The top surface of the substrate 11 is sectioned into an area E where neither of the patterns 12 and 13 is present, an area F where only the pattern 12 is present, an area G where only the pattern 13 is present, and an area H where both the patterns 12 and 13 are present, and those areas E to F are machined individually by photolithography to form levels. 基板11の表面を、双方のパターン12、13が存在しない領域Eと、一方のパターン12のみが存在する領域Fと、他方のパターン13のみが存在する領域Gと、双方のパターン12、13が存在する領域Hとに区分し、これらの領域E〜Fをフォトリソグラフィにより個別に加工してレベルを形成する。 - 特許庁
This connection structure of a printed circuit board 400 equipped with a patterned grounding contact is configured of a grounding contact by forming a grounding pattern by patterning one face of a printed circuit board 400, and directly soldering a shield wire 130 of a coaxial cable 100 exposed to the outside on the formed grounding pattern to form a shield wire soldering part 320. パターン化した接地部を備えた印刷回路基板400の接続構造体は、印刷回路基板400の一面にパターン化して接地パターンを形成し、形成された接地パターン上に外部に露出した同軸ケーブル100のシールドワイヤ130を直接半田付けして、シールドワイヤ半田付け部320を形成することにより、接地部を構成する。 - 特許庁
A metal die 4 having a concavo-convex pattern is made by forming a resin layer 2 on the surface 1A of a metal die blanc 1 using a photosensitive polyimide system heat resistant resin, exposing it through a mask pattern 3 matching the optical disk signals and developing it to form convex pits 2A and 2A and to obtain cured convex pits 2B and 2B by heating. 感光性ポリイミド系耐熱樹脂を用いて、金型基板1の表面1Aにこの樹脂の層2を形成し、光ディスク信号に対応するマスクパターン3を介して露光し、現像して、金型基板1上に凸ピット2A,2Aを形成し、これを焼付けして硬化凸ピット2B,2Bとすることにより、凹凸パターンを備えた成形金型4を構成する。 - 特許庁
To provide a new base resin for a positive type resist giving a radiation sensitive chemical amplification type positive resist composition having high sensitivity and high resolution, ensuring good heat resistance, good focal depth-width characteristics, good aging stability relating to patternform and good shelf stability of a resist solution and capable of forming a resist pattern having no substrate dependency and excellent in profile shape. 高感度、高解像性を有し、かつ耐熱性、焦点深度幅特性、引置き経時安定性及びレジスト溶液の保存安定性がよく、基板依存性がなくプロファイル形状の優れたレジストパターンを形成できる、放射線に感応する化学増幅型のポジ型レジスト組成物を与える新規なポジ型レジスト用基材樹脂を提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition which has proper storage stability, avoids odor annoyance, ensures proper solvent resistance and satisfactory surface smoothness of a cured resin pattern formed therefrom, does not cause coating defects, such as a granular foreign substance, has a high resolution for forming a fine pattern, and can form a photospacer with a superior recovery rate. 良好な貯蔵安定性で、臭気問題がない感光性樹脂組成物であり、形成した硬化樹脂パターンの耐溶剤性が良好で、表面平滑性に優れ、粒状異物等の塗布欠陥が発生せず、微細パターンが解像可能で、回復率に優れたフォトスペーサーを形成しうる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
The scanning electron microscope includes: a pattern existence determining part 1012 that determines the existence of a pattern with respect to an individual frame image and sub-frame image constituting a synthesis image for inspection/length-measurement; a magnification correction part 1014; a distortion correction part 1018; an image synthesis part 1015; and a storage unit 1111 that compresses and stores those images therein in a video form. 走査電子顕微鏡において、パターンの検査・測長のための合成画像を構成する個々のフレーム画像やサブフレーム画像に対してパターンの有無を判定するパターン有無判定部1012や倍率補正部1014、歪曲補正部1018、画像合成部1015及びそれら画像を動画形式で圧縮保存する記憶部1111を備える。 - 特許庁
In the extraction of planning pattern data, a predetermined range of respective X and Y including defect coordinates is calculated at every defect by a control calculator 110 and a cluster or cell data wherein the origin is present within a predetermined range is subsequently extracted from the planning pattern data read from a first magnetic disk drive 109a to form an output file. 設計パターンデータの抽出は、欠陥一つ毎に、制御計算機110が欠陥座標を包含するX、Yそれぞれの所定範囲を算出し、次いで、第1の磁気ディスク装置109aから読み出した設計パターンデータから、所定範囲内に原点が存在するクラスタまたはセルデータを抽出して出力ファイルを作成する。 - 特許庁
To provide a new radiation sensitive resin composition that has a sufficient patternform even on a substrate having a step even when an antireflective film is not formed on the substrate using a thin film, forms a resist film with a small pattern variation width, has sufficient sensitivity, and has high focal latitude and exposure latitude. 薄膜で基板上に反射防止膜を形成していない場合であっても、段差のある基板上であっても、良好なパターン形状を有し、パターン変動幅の小さいレジスト膜を形成可能であり、かつ、良好な感度を有し、焦点余裕度及び露光余裕度にも優れた新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
The manufacturing device 1 for the electronic circuit board includes a laser 3 configured to form a predetermined hydrophilic pattern on a water-repellent surface of a substrate B having the water-repellent surface by irradiating the substrate B with light or an electron beam, and an ink head 2 having a print head 21 for discharging ink containing a conductive component onto the pattern. 電子回路基板の製造装置1は、撥水性の表面を有する基板Bに光または電子線を照射することにより前記基板Bの表面に親水性を有する所定パターンを形成するレーザー3と、前記パターン上に導電性成分を含むインクを吐出するプリントヘッド21を有するインクヘッド2と、を備えている。 - 特許庁
To provide an electrically conductive ink composition which can form a good electrically conductive small-gauge wire pattern and enables low temperature firing or curing by ultraviolet irradiation, a printing method which can simply print a good electrically conductive small-gauge wire pattern with the use of the electrically conductive ink composition, and a print formed by the printing method. 良好な導電性細線パターンを形成することができ、低温焼成もしくは紫外線照射による硬化が可能な導電性インキ組成物、該導電性インキ組成物を用いて良好な導電性細線パターンを簡便に印刷することができる印刷方法、及び該印刷方法により形成された印刷物を提供する。 - 特許庁
The image-focusing lenses 30, 30 and the reflecting mirror 40 form the light distribution pattern corresponding to the array of the plurality of LEDs 22, ... in the light source array 20, and expand respective irradiation ranges of the plurality of LEDs 22, ... in the light distribution pattern at a prescribed magnification distribution, while transforming the light emitted from the light source array 20 into parallel light. 結像レンズ30,30及び反射鏡40は、光源アレイ20における複数のLED22,…の配列に対応した配光パターンを形成するとともに、光源アレイ20から出射された光を平行光に変換しつつ、配光パターンにおける複数のLED22,…の各照射範囲を所定の倍率分布で拡大させる。 - 特許庁
A first region requiring a high driving capacity is irradiated with CW laser light at a low rate under a state where an a-Si film is patterned by lithography and etching into an island pattern 11 (or a ribbon pattern) whereas a second region not requiring a high driving capacity is irradiated with the CW laser light in the form of a solid a-Si film. 高い駆動能力を要する第1の領域には、a−Si膜をアイランドパターン11(又はリボンパターン)にリソグラフィー及びエッチングによりパターニングした状態でCWレーザ光を低速で照射し、高い駆動能力を要しない第2の領域には、a−Si膜のベタ膜のままCWレーザ光を高速で照射する。 - 特許庁
The resist pattern forming method exposes a photoresist film to form a resist pattern by irradiating the photoresist film with radiation, while a liquid (immersion liquid) is interposed that has higher index of refraction than air. 空気より屈折率の高い液体(液浸液)を介在させた状態でフォトレジスト膜に対して放射線を照射することにより、そのフォトレジスト膜を露光させてレジストパターンを形成するレジストパターン形成方法であって、保護膜を、下記条件(1)を満たす保護膜剥離液を用いて、前記フォトレジスト膜の表面から剥離させる工程(d)を備えたレジストパターン形成方法。 - 特許庁
This invention provides the patternform provided with a base material and characteristic change layers formed on both sides of the base material, where characteristics are changed by the action of a photocatalyst accompanying energy irradiation, and a characteristic change pattern for which the characteristics of the characteristic change layers on both sides are changed is provided. 上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材の両面に形成され、かつエネルギー照射に伴う光触媒の作用により特性が変化する特性変化層とを有し、両面の前記特性変化層の特性が変化した特性変化パターンを有することを特徴とするパターン形成体を提供する。 - 特許庁
To provide a multilayer film for forming a wiring pattern of a wiring board which can maintain high resolution of a photosensitive resin film, can form a wiring pattern of 30 μm or less, has high adhesiveness between the photosensitive resin film and a resin film, and is suited to mobile communication equipment, semiconductor element storing packages, etc., and to provide a wired multilayer film. 感光性樹脂膜の解像度を高く維持し、30μm以下の配線パターン形成が可能で、感光性樹脂膜と樹脂フィルムとの密着性が良好な移動体通信機や半導体素子収納用パッケージなどに適した配線基板の配線パターン作製用の多層フィルムおよび配線付き多層フィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁
The method of forming wiring includes: jetting a colloidal metal solution onto a receptive layer base material having a porous receptive type layer formed on the surface thereof by an inkjet system based on image data of a conductive pattern and drawing; and then executing migration-proof treatment for applying a migration-proof solution to form a wiring having the conductive pattern. 多孔質型受容層が表面に形成された受容層付基材上に、導電性パターンの画像データに基づいて、金属コロイド溶液をインクジェット方式により吐出して描画した後、マイグレーション防止溶液を塗布するマイグレーション防止処理を行って前記導電性パターンを持つ配線を形成することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁
By using a set of patterns comprising a universal start pattern and an end pattern and document structure information, regions between parts corresponding to the set of the patterns from a plurality of documents are respectively extracted; and the results therefrom are collected and reconstructed according to the document structure information and layout information and displayed in a form allowing a user to edit them. 汎用的な開始パターン及び終了パターンからなるパターンの組と文書構造情報を用いて、複数の文書から前記パターンの組に該当する個所の間の領域をそれぞれ抽出し、結果を前記文書構造情報とレイアウト情報に従って集約して再構成し、ユーザが編集可能な状態で表示する。 - 特許庁
In the manufacturing method of the magnetic recording medium, the magnetic film is formed on a substrate, a resist is applied on the magnetic film, a stamper is imprinted to the resist to transfer a rugged pattern and the magnetic film is worked by ion-milling to form a magnetic film pattern while the resist residue is left in the recessed part of the patterned resist after the stamper is removed. 基板上に磁性膜を形成し、前記磁性膜上にレジストを塗布し、前記レジストに対してスタンパをインプリントして凹凸パターンを転写し、前記スタンパを除去した後、パターン化されたレジストの凹部にレジスト残渣を残したままイオンミリングにより前記磁性膜を加工して磁性膜パターンを形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 特許庁
An area signal generation part and a logical operation circuit control a dot pattern forming part which forms a dispersed dots image, by dispersing a plurality of dot developer images each having an area of at least one dot, so as not to form a dot pattern in the area of a patch image to be formed by a patch image forming part or the sensing area of the patch image. 領域信号生成部及び論理演算回路が、パッチ画像形成部により形成されるパッチ画像の領域又はパッチ画像の読み取り領域にドットパターンが形成されないように、少なくとも1つのドット単位の面積を有するドット現像剤像を複数分散したドット分散画像を形成するドットパターン形成部を制御する。 - 特許庁
To provide a method for forming a pattern by which an alignment mark can be accurately detected to form a pattern even when high positional accuracy is required with a small-sized high performance device, in exposure techniques in a photolithography process of a semiconductor device and a printed wiring board or in a simple curing process of a photosensitive resin. 本発明は、半導体素子やプリント配線板などにおけるフォトリソグラフィ工程或いは単に感光性樹脂を硬化させる工程における露光技術に関し、小型化、高性能化に伴ない高い位置精度が必要とされる場合でも、的確にアライメントマークの検出し、パターンを形成することができる、パターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
The method is used to manufacture a wiring board, wherein a pattern wiring is formed on a board, and it includes an aerosol film formation step of forming a conductive layer by collision of aerosol and a patterning step of patterning the conductive layer by etching and form the pattern wiring including the conductive layer. 基板上にパターン配線が形成されてなる配線基板の製造方法であって、前記基板上に、エアロゾルの衝突によって導電層を形成するエアロゾル成膜工程と、前記導電層をエッチングによりパターニングして当該導電層を含む前記パターン配線を形成するパターニング工程と、を有することを特徴とする配線基板の製造方法。 - 特許庁
When a photosensitive resin composition layer disposed on the surface of a substrate is exposed through a pattern mask and either the unexposed regions or the unexposed regions and the surface of the substrate under the unexposed regions are sandblasted to form a rugged pattern, a photosensitive resin composition layer containing a urethane-acrylic resin having no carboxyl group as a base polymer is used. 基材面に設けた感光性樹脂組成物層にパターンマスクを介して露光を行った後、未露光部分又は未露光部分と該未露光部分の下部の基材面をサンドブラスト加工して凹凸模様を形成させるにあたり、カルボキシル基を含有しないウレタンアクリル系樹脂を、ベースポリマーとして含む感光性樹脂組成物層を使用する。 - 特許庁
In a manufacturing method of the smart label web, including smart labels having a circuit pattern and an integrated circuit, a smart label material web in a web form, having the circuit pattern and the integrated circuit is manufactured, one smart label is separated from this smart label material web, and the one smart label is introduced between the top surface web and the bottom surface web. 回路パターンおよび集積回路をそれぞれに有するスマートラベルを含むスマートラベルウェブの製造方法は、回路パターンおよび集積回路をそれぞれに有するウェブ形式でスマートラベル素材ウェブを製造し、このスマートラベル素材ウェブから1枚のスマートラベルを離し、この1枚のスマートラベルを表面ウェブおよび裏面ウェブ間に導入する。 - 特許庁
The method for forming the resist pattern comprises forming the resist layer on the substrate, then forming the protective film on the resist layer by using the protective film forming material, selectively exposing the resist layer to electron beams or EUV through the protective layer, then after subjecting to PEB (post exposure bake), removing the protective film, and developing the resist layer to form the resist pattern. 基板上にレジスト層を形成した後、該レジスト層上に前記保護膜形成用材料を用いて保護膜を形成し、該保護膜を介して前記レジスト層を電子線またはEUVにより選択的に露光し、PEB(露光後加熱)を施した後、前記保護膜を除去し、前記レジスト層を現像してレジストパターンを形成するレジストパターン形成方法。 - 特許庁
The method comprises a step of forming alignment marks 1 together with a device pattern on a semiconductor wafer, a step of coating the semiconductor wafer with resist, a step of aligning exposure positions according to the alignment marks 1, and a step of exposing specified regions to form alignment deviation measuring marks 2 at specified positions near the alignment marks 1 together with a resist pattern. 半導体ウエーハ上に、デバイスパターンとともに、アライメントマーク1を形成する工程と、半導体ウエーハ上にレジストを塗布する工程と、前記アライメントマーク1により、露光位置合わせを行う工程と、所定領域を露光し、レジストパターンとともに、前記アライメントマーク1近傍の所定位置に、合わせずれ計測用マーク2を形成する工程を備える。 - 特許庁
The ECU performs sub-communicating control based on a sub-driving pattern being different from the main driving pattern in driving form of each opening and closing valve (step S52) when the non-braking operation determining conditions A are satisfied if a first elapsed time T1 from the completion of communicating control exceeds a prescribed time KT1 (YES at step S41). そして、ECUは、連通制御が完了してからの第1経過時間T1が規定時間KT1以上になった場合(ステップS41が肯定判定)において非ブレーキ操作判定条件Aが成立したときには、メイン駆動パターンとは各開閉弁の駆動態様が異なるサブ駆動パターンに基づくサブ連通制御を実行する(ステップS52)。 - 特許庁
The result of the display in the sub display area 312 inevitably affects the display result already stopped in the display area 311 and the respective display results from the sub display area 312 and the display area 311 are combined in a specified style to form a sub specified display pattern equivalent to the specified display pattern depending on cases. 副表示領域312における表示結果は、前記表示領域311において既に停止した表示結果に影響を及ぼすものであり、前記副表示領域312および表示領域311の各表示結果を所定態様で組み合わせることで、特定表示態様と同等の副特定表示態様が形成される場合がある。 - 特許庁
The patternform comprises a substrate, a property changing layer formed on the substrate, containing at least a photocatalyst, fine metal particles and a property imparting agent, and undergoing a change in property due to irradiation with energy, and a property changed pattern obtained by patternwise changing a property of the property changing layer. 上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上に形成され、少なくとも光触媒、金属微粒子、および特性付与剤を含有し、エネルギー照射により特性が変化する特性変化層と、前記特性変化層の特性がパターン状に変化した特性変化パターンを有することを特徴とするパターン形成体を提供する。 - 特許庁
To improve the print precision of a conductor pattern forming a coil and reduce a characteristic difference in an inductance value or the like, in a laminated chip inductor wherein a non-magnetic electric insulation layer and a conductor pattern are alternately printed and laminated through screen printing to form a coil and a lead conductor for connecting the coil to an external terminal is formed. 非磁性電気絶縁層と導体パターンがスクリーン印刷で交互に印刷積層されることによりコイルが形成されるとともに、そのコイルを外部端子に接続する引き出し導体が形成された積層チップインダクタにおいて、上記コイルを形成する導体パターンの印刷精度を高め、インダクタンス値等の特性誤差を小さくする。 - 特許庁
This repair method fills a missing part of a barrier rib formed on a substrate and its vicinity with a photosensitive resin composition, forms a relief pattern in an area excluding the missing part by applying a photolithography method so as to form the missing part into a recessed part, fills the recessed part with a barrier rib material, and removes the relief pattern. 基板上に設けられた障壁の欠落部分及びその近傍に感光性樹脂組成物を充填し、フォトリソ法を適用して前記欠落部分以外の部分にレリーフパターンを形成して前記欠落部分が凹部となるようにし、この凹部に障壁材料を充填し、レリーフパターンを除去することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの障壁の補修方法。 - 特許庁
Then a relating pattern reference part 17 refers to the specified pattern and a data processing part 16 performs dot gain quantity correction processing and screen processing for an original image whose screen kinds are specified by objects based upon dot gain quantity correction data related to the kinds of the respective screen to form a press plate image. そして、関連付けパターン参照部17が、指定されるパターンを参照するとともに、データ処理部16が、各網の種類に対して関連付けられたドットゲイン分補正データに基づいて、オブジェクト毎に網の種類が指定された原画像に対するドットゲイン分補正処理、および網掛け処理を実施して、刷版画像を作成する。 - 特許庁
To secure required brightness while forming a light distribution pattern for low beam having a clear cutoff line at its top end part, on the basis of the installation number of luminaire units suppressed, for a headlight for a vehicle structured so as to form a given light distribution pattern by light irradiation from the luminaire units with semiconductor light-emitting elements as light sources. 半導体発光素子を光源とする灯具ユニットからの光照射により、所定の配光パターンを形成するように構成された車両用前照灯において、灯具ユニットの設置個数を少なく抑えた上で、上端部に鮮明なカットオフラインを有するロービーム用配光パターンを形成するとともに所要の明るさを確保する。 - 特許庁
Moreover, among the patterns required to form a liquid crystal display, such as a conductive layer for wiring layer or electrode, a mask for forming a predetermined pattern and the like, at least one or more of them is formed by a method, by which a pattern can be formed selectively, and a liquid crystal display is manufactured. また本発明は、配線層若しくは電極を形成する導電層や、所定のパターンを形成するためのマスクなど半導体装置を作製するために必要なパターンのうち、少なくとも一つ若しくはそれ以上を、選択的にパターンを形成可能な方法により形成して、液晶表示装置を作製することを特徴とするものである。 - 特許庁
To provide a conductive pattern material, having a wide range of applications which can attain high-resolution minute patterns, even when applied to the formation of a wiring, etc., using a plurality of different materials without necessitating complicated processes or expensives devices, and can directly form a pattern on a substrate based on digital data with superior conductivity and durability. 複雑な工程や高価な装置を必要とせず、複数の異なる材料を用いた配線などの形成に適用した場合にも、高解像度の微細なパターンが得られ、且つ、デジタルデータに基づき基材上に直接パターン形成が可能な、優れた導電性と耐久性とを有する応用範囲の広い導電性パターン材料を提供する。 - 特許庁
In manufacturing an organic EL element by a roll-to-roll process, a mask formed of a sheet-like flexible film having an adhesive surface and a predetermined opening pattern is stuck to a sheet-like substrate, and a second electrode is formed over the mask, and thereafter the mask is peeled off to form a second electrode having a predetermined pattern. ロールトゥロールにより有機EL素子を製造するのに際し、粘着面および所定の開口パターンを有するシート状のフレキシブルフィルムからなるマスクを、シート状の基板に対して貼り合せ、上記マスクの上から上記第2電極を形成した後、上記マスクを剥離して所定パターンを有する第2電極を形成するようにした。 - 特許庁
A circuit device is equipped with an optical path 101 as a three- dimensional body which serve as an optical path for optical communication, a circuit layer 105 possessed of a circuit pattern formed like an outer shell around the optical path, and optical communication parts 102 and 103, which form a part of the circuit containing the circuit pattern. 光通信用の光路となる立体物としての光路部101と、この光路部の周りに外殻のように形成された回路パターンを有する回路層105と、光路部と回路層との間に位置し、光路部を介して光通信を行うことにより、回路パターンを含む回路の一部を構成する光通信部102、103とを備える。 - 特許庁
A liquid droplet 2 of a solution containing organic EL material (functional material) giving colors such as red, green, and blue is given using a liquid injection head so that each color is arranged in a mosaic manner on a transparent electrode pattern 4 of the glass substrate 5 with a barrier 3 surrounding the ITO transparent electrode pattern 4 to form the organic EL substrate (functional substrate). ITO透明電極パターン4を囲む障壁3付きガラス基板5の透明電極パターン4上に赤、緑、青に発色する有機EL材料(機能性材料)を各色がモザイク状に配列されるように、液体噴射ヘッドを用いて有機EL材料を含む溶液の液滴2を付与して、有機EL基板(機能性基板)を形成する。 - 特許庁
Direction programs A-D for directing the fluctuation form of respective patterns after fluctuation start until stop establishment when changing the plural patterns displayed at a pattern display part 4 by pattern fluctuation start signals are selected based on the decision of a special prize and the direction programs A'-D' are selected based on the decision of losing respectively at random. 図柄変動開始信号により図柄表示部4に表示される複数の図柄を変動させる際の、変動開始から停止確定するまでの各図柄の変動形態を演出する演出プログラムA〜Dが、特賞の決定に基づいて、また演出プログラムA′〜D′はハズレの決定に基づいてそれぞれランダムに選択される。 - 特許庁
An insulating layer 4 is formed on a first wiring pattern 3 of a printed wiring board 2 by the resin composition and the surface of the insulating layer 4 is chemically treated thereby removing the inorganic filler to form unevenness on the surface followed by electroless plating thereby forming a conductor layer (a second wiring pattern 5) to give a multilayered printed wiring board 1. また、プリント配線基板2の第1の配線パターン3上に上記樹脂組成物によって絶縁層4を形成し、この絶縁層4の表面を化学的に処理して無機フィラーを除去して表面に凹凸を形成した後に、無電解めっきを施すことによって導体層(第2の配線パターン5)を形成して多層配線基板1とした。 - 特許庁
To form a finger wiring pattern 71a to be a thick film (high aspect ratio) when forming finger wiring patterns 71a, 71b intersecting a bus wiring pattern 73a on a principal surface of a substrate 9 and prevent end thickening 3 and end thinning 4 of the finger wiring patterns 71a, 71b from occurring on an exposed surface of the substrate 9. バス配線パターン73aに対して交差するフィンガー配線パターン71a,71bを基板9の主面に形成する際に、フィンガー配線パターン71aを厚膜(高アスペクト比)に形成するとともに、基板9上の露出面にフィンガー配線パターン71a,71bの終端太り3および終端細り4が発生することを防止する。 - 特許庁
The circuit pattern is made to have such a structure that it can be peeled off from the base of the printed board, and a conductor pattern or solder is separated from base of the printed board, thus making a form easy for recovery and recycling route of metal by increasing metallic element rate and preventing harmful heavy metals such as lead or the like from being disposed in the natural environment. 回路パターンについてもプリント基板のベース部分から引き剥がすことが可能な構造とすることにより、導電パターンやはんだをプリント基板のベース部分と分離することにより、金属成分割合を増加させ金属の回収・リサイクルルートに乗せ易い形態とするとともに、鉛等の有害重金属が自然環境に放出されることを防ぐ。 - 特許庁
To provide a decorative object which can be formed, easily and in a short time, of patterns such as characters and pictures obtained by a laser cutter, save a manufacturing cost by enabling the patterns to be exhibited in a three-dimensional form without using a picture frame or a case, and can be displayed conspicuously by relieving the pattern with the irregular reflection of a light from a pattern surface. 本発明は文字や絵等の模様をレーザーカッターによって、容易に短時間に行なうことができ、額縁やケース体を用いることなく立設状態で展示できるようにしてコストの低減を図ることができ、かつ模様面の光の乱反射によって模様を浮き上がらせ、目立つように展示することができる装飾体を得るにある。 - 特許庁
In a state that an electrode is preformed in the vicinity of the boundary part of the scheduled coating pattern formed on a substrate, a coating material is charged with charge having a predetermined code and, in a state that voltage having the same code as the charge is applied to the electrode, the coating material is supplied to the substrate to form the coating pattern. 基板に形成する予定の塗布パターンの境界部近傍に予め電極を形成した状態で、塗布材料を所定の符号を持つ電荷に帯電させると共に、前記電極に前記電荷と同符合の電圧を印加した状態で、前記基板に向けて前記塗布材料を供給して前記塗布パターンを形成したことで解決できる。 - 特許庁
By providing one pattern for generating a Z signal at a location corresponding to a reference location within the range of extent of a light beam with which the surface of a scale 9 to form A-phase and B-phase light is irradiated in the vicinity of a periodic pattern on the scale 9, three signals of A phase, B phase and the Z signal are obtained by one beam. 上記のA相、B相光を形成させるスケール上の周期的パターンの近傍で、かつこのスケール面を照射している光ビームの広がりの範囲内の基準位置に対応した位置にZ信号発生用のパターンを1箇所設けておくことにより1本のビームでA相、B相およびZ信号の3信号を得る構成とした。 - 特許庁
When predetermined time elapses after a test pattern detection means 30 detects a toner image 40 of a test pattern formed on an intermediate transfer belt 11 by an upstream-side toner image forming unit 20 adjacent thereto, an exposure part 231 starts to form an electrostatic latent image corresponding to a toner image 50 of a printed image on a surface of a photoreceptor drum 21. テストパターン検出手段30が、隣接する上流側のトナー像形成ユニット20が中間転写ベルト11上に形成したテストパターントナー像40を検出してから、所定時間経過後に露光部231が、感光体ドラム21表面に対して印刷画像トナー像50に対応する静電潜像形成を開始するように構成する。 - 特許庁
This method of forming the microstructure includes a process to form a light shielding mask pattern 11 for shielding light with a prescribed wavelength on the surface of a substrate 7 containing a material which emits light when light having prescribed energy is irradiated to it, and a process to apply a photo-polymerizable photo-polymerization material 9 to the top face of the substrate 7 on which the light shielding mask pattern 11 is formed. 所定のエネルギを有する光が照射されることにより発光する材料を含む基板7の表面に、所定の波長の光を遮光する遮光マスクパターン11を形成する工程と、遮光マスクパターン11が形成された基板7の上面に、光重合性を有する光重合材料9を塗布する工程とを備える。 - 特許庁
The method for applying the jointing material 12 used in fitting of a mounting part to a T-surface pattern 11 or a T-structured part is characterized in that the pasted jointing material 12 is applied to the pattern 11 or the T-structured part in the dispersed form of two or more spots. 表面形状がT字型のパターン11あるいはT字型構造部に、実装部品を実装する際に使用される接合材料12の塗布方法において、前記パターン11あるいはT字型構造部に2点あるいはそれ以上に分散した形でペースト状の接合材料12を塗布することを特徴とする接合材料の塗布方法。 - 特許庁
The thin and long masks 5 and the mask 4 having the pattern are used as an etching mask, and anisotropic etching of which etching speed in a widthwise direction is higher than that in a thickness direction is adopted to form a specified pattern in the ZnO layer 3 to be left, and then the ZnO layer 3 to be removed is removed and the square masks 5 are peeled. 複数の細長のマスク5及び上記パターンのマスク4とをエッチングマスクとして、厚さ方向のエッチング速度よりも幅方向のエッチング速度が速い異方性エッチングにより、残存対象のZnO層3に所定のパターンを形成するとともに、除去対象のZnO層3を除去して複数の矩形マスク5を剥離する。 - 特許庁
Although this form is followed even in the modern times, the degree of freedom on irome (color combinations) has increased and the Emperor Showa's daughters' hosonaga are ordered with many kasane (a sort of layered garment), and also after the war, that of Princess Sugako is of double fabrics of arabesque pattern of white pine upper design on red hexagonal pattern base, and that of Princess Mako is of double fabrics with a white chrysanthemum on a branch woven with plural colored threads on red hexagonal pattern base, and that of Princess Aiko is of double fabrics of circles of white chrysanthemums on a branch (usu kurenai for nakabe, moegi for ura (background), a combination of colors) woven with plural colored threads on kurenai mie tasukiji (a sort of pattern) background.
近代においてもこの形式が踏襲されているが、色目は自由度が増して、昭和天皇の皇女の細長は各種の重ねで調進されており、戦後も清子内親王のそれは紅亀甲地に白松唐草の上紋の二重織物、眞子内親王のそれは紅亀甲地に複数の色糸で白菊折枝を織った二重織物、愛子内親王のそれは紅三重襷地に複数の色糸で白菊折枝の丸(中倍薄紅裏萌黄)を織った二重織物となっている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Two kinds of 1st and 2nd mask layers 1 and 2 which have a large etching selection ratio are laminated and cut along the laminating direction to form a mask substrate and the 1st mask layer 1 is selectively etched by using a resist pattern as an etching mask to form a mask having a mask opening (beam transmission part) C determined by the film thickness d1 of the 1st mask layer 1. エッチング選択比の大きい2種類の第1および第2のマスク層1,2を積層し、積層方向に沿って切断することによりマスク基板を形成し、レジストパターンをエッチングマスクとして第1のマスク層1を選択的にエッチングすることで、第1のマスク層1の膜厚d1によって決まるマスク開口(ビーム透過部)Cを有するマスクが形成される。 - 特許庁