「hole pattern」を含む例文一覧(1670)
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ホールパターン形成方法 - 特許庁 - FORMING METHOD OF HOLE PATTERN
ホールパターンの形成方法 - 特許庁 - FORMATION OF HOLE PATTERN
ホールパターンの形成方法 - 特許庁 - HOLE PATTERN FORMING METHOD
ホールパターンの形成方法 - 特許庁 - HOLE PATTERN FORMING METHOD
ホールパターン形成方法 - 特許庁 - FORMING METHOD OF FINE HOLE PATTERN
微細ホールパターンの形成方法 - 特許庁 - A Pachinko machine 1 includes a normal pattern starting hole 96 and a special pattern starting hole 82.
パチンコ機１は、普通図柄始動口９６および特別図柄始動口８２を備えている。 - 特許庁 - The second hole pattern 8' is disposed to encircle the periphery of the first pattern hole 7'.
第２のホールパターン８′は、第１のホールパターン７′の外周部を取り囲むように配置されている。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method for forming a hole pattern in high density.
ホールパターンを高密度に形成するパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR DESIGNING HOLE PATTERN, AND PHOTOMASK
ホールパターン設計方法、およびフォトマスク - 特許庁 - CIRCUIT PATTERN FOR INSPECTING BLIND VIA HOLE MISREGISTRATION
ブラインドビアホール位置ずれ検査用回路パターン - 特許庁 - The hole 2 is connected to a bonding pattern 7.
プレス穴２は、ボンディングパターン７に接続されている。 - 特許庁 - LOCAL COOLING HOLE PATTERN
局部的な冷却空気開口パターン - 特許庁 - METHOD FOR FORMING FINE RESIST HOLE PATTERN
微細レジストホールパターン形成方法 - 特許庁 - MASK AND METHOD FOR FORMING HOLE PATTERN BY USING THE MASK
マスク及びそれを用いたホールパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING HOLE PATTERN AND ELECTRONIC PART
ホールパターンの形成方法及び電子部品 - 特許庁 - FINE PATTERN AND METHOD OF FORMING VIA HOLE
微細配線及びビアホールの形成方法 - 特許庁 - Then, the second hole pattern 8' is coated to form a second resist pattern 12 having an opening corresponding to the first hole pattern 7'.
次に、第２のホールパターン８′を被覆し、第１のホールパターン７′に対応した開口部を有する第２のレジストパターン１２を形成する。 - 特許庁 - If the result of a lottery is a blank, a three-dimensional pattern different from a left pattern (first pattern) and a right pattern (third pattern) is rotationally displayed in the black hole 40, while the pattern is being moved outwardly from the interior of the hole 40.
抽選結果が「はずれ」ならば左図柄（第１図柄）、右図柄（第３図柄）とは別の３次元図柄をブラックホール４０で奥から手前に移動させなが回転表示する。 - 特許庁 - METHOD OF DETECTING HOLE PATTERN AND HOLE PATTERN DETECTOR, AND METHOD OF MEASURING HOLE AREA AT HOLE CENTER, AND DEVICE FOR MEASURING AREA OF HOLE AT THE HOLE CENTER
ホールパターン検出方法及びホールパターン検出装置、ホール中央部の穴面積測定方法及びホール中央部の穴面積測定装置 - 特許庁 - To provide a method for pattern formation that can form a pattern which renders the dimension of a trench pattern or a hole pattern, effectively fine, without producing any scum.
トレンチパターンやホールパターンの寸法を実効的に微細化したパターンをスカムを発生させずに形成する方法の提供。 - 特許庁 - Each through hole connects a pattern included in the first pattern group and a pattern included in the second pattern group.
各スルーホールは、第１のパターン群に含まれるパターンと第２のパターン群に含まれるパターンとを接続する。 - 特許庁 - In the printed wiring board having a surface layer pattern, an internal layer pattern and a through-hole for connecting the surface layer pattern and internal layer pattern, the testing pad is disposed at a position for connecting the through-hole and pattern.
表層パターンと、内層パターンと、表層パターンと内層パターンを接続するスルーホールとを備えたプリント配線板であって、前記スルーホールとパターンとの接続部位にパッドを設けた。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method and a pattern formation device capable of forming a conductor on a hole part by modifying only an inner face of hole parts such as a via hole, a contact hole, and a through hole.
ビアホール、コンタクトホール、スルーホール等の穴部の内面のみを改質して、穴部に導体を形成することができるパターン形成方法およびパターン形成装置を提供する。 - 特許庁 - A specified coat pattern of an overcoat 13 comprises a closure pattern 13c which closes the hole part 7a.
オーバコート１３の所定のコートパターンに孔部７ａを塞ぐ閉塞パターン１３Ｃを含む。 - 特許庁 - An inverter is formed integrally on the through-hole pattern or the conductive pattern.
スルーホールパターン上又は導通パターン上にインバータを一体的に設ける。 - 特許庁 - A terminal 12 connected to an antenna and the copper pattern 3 and a copper pattern 13 are connected by a through hole 14.
アンテナと接続される端子１２と、銅パターン３、１３とは、スルーホール１４で接続される。 - 特許庁 - The antenna pattern 15 is connected to an antenna pattern on the reverse surface through a through hole 14.
また、アンテナパターン１５は、スルーホール１４を介して裏面のアンテナパターンに接続されている。 - 特許庁 - The wafer is finally etched to form a groove pattern 23 and a hole pattern 24.
最後にエッチングを行って溝状パターン２３および穴状パターン２４を形成する。 - 特許庁 - The maximum size of the intermediate pattern, in which a three-dimensional pattern is displayed, is larger than that of the black hole 40.
３次元図柄が表示される中図柄の最大の大きさはブラックホール４０よりも大きい。 - 特許庁 - To reduce a circuit pattern area, and to increase dimensional accuracy of a hole pattern.
回路パターン面積を縮小するとともに、ホールパターンの寸法精度を高める。 - 特許庁 - By etching with the first resist pattern 8 as a mask, a connection hole pattern is formed in the inorganic stopper layer 7 and the first insulation film 6.
第１のレジストパターン８上から有機絶縁膜５をエッチングする。 - 特許庁 - The antenna pattern 15 is connected to an antenna pattern 23 on the reverse side through a through-hole 14.
アンテナパターン１５は、スルーホール１４を介して裏面のアンテナパターン２３に接続されている。 - 特許庁 - Moreover, the rectangular pattern 10 is connected to the lower layer wiring pattern 5 via a contact hole 12.
また、矩形パターン１０は、コンタクトホール１２を介して下層の配線パターン５に接続される。 - 特許庁 - To pattern a shape at a good accuracy for processing when a micro hole pattern like a contact hole in a semiconductor integrated circuit is formed.
半導体集積回路におけるコンタクトホールのような微細穴パターンを形成する場合に、形状を精度良くパターニングし且つ加工すること。 - 特許庁 - The insulating film has a first through hole GO1 penetrating to the independent wiring pattern and a second through hole GO2 penetrating to the continuous wiring pattern.
絶縁膜は、独立配線パターンまで貫通する第１貫通口ＧＯ１と、連続配線パターンまで貫通する第２貫通口ＧＯ２とを有する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which occurrence of a not-yet-opened hole pattern is reduced by reducing variation in hole pattern size.
ホールパターンの寸法のばらつきを抑え、ホールパターンの未開口の発生を抑制する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The second master pattern and the pattern to be measured are positioned so as to match the coordinate system of the hole, they are compared and the hole is inspected (step 108).
穴の座標系が一致するように第２のマスタパターンと被測定パターンを位置合わせし、これらを比較して穴を検査する（ステップ１０８）。 - 特許庁 - A heat shrink method is used to form a first hole pattern 7' and a second hole pattern 8' on a processed film 2.
被加工膜２の上に、熱シュリンク法を用いて、第１のホールパターン７′および第２のホールパターン８′を形成する。 - 特許庁 - The starting and the finishing (stopping) of the picture pattern variation pattern performance are distributed to the separate winning holes (start winning hole 46 and stopping winning hole 47).
図柄変動パターン演出開始と、演出終了（停止）とを、別個の入賞口（始動入賞口４６及び停止入賞口４７）に振り分けた。 - 特許庁 - The spacing between the center of the first hole pattern for level difference inspection and the center of the second hole pattern for level difference inspection is confined to ≤5a.
第１の段差検査用ホールパターンの中心と第２の段差検査用ホールパターンの中心との間隔を５ａ以下とする。 - 特許庁 - METHOD OF FORMING HOLE PATTERN AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR
ホールパターンの形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁 - A wiring pattern 10 forms a loop around the hole 6.
配線パターン１０は、穴６の周囲でループを形成する。 - 特許庁 - HOLE PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR
ホールパターン形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - A first fixing member projecting from the connector base part of the transmission type connector is applied only to a first hole pattern among the first hole pattern formed on a transmission type connector packaging face of the device, and a second hole pattern formed on a reception type connector packaging face of the device and different from the first hole pattern.
送信型コネクタのコネクタ基部から突出する第１の固定部材は、装置の送信型コネクタ実装面に形成された第１の穴パターンと、装置の受信型コネクタ実装面に形成された、第１の穴パターンと異なる第２の穴パターンのうち、第１の穴パターンにのみ適合する。 - 特許庁 - The phase transition pattern can be arranged in the contact hole.
前記相転移パターンは前記コンタクトホール内に配置することができる。 - 特許庁 - ONE-TOUCH SWITCHING DEVICE OF PUNCH HOLE PATTERN AND SWITCHING THEREOF
パンチ孔パターンのワンタッチ式切替装置及びその切替方法 - 特許庁 - The system for evaluating the hole pattern shape comprises a means for shifting the center of a hole pattern to the center of polar coordinate development, and means for forming a two-dimensional image where the radial coordinate axis and the angular coordinate axis of the hole pattern are one-dimensional by performing polar coordinate development of a hole pattern image about one point thereof.
極座標展開中心へ、ホールパターンの中心を移動させる手段と、ホールパターン像の一点を中心として極座標展開し、ホールパターンの半径方向の座標軸と角度座標軸をそれぞれ一次元とする二次元画像を形成する手段とを備える。 - 特許庁 - A phase transition pattern for partially filling the contact hole is formed.
前記コンタクトホールを部分的に埋め込む相転移パターンを形成する。 - 特許庁 - HALF-TONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND HOLE PATTERN FORMING METHOD
ハーフトーン型位相シフトマスク及びホールパターン形成方法 - 特許庁
- 特許庁
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