「horizontal solution」を含む例文一覧(64)
1 2 次へ＞- A plurality of the cleaning nozzles 9 are arranged so as to face to each other in a longitudinal and horizontal directions, for injecting rinsing solution and the other cleaning solution E.
洗浄ノズル９は、前後左右にわたり多数対向配設されており、水洗液その他の洗浄液Ｅを噴射する。 - 特許庁 - The fire extinguisher solution is introduced from the horizontal direction in relation to the orifice 35.
消火剤水溶液はオリフィス３５に対して水平方向から導入されるようになっている。 - 特許庁 - The first processing part 12 performs paddle processing in a chemical solution while carrying the substrate S in a horizontal posture.
第１処理部１２は、基板Ｓを水平姿勢で搬送しながら薬液によるパドル処理を実施する。 - 特許庁 - A coating solution supply device 2 is driven while moving a coating solution discharge device 3 in a relatively horizontal direction with respect to the member 13 to be coated placed on a support stand to supply the coating solution to the coating solution discharge device 3 and the coating solution is applied to the member 13 to be coated through the nozzle of the coating solution discharge device 3.
支持台上に載置した被塗布部材１３に対して塗布液吐出装置３を相対的に水平方向へと移動させながら、塗布液供給装置２を駆動して塗布液吐出装置３に塗布液を供給し、塗布液吐出装置３のノズルを介して被塗布部材１３に塗布液を塗布する。 - 特許庁 - The washing solution ejected from the nozzle 15 is narrow in the horizontal direction (perpendicular direction as seen in Fig. 4) and is spread like a fan in the longitudinal direction (horizontal direction in Fig. 4).
ノズル１５から噴射される洗浄液は、左右方向（図４紙面直角方向）に細幅でかつ前後方向（図４左右方向）に扇状に広がるようにされる。 - 特許庁 - Thus, the soaking length of the horizontal reactor can be set to '2 μ the length from the rotary center in the solution tank housing 32 to the outermost position of the solution tanks 33-36' in minimum and the space efficiency of the horizontal reactor can be increased.
したがって、横型反応炉の均熱長を最小で「溶液槽収納部３２における回転中心から溶液槽３３〜３６の最外位置までの長さ×２」にでき、横型反応炉のスペース効率を高めることができる。 - 特許庁 - The catalyst deposition method involves keeping the honeycomb type carrier approximately horizontal and drying the carrier in such a state when the honeycomb type carrier immersed in the catalyst solution is pulled out the solution.
また前記触媒液浸漬したハニカム状担体を触媒液からの引き上げ時に略水平に保ち乾燥させることを特徴とする触媒担持方法とした。 - 特許庁 - Inverse translation and inverse horizontal flip transforms are applied to the equation to produce an equation based solution of the melt curve dataset.
水平反転と水平並進を利用して融解曲線を変換し、次いでそのデータにダブルシグモイド式を適合させる。 - 特許庁 - In addition, arranging "1" in the horizontal square group 54 in the puzzle area 51 is also prohibited according to the basic rule, so the puzzle solution tool 1 is also placed in this horizontal square group 54.
また、パズル領域５１内にある横マス群５４にも「１」を配置することは基本規則に基づいて禁止されるので、この横マス群５４にもパズル解答具１が載置される。 - 特許庁 - To provide horizontal extension method and apparatus of a film by a solution producing film which can improve the productivity of the film by starting the horizontal extension of the film from an earlier time.
フィルムの横延伸をより早い時期から開始してフィルムの生産性を向上させることができる、溶液製膜によるフィルムの横延伸方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - The method for producing the cellulose film is characterized by extruding the tertiary amine oxide solution of cellulose from a T-die, charging the extruded solution into a coagulating liquid, and flowing the coagulating liquid in the direction opposite to the horizontal taking direction of the solution.
セルロースの第三級アミンオキシド溶液をＴダイから押し出し、成型された該溶液を凝固液に投入し、凝固液を該溶液の水平引取方向とは逆方向に流すことを特徴とする前記セルロースフィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The horizontal electrophoresis apparatus comprises a supply, circulation and discharge mechanism of buffer solution, a supply and discharge mechanism of stain solution, and a scan mechanism capable of converting, into digital data, positional information of the nucleic acid or protein from the lower side of the horizontal electrophoresis apparatus to the inside of the horizontal electrophoresis apparatus and optical information such as color, intensity and the like of the place.
水平型電気泳動装置において、緩衝液の供給、循環、排出機構、および染色液の供給、排出機構を儲け、水平型電気泳動装置の下方から、電気泳動装置内の核酸、またはタンパク質の位置情報と、その個所の色、強度などの光学的な情報をデジタルデータに変換可能な走査機構を設ける。 - 特許庁 - The sheet molding machine supplies a solution to a secondary storage unit having an open upper part for supplying solution to a blade for molding the sheet at an angle of 20° or more downward with respect to a horizontal plane.
シート成形用ブレードへ溶液を供給するための上部が開放された２次貯留部へ、水平面に対して２０°以上下向きの角度で溶液を供給するシート成形装置とする。 - 特許庁 - To uniformly treat the surface of a substrate with a treatment solution concerning a device for converting the substrate into an inclining posture after forming the liquid layer of the treatment solution on the surface of the substrate in a horizontal state.
水平状態で基板表面に処理液の液層を形成した後、基板を傾斜姿勢に変換する装置において、基板表面内を処理液で均一に処理できるようにする。 - 特許庁 - To provide a sealed lead storage battery which will not have its electrolyte solution leaked from an exhaust outlet even if the solution is poured in the instant before the battery is used in a horizontal state on a bicycle or the like involving vibration.
使用直前に電解液を注液して直ちに横置きで二輪車等振動の加わるものに使用しても排気部から電解液が漏洩することのない密閉形鉛蓄電池を提供する。 - 特許庁 - A boat 24, on which a semiconductor substrate 35 and a solution 42 are mounted, rotates on its own axis and is revolved according to the rotation of a rotation box 25, thereby the solution 42 and the semiconductor substrate 35 are uniformly and continuously moved in the horizontal direction.
ボート２４は、半導体基板３５および溶液４２を搭載して回転箱２５の回転に伴って自公転し、溶液４２および半導体基板３５を水平方向に万遍なく連続的に移動させる。 - 特許庁 - When the amount of the solution decreases, the bottom 8 of the container body 4 is once turned downward and then turned horizontal as the small amount of the solution is stored in the liquid reservoir 11, the solution in the reservoir 11 can be injected downward by sucking the solution by a suction tube 5, and the remaining amount in the container body 4 can be decreased by repeating this operation.
溶液量が少なくなったときには、一旦、容器本体４の底部８を下にした後に水平にすると、少ない溶液は液溜め１１に貯留されるので、該液溜め１１の溶液を吸引チューブ５で吸引して下向きに噴射することができ、この操作を繰り返すことによって、容器本体４内の残量を少なくすることができる。 - 特許庁 - The stirring blade 7 has an upper face inclined relative to a horizontal plane to drop a raw material of the resin composition solution charged from above.
攪拌翼７は、上方より投入された樹脂組成物溶液の原料が下方に落下するように水平面に対して傾斜構造とされている上面を有する。 - 特許庁 - Accordingly, excess coating solution on the substrate flows to the mist scattering prevention member horizontal to the face of a substrate to be coated with the coating film and the mist generation can be prevented.
これにより、基板上の過剰な塗布液が基板塗布膜形成面と水平なミスト飛散防止部材に流れ、かつミストの発生を防止することができる。 - 特許庁 - In the method and the apparatus for treating the flat and fragile substrate (2), one or more substrates (2) are passed through a bath solution (14) in a horizontal state.
１つ以上の基板（２）が水平通過で浴液（１４）を通して案内される、平坦な壊れやすい基板（２）を処理するための方法及び装置が記載されている。 - 特許庁 - A supersaturated solution from which crystals are precipitated is charged to a crystallization cell 2, it is mounted on a mounting stand 11 inside a magnetic field mechanism 10, and a horizontal magnetic field 1 in one direction is applied thereto.
結晶を析出させる過飽和溶液を結晶化セル２に入れ、磁場機構１０内の載置台１１の上に載置し、水平な一つの方向の磁場１をかける。 - 特許庁 - The crystals grown while being orientated in the solution are made uniform in the same direction by the action of the horizontal magnetic field in one direction, and are layered while retaining the uniform state.
溶液中の配向して成長した結晶は、水平な一方向の磁場の作用により同じ方向に揃い、その揃った状態を保ったまま積層する。 - 特許庁 - In the method of lift-off, a surface of a wafer 2 is set in a range of angles, in which the surface thereof is located to face continuously, starting from the horizontal direction in the downward direction, inside a chemical solution.
リフトオフ方法において、ウエハ２の表面を横方向から連続的に下方向に向く状態になる角度範囲で薬液中に設置すること。 - 特許庁 - In the substrate processing apparatus for supplying process solution on a substrate surface by conveying the substrate in the horizontal direction, the substrate processing apparatus includes a substrate support unit for attaching the substrate to the bottom plane, a shower unit for supplying the process solution, being located downward being spaced with the substrate at a predetermined interval, and a conveyer unit conveying the substrate support unit in the horizontal direction.
基板を水平方向に搬送して基板の表面に処理液を供給する基板処理装置において、基板を底面に付着する基板支持ユニット、基板と所定の間隔で離隔して下部に位置し、処理液を供給するシャワーユニット、基板支持ユニットを水平方向に搬送する搬送ユニットを含む基板処理装置。 - 特許庁 - While the prescribed flow rate of a developing solution is being discharged from the developing solution feeding nozzle 70, the horizontal nozzle arm 76 is moved to the direction of arrow F at a suitable scanning speed, and the horizontal nozzle arm 76 is moved to the prescribed position located above the canter part of the prescribed position located above the center part of the semiconductor wafer W from the discharge starting position.
現像液供給ノズル７０より所定の流量で現像液を吐出させながら、適当なスキャン速度で水平ノズルアーム７６が矢印Ｆの方向に移動して、所定の時間をかけて、現像液ノズル７０を吐出開始位置から半導体ウエハＷの中心部の上方に設定された所定の位置まで移動させる。 - 特許庁 - The problem is solved by the horizontal extension method and apparatus of the film by a solution film producing method and its apparatus by a solution film producing method which first fixes the ear end by a pin, and then fixes the ear end by changing to a clip in a method of drying and extending in a horizontal direction while the ear end of the film remaining in a volatile component is fixed and conveyed.
上記課題は、揮発分が残存しているフィルムの耳端部を固定して搬送しながら乾燥及び横方向の延伸を行う方法において、まず耳端部の固定をピンで行い、その後耳端部の固定をクリップに切り替えることを特徴とする、溶液製膜法によるフィルムの横延伸方法と、その装置によって解決される。 - 特許庁 - Furthermore, a solution of the simple closed form capable of being applied to foundation design is presented by applying a formula for the analysis of the horizontal displacement associated with the pile group foundation and the pile draft foundation, which allows the incorporation of an interaction coefficient giving consideration to a pile group effect when they bear the horizontal force.
さらに水平力を受ける場合の群杭効果を考慮した相互作用係数を組み入れた群杭基礎およびパイルドラフト基礎に関する水平変位の解析式を適用し、基礎設計に適用できうる簡便な閉じた形(closed form)の解を提示した。 - 特許庁 - The cleaning device 1 has a cleaning nozzle 9 for injecting the cleaning solution E to the substrate material C which is conveyed in a horizontal attitude by a conveyor 6; a reverse direction nozzle 10 for injecting the cleaning solution E to to the upstream side; and air nozzles 11 for injecting air G, in this order.
そして、コンベヤ６にて水平姿勢で搬送される基板材Ｃに対し、洗浄液Ｅを噴射する洗浄ノズル９と、上流側に向け洗浄液Ｅを噴射する逆方向ノズル１０と、エアーＧを噴射するエアーノズル１１とを、順に有してなる。 - 特許庁 - The developing nozzle can move in a horizontal direction from the first washing tank toward the second washing tank and can supply a developing solution onto a top surface of the substrate.
前記現像ノズルは前記第１洗浄タンクから前記第２洗浄タンクに向う水平方向に移動することができ、前記基板の上部面上に現像液を供給することができる。 - 特許庁 - The developing nozzle can move in a horizontal direction from the first washing tank toward the second washing tank and can supply a developing solution onto a top surface of the substrate.
前記現像ノズルは前記第１洗浄タンクから前記第２洗浄タンクに向う水平方向に移動することができ、前記基板の上部面上に現像液を供給することができる。 - 特許庁 - A liquid reservoir 11 in which a solution stays when the container is set horizontal is formed at a corner of the bottom 8 of a container body 4, and the tip of a suction tube 5 is guided into the liquid reservoir 11.
容器本体４の底部８の隅部に、容器を水平にしたとき溶液が溜まる液溜め１１を形成して、吸引チューブ５の先端部を前記液溜め１１に導く。 - 特許庁 - To provide a substrate surface processing apparatus capable of suppressing degradation of an etching speed due to stay of a low-concentration medical solution, in a substrate surface processing apparatus of a horizontal transport method.
水平搬送方式の基板表面処理装置において、低濃度薬液の滞留によるエッチング速度の低下を抑えることのできる基板表面処理装置を得ること。 - 特許庁 - The etching agent for copper or a copper alloy consists of an aqueous solution containing hydroxylamine keeping the solution alkaline, and suppressing the decomposition of an oxidizer, an oxidizer for oxidizing copper, and accelerating its dissolution into the solution, ammonium salt feeding ammonia ions into the solution, and accelerating the dissolution of copper, and an azole compound suppressing the dissolution of copper in the vertical direction, and accelerating the dissolution of copper in the horizontal direction.
液をアルカリ性に保って酸化剤の分解を抑制するヒドロキシルアミン、銅を参加して液中への溶解を促進するための酸化剤、液中にアンモニヤイオンを供給して銅の溶解を促進するアンモニウム塩および垂直方向の銅の溶解を抑制し水平方向の銅の溶解を促進するアゾール化合物を含有する水溶液からなる銅または銅合金のエッチング剤ならびにエッチング方法。 - 特許庁 - Consequently, since the heating means 14 is stably arranged on a horizontal face in the tank main body 10, the floating body 12 also lowers in accordance with reduction of liquid level due to absorption of the solution when thawing and absorbing the frozen solution to thaw the solution frozen in the tank main body 10 properly and sufficiently.
これにより、加熱手段１４をタンク本体１０内の水平面で大きく且つ安定的に配置するので、氷結した溶液を解凍して吸引する際には、溶液の吸引による液面の低下に伴ってフロート体１２も降下し、タンク本体１０内で氷結した溶液を適切に且つ十分に解凍することができる。 - 特許庁 - To provide a horizontal type fluid support plating device in which the flow of a plating solution in an electrolytic cell is made uniform, the deposition of sludge in the electrolytic cell is prevented even when a plating solution producing a large quantity of the sludge is used and the deterioration of plating quality due to the effect of the flow rate is prevented.
電解槽のめっき液の流れを均一にし、スラッジ発生の多い電解液を使用する場合でも、電解槽内のスラッジ堆積を防止し、流速の影響を受けて、めっき品質の低下を生じさせない水平型流体支持めっき装置を提供する。 - 特許庁 - The resist solution on the substrate is fluidized by locally enhanced interfering longitudinal waves and moved in horizontal direction by the reciprocal motion of the substrate G to planarize it.
基板Ｇ上で干渉し局所的に強められた縦波により基板Ｇ上のレジスト液の流動が促され，基板Ｇの往復移動によりレジスト液が水平方向に動かされて，レジスト液が平坦化される。 - 特許庁 - In a state where a wafer W is dipped in a cleaning solution of a cleaning tank 22, a dried gas is supplied in a drying chamber 23 substantially horizontally, obliquely below than the substantially horizontal direction or below vertically.
洗浄槽２２の洗浄液にウエハＷが浸された状態で乾燥室２３内において乾燥ガスを略水平方向、略水平方向よりも斜め下方または鉛直方向下方に供給する。 - 特許庁 - To provide a horizontal transportation type surface treatment apparatus for a platy work-piece, which can prolong the life of a roller and a surface treatment solution through preventing the adhesion of contaminants to the roller, and can stably transport the platy work-piece.
ローラへのごみの付着を防止してローラや表面処理液の寿命を長くでき、また、板状ワークを安定して搬送できる、板状ワークの水平搬送式表面処理装置を提供すること。 - 特許庁 - Substrate treatment equipment has a spin chuck 1 holding a wafer W in approximately horizontal manner and being rotated, a sulfuric-acid nozzle 2 for supplying the surface of the wafer W held to the spin chuck 1 with sulfuric acid (H_2SO_4) and a hydrogen-peroxide solution nozzle 3 for supplying the surface of the wafer W, held to the spin chuck 1 with a hydrogen-peroxide solution.
ウエハＷをほぼ水平に保持して回転するスピンチャック１と、このスピンチャック１に保持されたウエハＷの表面に硫酸（Ｈ２ＳＯ４）を供給するための硫酸ノズル２と、スピンチャック１に保持されたウエハＷの表面に過酸化水素水を供給するための過酸化水素水ノズル３とを備えている。 - 特許庁 - A basket-like barrel 5 with an upper side thereof opened is rotatably inserted in a treatment tank 2 which can assume two positions of the horizontal state and the tilted state, the treatment tank 2 is tilted together with the barrel 5, and a treatment solution spray nozzle 20 is inserted in the barrel 5 to spray the treatment solution on the article in the barrel 5.
上面を開放した篭形のバレル５を水平な状態と傾動した状態の２位置をとることができるようにした処理槽２に回転自在に挿入し、処理槽２をバレル５と共に傾動させ、バレル５内に処理液噴射ノズル２０を挿入して処理液をバレル５内の被処理物に噴射するようにした。 - 特許庁 - The chemical fluid processing device applies chemical solution treatment on both the upper and lower surfaces of the intermediate product, parallel to a transferring surface upon the transfer process of the intermediate product of printed circuit substrate along a transfer path 10, having a horizontal transfer surface.
薬液処理装置は、水平な移送面を有した移送経路１０に沿ってプリント配線基板の中間製品を移送する過程にて、前記移送面に平行な前記中間製品の上下両面を薬液処理する。 - 特許庁 - The treatment solution is drooped between electrodes 3 and 4 hung in mutually opposing states by rectifier means 7 and 7, while moving the material to be treated S in a nearly horizontal direction between the electrodes 3 and 4 to conduct surface treatment of the material to be treated S.
対向状態に垂設された電極３，４間に整流手段７，７により処理液を垂下させるとともに、電極３，４間に被処理物Ｓを略水平方向に走行させて被処理物Ｓの表面処理をおこなう。 - 特許庁 - Thus, the accumulation of the cleaning solution W in between the closing position of the drainage vertical pipe 14 and the cleaning port 12x enables sonic cleaning of the vertical drainage pipe 14, a drainage pipe joint 12, and drainage horizontal branch pipes 16, 17.
このため、排水立て管１４の閉鎖部位から掃除口１２ｘまでの間に洗浄液Ｗを溜めて排水立て管１４、排水管継手１２及び排水横枝管１６,１７を音波洗浄できるようになる。 - 特許庁 - The pickling stones are made of resin concrete and have each vertical open-holes bored so that the pickling solution may flow through the open holes and a plurality of open holes may be allowed to distribute on the horizontal flat face of the picking stones.
樹脂コンクリート製の漬物石であって、漬け汁が流れるように上下に貫通する通孔を有し、漬物石の平面に対して複数の通孔が分散して設けられていることを特徴とする樹脂コンクリート製漬物石。 - 特許庁 - When a horizontal jet angle of the cleaning solution coming out from the diffusion jet nozzle 14 becomes smaller than the prescribed angle under a low temperature, the cleaning solution from nozzle 16, which is less affected by the low temperature, is jetted linearly to the vicinity of both ends of the area within the prescribed wide angle to ensure the wiping performance of the wiper blade.
低温時、拡散噴射口１４から噴射される洗浄液の水平方向の角度が所定の広角度より小さくなっても、低温による影響を受け難いジェット噴射口１６から噴射される洗浄液が所定の広角度の両端部近傍に線状に噴射されるので、ワイパブレードによる払拭性能を確保することができる。 - 特許庁 - In the etching apparatus to spray the etching solution from a spray nozzle on a surface of the printed circuit board carried by a carrying roll in the horizontal direction, flat spray nozzles are arranged in an inclined manner in the V-shape to the axis of the carrying roll.
搬送ロールにより水平に搬送されるプリント回路基板の表面に、スプレーノズルによりエッチング液を噴霧するようにしてなるエッチング装置において、スプレーノズルとしてフラット状スプレーノズルを搬送ロール軸に対しハ字状に傾斜配置してなる。 - 特許庁 - Sulfate, hydrogen sulfate, azoles and carbonate are incorporated into an etching solution comprising sulfate peroxide as the main agent, so that the easily treatable etching solution for copper and copper alloys free from the occurrence of unpleasant gas, having satisfactory work environmental properties, a high ratio (etching factor) between the etching rates in vertical and in horizontal directions and improved etching accuracy is prepared.
過酸化硫酸塩を主剤とするエッチング液に、硫酸塩、硫酸水素塩およびアゾール類、さらに炭酸塩を含有することで、不快なガスなどの発生も無く、作業環境性が良く、取り扱いも簡単で，垂直方向へのエッチング速度と左右方向へのエッチング速度の比（エッチファクター）が大きく、エッチング精度が向上する銅および銅合金のエッチング液。 - 特許庁 - In this liquefying apparatus 1, styrene is efficiently crushed into a size suitable for dissolution by a crusher 3 composed of crude crusher and fine crusher and then, the crushed material is fed into a dissolving tank 6 every a determined amount suitable for dissolution by a horizontal screw conveyer 4 and in the dissolving tank 6, the solution is jetted into the crushed styrene to carry out stirring and mixing of the solution with styrene.
液化処理装置１では、粗破砕機および細破砕機からなる破砕機３によってスチロールを溶解に適した大きさに効率良く破砕し、次に、横置きのスクリューコンベア４によって、それを溶解に適した定量づつ溶解槽６に供給し、溶解槽６では溶解液を破砕されたスチロールに噴射することにより、その撹拌および混合を行う。 - 特許庁 - Specifically, the stream line direction of a diluting and cleaning solution fed from the second nozzle part 30 is set so as to be tangent line direction of a horizontal concentric circle C having prescribed radius from the center of a discharge port 7 and so as to turn to rotation direction of a rotating arm 28b in which a scraper 28c is provided.
詳細には、第２ノズル部３０から供給される希釈洗浄液の流線方向が、排出口７の中心から所定半径の水平な同心円Ｃの接線方向で且つ、スクレーパ２８ｃが設けられた回転アーム２８ｂの回転方向に向くように設定されている。 - 特許庁 - The suction pipe 20 is furnished with an inlet 22, the inlet 22 is slit-shaped and arranged to cover the whole width of the material B in a horizontal direction E, and the solution C in the tank 16 is sucked in from the inside and outside of the through-hole A.
そして、吸引管２０は吸気口２２を備えてなり、この吸気口２２はスリット状をなし、プリント配線基板材Ｂの左右の幅方向Ｅの全幅をカバーすべく配されており、液槽１６内の銅めっき液ＣをスルホールＡ内外から吸引可能となっている。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
