「g/l」を含む例文一覧(400)

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  • The water solubility of the alkali earth metal salt is larger than 1×10^-2 g/L and preferably lies in the range of 1×10^-2 and 1×10^-1 g/L.
    アルカリ土類金属塩の水への溶解度は、1×10^-2 g/lよりも大きく、好ましくは1×10^-2〜1×10^-1 g/lの間にある。 - 特許庁
  • The plating liquid is preferably admixed with potassium pyrophosphate by 30 to 100 g/l, boric acid by 20 to 50 g/l and ethylenediamine or the derivative thereof by 0.05 to 150 g/l.
    このめっき液には、ピロリン酸カリウムを30〜100g/l、ホウ酸を20〜50g/l、エチレンジアミン又はその誘導体を0.05〜150g/l添加することが好ましい。 - 特許庁
  • The pickling agent can contain 5 to 15 g/L hydrogen peroxide and 5 to 10 g/L sodium persulfate as well.
    更に過酸化水素5〜15g/L、過硫酸ナトリウム5〜10g/Lを含有させることができる。 - 特許庁
  • The compositions comprise salts of strontium that have a water-solubility of from about 1 g/l to about 100 g/l at room temperature.
    室温で約1g/l〜約100g/lの水溶性を有するストロンチウムの塩からなる組成物。 - 特許庁
  • The content of H_2SO_4 in the galvanizing bath is preferably ≥75 g/L, more preferably ≥90 g/L.
    めっき浴中に含有するH_2SO_4は好ましくは75g/L以上、さらに好ましくは90g/L以上である。 - 特許庁
  • The acidic plating bath comprises zinc chloride of 10 to 100 g/L, potassium chloride of 100 to 250 g/L, ammonium chloride of ≤30 g/L, and denatured polyethylene imine of 0.05 to 5 g/L.
    塩化亜鉛10〜100g/L、塩化カリウム100 〜250g/L、塩化アンモニウム30g/L 以下、および変性ポリエチレンイミン0.05〜5g/Lを含有する酸性めっき浴とする。 - 特許庁
  • The zinc phosphate treatment agent for cold working contains phosphoric ions of 5 to 120 g/l, zinc ions of 3 to 70 g/l, nitric ions of 5 to 120 g/l and cobalt ions of 0.05 to 0.4 g/l.
    リン酸イオン5〜120g/l、亜鉛イオン3〜70g/l、硝酸イオン5〜120g/l及びコバルトイオン0.05〜0.4g/lを含むことを特徴とする冷間加工用リン酸亜鉛処理剤。 - 特許庁
  • The zinc phosphate treatment agent for cold working contains phosphoric ions of 5 to 120 g/l, zinc ions of 3 to 70 g/l, nitric ions of 5 to 120 g/l, and magnesium ions of 0.1 to 0.5 g/l.
    リン酸イオン5〜120g/l、亜鉛イオン3〜70g/l、硝酸イオン5〜120g/l及びマグネシウムイオン0.1〜0.5g/lを含むことを特徴とする冷間加工用リン酸亜鉛処理剤。 - 特許庁
  • Preferably the hydroxylammonium ions are 0.2 to 5 g/L, the phosphate ions 5.0 to 30 g/L, the zinc ions 0.5 to 5.0 g/L and the bivalent iron ions 0.2 to 50 g/L.
    ヒドロキシルアンモニウムイオンは0.2〜5g/L、りん酸イオンは5.0〜30g/L、亜鉛イオンは0.5〜5.0g/L、2価の鉄イオンは0.2〜50g/Lである事が好ましい。 - 特許庁
  • This plating bath of a pH 4.0 to 6.5 is prepared by adding 0.5 to 10 g/L polyethyleneimine of an average molecular weight of 3,000 to 70,000 preferably together with 0.5 to 30 g/L polyoxyethylene of an average molecular weight of 200 to 1,000 to a sulfuric acid galvanizing bath of a relatively low concentration.
    比較的低濃度の硫酸亜鉛めっき浴に、平均分子量3000〜70,000ポリエチレンイミン 0.5〜10 g/Lを、好ましくは平均分子量 200〜1000のポリオキシエチレン 0.5〜30 g/Lと一緒に添加したpH 4.0〜6.5 のめっき浴。 - 特許庁
  • This electrolytic copper plating film is formed by the electrolytic copper plating method using the electrolytic copper plating solution which contains 20 to 150 g/L copper sulfate and 30 to 250 g/L chelating agent and does not contain a reducing agent of copper ions and is regulated to a pH 10.5 to 13.5.
    この電解銅めっき皮膜は20〜150 g/Lの硫酸銅及び30〜250 g/Lのキレート剤を含有し、かつ銅イオンの還元剤を含有しない、pHを10.5〜13.5に調整した電解銅めっき液を使用する電解銅めっき方法により形成される。 - 特許庁
  • This urine collection preserving liquid comprises an aqueous solution containing 300-600 g/L of monohydric lower alcohol, 100-500 g/L of polyalkylene glycol, 1-30 g/L of formaldehyde, 2-20 g/L of acetic acid, and 30-200 g/L of butane-diol, as essential components.
    必須成分として300〜600g/Lの低級一価アルコール、100〜500g/Lのポリアルキレングリコール、1〜30g/Lのホルムアルデヒド、2〜20g/Lの酢酸、30〜200g/Lのブタンジオールを含む水溶液からなる。 - 特許庁
  • This pickling agent for stainless steel contains phosphoric acid by 50 to 500 g/L, hydrofluoric acid or the salt thereof by 1 to 300 g/L and persulfuric acid or the salt thereof by 1 to 500 g/L and further containing aromatic sulfonic acid or the salt thereof by 0.01 to 50 g/L and a nonionic surfactant by 0.01 to 50 g/L.
    リン酸を50〜500g/L、弗酸又はその塩を1〜300g/L、過硫酸又はその塩を1〜500g/Lの量で含有し、さらに芳香族スルホン酸又はその塩を0.01〜50g/L、非イオン界面活性剤を0.01〜50g/Lの量でも含有するステンレス鋼用酸洗剤。 - 特許庁
  • As this water solution, the water solution dissolving ≥2 g/L ammonium chloride and ≥2 g/L disodium hydrogen- phosphate, is suitably used.
    当該水溶液として、塩化アンモニウム:2g/L以上、およびリン酸水素二ナトリウム:2g/L以上を溶解させた水溶液が好適に用いられる。 - 特許庁
  • The rust preventive coating agent preferably contains further 1 to 250 g/L zirconium compound and 1 to 300 g/L water dispersible silica.
    防錆被覆剤は、さらにジルコニウム化合物を1〜250g/l及び水分散性シリカを1〜300g/l含むことが好ましい。 - 特許庁
  • A nickel plating bath 1 contains: nickel sulfamate of 350-600 g/L; and nickel acetate of 20-50 g/L.
    ニッケルめっき浴1として、スルファミン酸ニッケルを350〜600g/Lと、酢酸ニッケルを20〜50g/Lとを含むめっき浴を提供する。 - 特許庁
  • The prime coat treating agent preferably contains further 1 to 250 g/L zirconium compound and 1 to 300 g/L water dispersible silica.
    下地処理剤は、さらにジルコニウム化合物を1〜250g/l及び水分散性シリカを1〜300g/l含むことが好ましい。 - 特許庁
  • Preferably, the concentration of bivalent tin ions is 1 to 100 g/L and the concentration of zinc ions is 0.2 to 80 g/L in a tin-zinc alloy plating bath.
    好ましくは、錫−亜鉛合金めっき浴中の2価の錫イオン濃度は1〜100g/Lであり、亜鉛イオン濃度は0.2〜80g/Lである。 - 特許庁
  • As the plating bath composition, sulfamate nickel is contained as much as 150-650 g/l and citrate is contained as much as 5-60 g/l.
    メッキ浴組成として、スルファミン酸ニッケル150〜650g/l、クエン酸塩5〜60g/lを含むものである。 - 特許庁
  • Electrocast liquid A used has specifications of nickel ion concentration 650 g/l, boric acid 40 g/l, pH3.9 with a liquid temperature of 55°C.
    電鋳液Aとして、Niイオン濃度650g/l、硼酸40g/l、pH3.9、液温度55℃のものを使用した。 - 特許庁
  • Preferably the pest control agent has an amount of silver elution in water of 0.05 mg/(g L day) to 5 mg/(g L day).
    有害生物防除剤は、水中への銀溶出量が0.05mg/g・L・日以上、5mg/g・L・日以下であるものが好ましい。 - 特許庁
  • The chemical conversion treatment solution comprises bisulfite of 60 to 100 g/L and gelatine of 5 to 30 g/L, and its pH is controlled to 2 to 5.
    60〜100g/リットルの重亜硫酸塩と、5〜30g/リットルのゼラチンとを含み、pH2〜5に調整された化成処理溶液。 - 特許庁
  • The aqueous acaricide solution includes at least 10 up to 100 g/L, particularly preferably 40 to 60 g/L of sodium hydrogen carbonate.
    炭酸水素ナトリウムを少なくとも10g/l、100g/lより多くはない量を含むダニ駆除水溶液であり、40g/l〜60g/lの炭酸水素ナトリウムが特に好適である。 - 特許庁
  • This cleaning liquid includes 80-700 g/L of phosphoric acid and 0.5-100 g/L of a nonionic detergent, and has a pH of 0.5-3.0.
    リン酸80g/L〜700g/Lと非イオン性界面活性剤0.5g/L〜100g/Lとを含むことと、pH0.5〜3.0であることと、を備える。 - 特許庁
  • The mixed acid liquid has a concentration of the hydrofluoric acid of 20 to 150 g/L and a concentration of the nitric acid of 20 to 85 g/L.
    この混酸液のフッ化水素酸濃度を20〜150g/L、硝酸濃度を20〜85g/Lとする。 - 特許庁
  • The gold cyanide compound is preferably contained in an amount of 0.5 to 10 g/L in terms of gold ion concentration, and the oxalic acid and/or a salt thereof is preferably contained in an amount of 5 to 50 g/L.
    シアン化金化合物は金イオン濃度で0.5〜10g/L、シュウ酸及び/又はその塩は5〜50g/Lが好ましい。 - 特許庁
  • The solution may comprise nickel chloride of 3 to 5 g/L as a stabilizer.
    安定剤として3〜5g/リットルの塩化ニッケルを含んでもよい。 - 特許庁
  • The concentration of the diamine is suitably 0.6 to 24 g/L.
    ジアミンの濃度は好適には0.6g/L〜24g/Lである。 - 特許庁
  • Preferably, the saccharin sodium is comprised by ≥15 g/l.
    好ましくは、サッカリンナトリウムを15g/l以上含有させる。 - 特許庁
  • The ratio of roasted bean curd refuse (g) to water or boiling water (l) is 0.1-500 (g/l).
    焙煎おから(g)対水又は熱湯(l)の比(g/l)が0.1〜500である。 - 特許庁
  • The concentration of salt of the electrolytic solution in the step (2) is not more than 10 g/L.
    工程(2)における電解液は塩分濃度が10g/L以下である。 - 特許庁
  • The electrolytic peeling agent for the phenolic resin containing 5 to 500 g/L ≥1 kind of alkali hydroxides, 1 to 300 g/L ≥1 kind of organic amines, and further, 1 to 300 g/L ≥1 kind of organic acids and/or their salts and 0.01 to 50 g/L ≥1 kind of surfactants, and the electrolytic peeling method is provided.
    水酸化アルカリの一種以上を5〜500g/L、有機アミンの一種以上を1〜300g/L含有し、更に有機酸及び/又その塩の一種以上を1〜300g/L、界面活性剤の一種以上を0.01〜50g/L含有するフェノール樹脂用電解剥離液及び電解剥離方法。 - 特許庁
  • The hydrophilic coating composition contains 5-60 g/l of a polyvinyl alcohol resin, 10-120 g/l of a polyethylene glycol resin, 6-60 g/l of at least either of a urethane resin and an acrylic resin, and 0.05-5 g/l of oolong tea components.
    ポリビニルアルコール系樹脂を5〜60g/リットルと;ポリエチレングリコール系樹脂を10〜120g/リットルと;ウレタン系樹脂及びアクリル系樹脂の少なくともいずれか一方を6〜60g/リットルと;烏龍茶成分を0.05〜5g/リットルと;含有することを特徴とする親水性塗料組成物。 - 特許庁
  • Disclosed is an etching liquid for copper comprising: sulfuric acid of 60 to 220 g/L; hydrogen peroxide of 5 to 70 g/L; and water, and comprising: phenyl tetrazoles of 0.01 to 0.7 g/L; and nitro benzotriazoles of 0.01 to 1.5 g/L, and further comprising: benzenesulfonic acids; and chloride ions.
    硫酸60〜220g/L、過酸化水素5〜70g/L及び水を含む銅のエッチング液であって、フェニルテトラゾール類を0.01〜0.7g/L、及びニトロベンゾトリアゾール類を0.01〜1.5g/L含み、更にベンゼンスルホン酸類、塩化物イオンを含むエッチング液。 - 特許庁
  • The pickling agent contains 10 to 200 g/L sulfuric acid or 5 to 150 g/L hydrochloric acid, 1 to 40 g/L of one or more selected from hydrofluoric acid, fluorosilicic acid and sodium fluoride, and 5 to 40 g/L Fe^3+, and is made pasty by being admixed with a viscosity impartation agent.
    硫酸10〜200g/Lあるいは塩酸5〜150g/Lと、フッ酸、フッ化珪酸、フッ化ナトリウムから選ばれる1または2以上を1〜40g/Lと、Fe^3+イオン5〜40g/Lとを含有し、粘性付与剤を加えてペースト状にした酸洗剤。 - 特許庁
  • The secodione derivative is used in the reaction batch at a concentration of ≥10 g/l.
    セコジオン誘導体は、反応バッチ中で、≧10g/lの濃度で使用される。 - 特許庁
  • In order to manufacture the aluminum support for the lithographic printing form, an aluminum plate is roughened and anodized and further sealing treated with an aqueous solution including an inorganic fluorine compound with the concentration of at least 0.5 g/L and not more than 4.0 g/L and a phosphate compound with the concentration of at least 1 g/L and below 10 g/L.
    アルミニウム板を粗面化し、陽極酸化し、さらに、濃度0.5g/L以上〜4.0g/L以下の無機フッ素化合物と、濃度1g/L以上〜10g/L未満のリン酸塩化合物とを含む水溶液で封孔処理することを特徴とする平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法。 - 特許庁
  • The zinc plated articles are obtained by plating base materials by using a zinc cyanide bath which is preferably of 50 to 160 g/L in caustic soda concentration, 10 to 30 g/L in zinc concentration and over 3 and below 4 in the ratio of [sodium cyanide concentration g/L/zinc concentration g/L] and is added with a brightening agent.
    この亜鉛メッキ品は好ましくは苛性ソーダ濃度が50〜160g/L、亜鉛濃度が10〜30g/L、[青化ソーダ濃度g/L/亜鉛濃度g/L]の比が3を超え4以下であり、光沢剤を添加したシアン化亜鉛浴を用いて基材にメッキして得られる。 - 特許庁
  • The nickel-plating solution contains 600 to 650 g/L of nickel sulfamate, 5 to 6 g/L of nickel chloride, and 25 to 35 g/L of boric acid.
    本発明の一実施例に係るニッケルめっき液は、600〜650g/Lのスルファミン酸ニッケルと、5〜6g/Lの塩化ニッケルと、25〜35g/Lのホウ酸と、を含む。 - 特許庁
  • This plating bath contains zinc of 1 to 65 g/L, potassium of 20 to 300 g/L, ≥2C aliphatic amine and/or polyalkylene polyamine of 0.01 to 35 g/L.
    このメッキ浴は、1〜65g/Lの亜鉛と、20〜300g/Lのカリウムと、0.01〜35g/Lの炭素数2以上の脂肪族アミン及び(又は)ポリアルキレンポリアミンとを含有することを特徴とする。 - 特許庁
  • The chromium-free rust preventive coating agent for the precoated steel sheet is composed of an aqueous solution containing 0.1 to 50 g/L sulfur compound, 0.1 to 50 g/L phosphorus-containing ion, and 0.5 to 500 g/L water dispersible polyurethane.
    硫黄含有化合物を0.1〜50g/l、リン含有イオンを0.1〜50g/l及び水分散性ポリウレタンを0.1〜500g/l含む水性液からなる塗装鋼板用クロムフリー防錆被覆剤。 - 特許庁
  • The electrodeposition plating bath for forming the cobalt-platinum alloy magnetic film contains 0.5-20 g/l of cobalt chloride hexahydrate, 2-60 g/l of chloroplatinic acid (IV), and 0.5-50 g/l of ammonium tartrate.
    塩化コバルト六水和物を0.5〜20g/Lと、塩化白金酸(IV)を2〜60g/Lと、酒石酸アンモニウムを0.5〜50g/Lとを含有することを特徴とするコバルト−白金合金の磁性膜形成用電析めっき浴とした。 - 特許庁
  • A hydrogen embrittlement evaluating method employs ammonium chloride bath containing ZnCl_2: 80 g/l to 300 g/l, NH_4Cl: 100g/l-300 g/l, and brightener: 10 ml/l-50 ml/l.
    ZnCl_2:80g/l超300g/l以下、NH_4Cl:100〜300g/l、光沢剤:10〜50ml/lを含有する塩化アンモン浴を用いることを特徴とする水素脆化評価方法。 - 特許庁
  • The soln. contains 0.05-30 g/l silver ion, 0.1-200 g/l hydantoin compd. and 0.01-10 g/l fluoric surfactant and further contains an inorg. acid, an org. acid or both as the pH buffer salt.
    銀イオン0.05〜30g/l、ヒダントイン化合物0.1〜200g/l、フッ素系界面活性剤0.01〜10g/l含有し、PHバッファー塩として無機酸または有機酸若しくは両方を含む。 - 特許庁
  • In the treating agent, preferably, 2 to 80 g/l of tannine or tannic acid, 2 to 80 g/l of a silane coupling agent and to 40 g/l of particulate silica are contained.
    処理剤中には、タンニンまたはタンニン酸2〜80g/l、シランカップリング剤2〜80g/l、微粒シリカ1〜40g/lを含有することが好ましい。 - 特許庁
  • This non-cyanogen base silver-plating solution contains dimethyl hydantoin silver complex in terms of 1-75 g/L silver concentration, 0.1-10.0 g/L sulfide and 50-250 g/L dimethyl hydantoin, and pH in this solution is 7-13.
    ジメチルヒダントイン銀錯体を銀濃度で1〜75g/Lと、亜硫酸塩を0.1〜10.0g/Lと、ジメチルヒダントインを50〜250g/Lとを含有し、pH7〜13であることを特徴とする非シアン系銀めっき液とした。 - 特許庁
  • The soln. contains 0.05-30 g/l silver ion, 0.1-200 g/l ≥1 kind between succinimide and phthalimide and 0.01-10 g/l fluorine surfactant and further contains an inorg. acid, an org. acid or both as the pH buffer salt.
    銀イオン0.05〜30g/l、コハク酸イミドおよびフタル酸イミドのうち1種以上0.1〜200g/l、フッ素系界面活性剤0.01〜10g/l含有し、PHバッファー塩として無機酸または有機酸若しくは両方を含む。 - 特許庁
  • The gold-containing plating solution for partial plating includes 1.0 to 15 g/l of a cyanide salt of gold in gold content terms, 10 to 100 g/l of an aliphatic α-amino acid, and 10 to 100 g/l of a conductive salt.
    シアン化金塩を金含有量として1.0〜15g/lと、脂肪族α−アミノ酸10〜100g/lと、伝導塩10〜100g/lと、を含有する金含有部分めっき用めっき液。 - 特許庁
  • An NaOH concentration in the aqueous solution of caustic soda after the oxidation leaching operation has been finished is preferably 0.1 to 150 g/L, is more preferably 4 to 80 g/L, and is most preferably 30 to 80 g/L.
    酸化浸出が終了した際の苛性ソーダ水溶液中のNaOH濃度は0.1〜150g/Lであるのが好ましく、4〜80g/Lであるのがさらに好ましく、30〜80g/Lであるのが最も好ましい。 - 特許庁
  • The method of manufacturing copper sulfate includes adding sulfuric acid into a liquid after copper electrolysis by a PC (Permanent Cathode) method which is operated in such that copper sulfate concentration is at most 180 g/L and copper concentration is at most 52 g/L so that sulfuric acid concentration after heating concentration may become 300-350 g/L, and subsequently performing crystallization by three times cooling.
    硫酸銅濃度が180g/L以下、かつ 銅濃度が52g/L以下で操業したPC法による銅電解後液に、加熱濃縮後硫酸濃度が300-350g/Lとなるように硫酸を添加し、続いて、3回冷却による結晶化を行う。 - 特許庁
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