを放射するステップを有している。 - 特許庁
  • METHOD FOR MEASURING RADIOACTIVITY USING ULTRA-LOW TEMPERATURE MICRO-CALORIMETER, METHOD FOR MEASURING BIOMASS DEGREE, METHOD FOR MEASURING NEUTRON FLUENCE, AND METHOD FOR ABSOLUTE MEASUREMENT OF RADIOACTIVITY
    極低温マイクロカロリーメータを用いた放射能測定方法、バイオマス度測定方法、中性子フルエンス測定方法、放射能絶対測定方法 - 特許庁
  • To provide an optical member which can exhibit durability of sufficiently high level against high-fluence laser light of ≥250 mJ/cm^2 per pulse.
    250mJ/(cm^2・パルス)以上の高フルエンスのレーザ光に対して十分に高度な耐久性を発揮することが可能な光学部材を提供する。 - 特許庁
  • A channel wall pressure drop parameter is determined, and total bulge value is calculated in every channel, using the channel face fast fluence parameter and the channel wall pressure drop parameter (530).
    チャネル壁圧力降下パラメータを判定し、総バルジ値を、チャネルごとに、チャネル面高速フルエンスパラメータおよびチャネル壁圧力降下パラメータを使用して計算する530。 - 特許庁
  • To provide a coating composition for forming a resin film having recesses for structure color development capable of suppressing intrusion of foreign matters by laser processing with the low fluence.
    低フルエンスでのレーザ加工によって異物の侵入を抑制できる構造色発色用の凹部が形成される樹脂被膜を形成するためのコーティング組成物を提供する。 - 特許庁
  • The hardness and layer thickness of the modified layer can be adjusted by fluence of the radiated laser pulse and the modified layer can be formed so that the wear amount is reduced according to the hardness and the surface state of the surface to be slid.
    改質層の硬度及び層厚は、照射するレーザパルスのフルーエンスにより調整することができ、被摺動面の硬度や表面状態に合わせて摩耗量が少なくなるように改質層を形成することが可能となる。 - 特許庁
  • To a prescribed region 2 in a formed part 1 composed of a high polymer material, in such a manner that the fluence and the number of irradiation make an electrified state suitable for precipitating noble metal, 1st laser irradiation is executed.
    高分子材料からなる成形品1の所定領域2に、フルーエンス及び照射回数が、貴金属を析出させるのに適した帯電状態となるように1回目のレーザ照射を行う。 - 特許庁
  • To provide a cassette having an enclosure and a cover made separable, which allows a sheet material capable of controlling the fluence of radiation to be detached when necessary and is superior in versatility and can be made lightweight.
    筐体と蓋体とが分離可能なカセッテにおいて、放射線の照射量を制御可能なシート体を必要に応じて取り外すことができ、汎用性に優れると共に、軽量化を図ることができる。 - 特許庁
  • To provide a method and an apparatus for laser beam machining, by which method and apparatus, the edge and the bottom of a hole, a groove, etc. are not undulated even when polarized ultra-short light pulse laser is convergedly radiated with low fluence.
    偏光した超短光パルスレーザを低フルーエンスで集光照射しても穴や溝等のエッジ及び穴や溝等の底部がガタガタしないレーザ加工方法及び装置を提供すること。 - 特許庁
  • A light beam of 10-100 J/pulse is imaged to create an energy fluence of 60-200 J/cm^2 on an absorptive layer applied over a metal surface.
    金属表面上の吸収層に60〜200ジュール/平方センチメートルのエネルギ流束量を生じさせるために、1パルス当たり10〜100ジュールの光ビームが投影される。 - 特許庁
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