「hydroxystyrene」を含む例文一覧(67)
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ヒドロキシスチレン誘導体 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING HYDROXYSTYRENE SOLUTION
ヒドロキシスチレン溶液の製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING P-HYDROXYSTYRENE-BASED POLYMER
ｐ−ヒドロキシスチレン系重合体の製造方法 - 特許庁 - COSMETIC COMPOSITION CONTAINING POLY(HYDROXYSTYRENE) AND FATTY PHASE
ポリ（ヒドロキシスチレン）及び脂肪相を含む化粧品組成物 - 特許庁 - COSMETIC COMPOSITION CONTAINING POLY(HYDROXYSTYRENE) IN AQUEOUS MEDIUM
水性媒体にポリ（ヒドロキシスチレン）を含む化粧組成物 - 特許庁 - PROCESS FOR PRODUCING SYNDIOTACTIC SUBSTITUTED HYDROXYSTYRENE POLYMER
シンジオタクチック置換ヒドロキシスチレン系重合体の製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING PARTIALLY PROTECTED POLY(HYDROXYSTYRENE)
部分的に保護されたポリ（ヒドロキシスチレン）類の製造方法 - 特許庁 - HYDROXYSTYRENE-BASED POLYMER COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
ヒドロキシスチレン系重合体組成物及び感光性組成物 - 特許庁 - To provide a structure-controlled copolymer composed of m- hydroxystyrene and p-hydroxystyrene.
ｍ−ヒドロキシスチレン構成単位とｐ−ヒドロキシスチレン構成単位を有する構造制御された共重合体を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for producing a hydroxystyrene solution, by which the highly pure hydroxystyrene solution having a small ethylphenol content can be produced from a mixture containing the hydroxystyrene and the ethylphenol in a simple operation.
ヒドロキシスチレン及びエチルフェノールを含有する混合物から簡便な操作でエチルフェノールの含有量が少ない高純度のヒドロキシスチレンの溶液を製造できる方法を提供すること。 - 特許庁 - SYNDIOTACTIC HYDROXYSTYRENE COPOLYMER AND ITS PRODUCTION PROCESS
シンジオタクチックヒドロキシスチレン系共重合体及びその製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING HYDROXYSTYRENE DERIVATIVE AND ACETOXYSTYRENE DERIVATIVE
ヒドロキシスチレン誘導体及びアセトキシスチレン誘導体の製造方法 - 特許庁 - CHEMICALLY-AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION AND HYDROXYSTYRENE DERIVATIVE
化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びヒドロキシスチレン誘導体 - 特許庁 - HYDROXYSTYRENE-BASED POLYMER COMPOSITION AND ITS PHOTOSENSITIVE MATERIAL
ヒドロキシスチレン系重合体組成物及びその感光性材料 - 特許庁 - SYNDIOTACTIC SUBSTITUTED HYDROXYSTYRENE-BASED POLYMER AND PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
シンジオタクチック置換ヒドロキシスチレン系重合体及び感光性組成物 - 特許庁 - This method for producing the hydroxystyrene solution is characterized by distilling the mixture containing the hydroxystyrene and the ethylphenol in the presence of a polyhydric alcohol liquid at 20°C and/or its derivative to remove the ethylphenol, thereby obtaining the polyhydric alcohol and/or its derivative solution of the hydroxystyrene as the residue.
ヒドロキシスチレン及びエチルフェノールを含有する混合物を、２０℃で液体の多価アルコール及び／又はその誘導体の存在下に蒸留してエチルフェノールを留出せしめ、残留物としてヒドロキシスチレンの多価アルコール及び／又はその誘導体の溶液を得る。 - 特許庁 - The styrene monomer is synthesized by reacting a hydroxystyrene and an aryl chloroformate in the presence of an amine.
このものをヒドロキシスチレンとクロロギ酸アリールエステルとを、アミンの存在下で反応させて合成する。 - 特許庁 - HYDROXYSTYRENE POLYMER HAVING SYNDIOTACTIC STRUCTURE CONTAINING LITTLE AMOUNT OF METAL ION AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
金属イオン含有量の低いシンジオタクチック構造のヒドロキシスチレン重合体及びその製造方法 - 特許庁 - There is provided a specific hydroxystyrene derivative that contains an anthracene group which may be substituted with an oxyalkylene group.
オキシアルキレン基で置換されていてもよいアントラセン基を含有する特定のヒドロキシスチレン誘導体。 - 特許庁 - HYDROXYSTYRENE DIMER DERIVATIVE, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, CHAIN-TRANSFER AGENT AND METHOD FOR POLYMERIZING RADICALLY POLYMERIZABLE MONOMER
ヒドロキシスチレンダイマー誘導体、その製造方法、連鎖移動剤およびラジカル重合性モノマーの重合方法 - 特許庁 - The amount of the incorporated hydroxystyrene resin is 5-25 pts.wt. per 100 pts.wt. of the fine inorganic particles.
前記ヒドロキシスチレン系樹脂の配合量は、前記無機微粒子１００重量部に対して５〜２５重量部である。 - 特許庁 - As this polymer, e.g. a hydroxystyrene/styrene/t-butyl acrylate terpolymer crosslinked with 1,4-cyclohexanedimethanol divinyl ether is used.
このポリマーとしては、例えば、１，４−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテルで架橋されたヒドロキシスチレン／スチレン／ｔ−ブチルアクリレートターポリマーを用いる。 - 特許庁 - The positive resist composition contains a base component which exhibits increased solubility in an alkali developer under the action of an acid and generates an acid upon exposure, wherein the base component contains a polymeric compound having a hydroxystyrene unit, a hydroxystyrene unit having an acetal bond in a side chain, and a hydroxystyrene unit to which a structural unit which generates an acid upon exposure bonds through an acetal bond.
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大し、且つ露光により酸を発生する基材成分を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分が、ヒドロキシスチレン単位と、側鎖にアセタール結合を有するヒドロキシスチレン単位と、露光により酸を発生する構成単位がアセタール結合を介して結合しているヒドロキシスチレン単位とを有する高分子化合物を含有するレジスト組成物。 - 特許庁 - A photosensitive resin composition contains (A') a polymer containing (a1) a protected hydroxystyrene monomer unit, (A'') a polymer containing (a2) a hydroxystyrene monomer unit, (B) a photoacid generator including an oxime sulfonate structure represented by formula (b1), (C) a compound represented by formula (I), and (D) solvent.
（Ａ’）保護されたヒドロキシスチレンのモノマー単位（ａ１）を含有する重合体、（Ａ’’）ヒドロキシスチレンのモノマー単位（ａ２）を含有する重合体、（Ｂ）式（ｂ１）で表されるオキシムスルホネート構造を含む光酸発生剤、（Ｃ）式（Ｉ）で表される化合物、および、（Ｄ）溶剤、を含有する感光性樹脂組成物。 - 特許庁 - A radiation sensitive composition includes a polymer component comprising: at least one of a hydroxystyrene structure and a repeating unit which becomes a hydroxystyrene structure by action of an acid from a photoacid generator; and at least one kind selected from repeating units represented by the following general formulas.
ヒドロキシスチレン構造、及び光酸発生剤による酸の作用によりヒドロキシスチレン構造となる繰り返し単位のうち少なくとも一方と、下記一般式で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも１種とを含む重合体成分を有する感放射線性組成物。 - 特許庁 - In the manufacturing method, polyvinyl ether having thiol group is used for a chain transfer agent at both terminal ends to cause radical polymerization with hydroxystyrene monomer.
両末端にチオール基を有するポリビニルエーテルを連鎖移動剤とし、ヒドロキシスチレン系単量体とラジカル重合することによって製造することができる。 - 特許庁 - A positive photosensitive resin composition contains a hydroxystyrene-styrene copolymer having a specific polyhydroxystyrene-styrene ratio and a specific weight-average molecular weight.
特定のポリヒドロキシスチレン／スチレン比と重量平均分子量を有するヒドロキシスチレン／スチレン共重合体を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 - 特許庁 - In the composition, the poly(hydroxystyrene) polymer may be a polymer having a structural unit represented by formula (I) and a structural unit represented by formula (Ib).
前記ポリ（ヒドロキシスチレン）重合体が、式（Ｉ）で示される構造単位と、式（Ｉｂ）で示される構造単位とを有する重合体である前記記載の組成物。 - 特許庁 - In the obtained polystyrene, the group corresponding to the R is removed to convert the OR part to a hydroxy group, and the hydroxy group is partly protected with an unstable group against an acid, and as a result, a copolymer having a p-hydroxystyrene unit and the unit which is formed by protecting the hydroxy group of the p-hydroxystyrene unit with the unstable group against an acid is obtained.
このポリスチレン類の−Ｒに相当する基を脱離させて、−Ｏ−Ｒの部分を水酸基とした後、酸に不安定な基でその水酸基を部分的に保護することにより、ｐ−ヒドロキシスチレン単位とその水酸基が酸に不安定な基で保護された単位を有する共重合体が得られる。 - 特許庁 - To provide a chemical amplification type positive type resist composition containing a resin having a polymerization unit of a (meth)acrylic ester and a polymerization unit of a hydroxystyrene and excellent in resolution.
（メタ）アクリル酸エステルの重合単位及びヒドロキシスチレンの重合単位を有する樹脂を成分とし、解像度に優れる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - The positive planographic printing plate original plate is obtained, by installing on a hydrophilic support an image recording layer containing (A) a hydroxystyrene copolymer containing a hydroxystyrene structural unit having a hydroxyl group in the 3-position as a repeating unit and (B) a photothermal conversion agent and having solubility with respect to alkaline aqueous solution which is increased by infrared laser exposure.
親水性支持体上に、（Ａ）繰り返し単位として３位に水酸基を有するヒドロキシスチレン構造単位を含有するヒドロキシスチレン系共重合体及び（Ｂ）光熱変換剤を含み、赤外レーザ露光によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が増大する画像記録層を設けてなるポジ型平版印刷版原版。 - 特許庁 - The radiation-sensitive resin composition comprises (A) a polymer component such as a copolymer having a (meth)acrylate repeating unit protected with a cycloalkyl-based acid dissociating group, a hydroxystyrene-based repeating unit and a hydroxystyrene-based repeating unit protected with a specific acid-dissociable group and (B) a radiation-sensitive acid generator.
（Ａ）シクロアルキル系酸解離性基で保護された（メタ）アクリレート繰返し単位、ヒドロキシスチレン系繰返し単位、及び特定の酸解離性基で保護されたヒドロキシスチレン系繰返し単位を含有する共重合体などの重合体成分と、（Ｂ）感放射線性酸発生剤とを含有することを特徴とする感放射性樹脂組成物。 - 特許庁 - The hydroxystyrene ABA type triblock copolymer comprises a segment A including hydroxystyrene repeating units a1 and a segment B including vinyl ether repeating units b, where a connected part of the segment A and the segment B is represented by a general formula (3) below, where (a) represents a coupling part to the segment A, and (b) represents a coupling part to the segment B.
ヒドロキシスチレン系繰り返し単位（ａ１）を含むセグメントＡとビニルエーテル系繰り返し単位（ｂ）を含むセグメントＢとからなり、セグメントＡとセグメントＢの連結部位が、次の一般式（３）（ａはセグメントＡとの結合部位を表し、ｂはセグメントＢとの結合部位を表す）で表されるヒドロキシスチレン系ＡＢＡ型トリブロック共重合体とその製造方法である。 - 特許庁 - The polymeric compound is characterized by having at least a repeating unit of a substitutable hydroxystyrene, and a repeating unit of a substitutable hydroxyvinylnaphthalene, represented by general formulae (1).
少なくとも、下記一般式（１）で示される置換可ヒドロキシスチレンの繰り返し単位および置換可ヒドロキシビニルナフタレンの繰り返し単位を有することを特徴とする高分子化合物。 - 特許庁 - The adhesive composition comprises a polymer as a main component obtained by polymerizing a monomer composition containing (meth)acrylic acid to which an adamantyl group is introduced and p-hydroxystyrene.
アダマンチル基が導入された（メタ）アクリル酸と、ｐ−ヒドロキシスチレンとを含有している単量体組成物を重合してなるポリマーを主成分とする接着剤組成物を提供する。 - 特許庁 - The color photosensitive composition contains a copolymer, as an alkali-soluble resin, containing a structural unit derived from styrene and a structural unit derived from hydroxystyrene, having 1:0.7 to 1:20 ratio of the structural unit derived from hydroxystyrene to the structural unit derived from styrene, and having 6,000 to 15,000 weight average molecular weight in terms of polystyrene.
アルカリ可溶性樹脂として、スチレンから導かれる構成単位とヒドロキシスチレンから導かれる構成単位を含み、ヒドロキシスチレンから導かれる構成単位とスチレンから導かれる構成単位との比率が１：０．７〜１：２０であり、かつポリスチレン換算重量平均分子量が６,０００〜１５,０００である共重合体を含むことを特徴とする着色感光性樹脂組成物。 - 特許庁 - To provide a hydroxystyrene derivative that is used in a chemically-amplified positive resist composition which has superior resolution and hardly causes wavy defects in resist patterns so that variation in resist patterns is reduced.
解像性に優れ、レジストパターンの波型の形状不良発生が少なくパターン変動を低減できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物に用いられるヒドロキシスチレン誘導体を提供する。 - 特許庁 - The porous polymer bead aggregate includes a styrene-hydroxystyrene-divinylbenzene-based copolymer and having a median value of a particle diameter of 80-140 μm.
本発明は、スチレン−ヒドロキシスチレン−ジビニルベンゼン系共重合体を含む多孔質ポリマービーズ集合物であって、該集合物の粒子径のメジアン値が８０〜１４０μｍであることを特徴する集合物を提供する。 - 特許庁 - The positive type chemically amplified resist material contains a poly(4-hydroxystyrene) or its derivative in which part or all of the phenolic hydroxyl groups have been substituted by ketal groups, wherein the poly(4-hydroxystyrene) or its derivative is obtained by a production method including living radical polymerization of a styrenic monomer in the presence of a dithioester compound as a RAFT agent.
フェノール性水酸基の一部又は全部がケタール基によって置換された、ポリ（４−ヒドロキシスチレン）又はその誘導体を含有するポジ型化学増幅系レジスト材料であって、前記ポリ（４−ヒドロキシスチレン）又はその誘導体は、ＲＡＦＴ剤としてのジチオエステル系化合物の存在下、スチレン系モノマーをリビングラジカル重合する工程を有する製造方法により得られる、ポジ型化学増幅系レジスト材料。 - 特許庁 - The positive resist composition includes a base component (A) whose solubility in an alkali developer increases by the action of an acid and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, wherein the base component (A) includes a polymeric compound (A1) comprising a hydroxystyrene structural unit, a hydroxystyrene structural unit having an acetal or ketal type acid-dissociable group, and a (meth)acrylic ester structural unit.
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、ヒドロキシスチレン構成単位と、アセタールまたはケタール型酸解離性基を有するヒドロキシスチレン構成単位と、（メタ）アクリル酸エステル構成単位とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁 - (a) a monomer having a sulfonamido group in which at least one hydrogen atom bonds onto a nitrogen atom in one molecule, (b) a monomer having an active imino group represented by formula (1) in one molecule, (c) an acrylamide, methacrylamide, acrylic ester, methacrylic ester or hydroxystyrene each having a phenolic hydroxyl group.
（ａ）１分子中に窒素原子上に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド基を有するモノマー、（ｂ）１分子中に下記の式で表される活性イミノ基を有するモノマー、 - 特許庁 - The structure of the hydroxystyrene dimer derivative is represented by formula (1) (wherein substituents R^1 and R^3 are each hydrogen, an alkoxy group or an acetoxy group and R^2 is an acetyl group or an alkyl group).
ヒドロキシスチレンダイマー誘導体の構造は、式（１）（式中、置換基Ｒ^1およびＲ^3は水素原子、アルコキシ基またはアセトキシ基のいずれかであり、Ｒ^2はアセチル基またはアルキル基のいずれかである）で表される。 - 特許庁 - To provide a method by which a hydroxystyrene derivative and an acetoxystyrene derivative are simply produced in high yield without using a special catalyst such as a metal catalyst or a bio-catalyst or special reaction equipment.
金属触媒や生体触媒などの特別な触媒、あるいは特殊な反応設備を用いることなく簡便に、且つ高収率でヒドロキシスチレン誘導体、及び、アセトキシスチレン誘導体を製造する方法の提供。 - 特許庁 - To provide a method for producing a poly(hydroxystyrene), of which the phenolic hydroxyl group is partially protected by an acid decomposable and leaving group, whereby the degree of elimination of a protective group in the phenolic hydroxyl group can be controlled simply, certainly and highly.
フェノール性水酸基の保護基の脱離化度を簡易かつ確実にしかも高度に制御することができる、フェノール性水酸基が酸分解・脱離基によって部分的に保護されたポリ（ヒドロキシスチレン）の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a hydroxystyrene dimer derivative useful as a chain-transfer agent efficiently controlling the molecular weight of a polymer or copolymer obtained by radical polymerization, a method for producing the same, a chain-transfer agent, and a method for polymerizing a radically polymerizable monomer.
ラジカル重合で得られるポリマー或はコポリマーの分子量を効率的に調節できる連鎖移動剤として有用なヒドロキシスチレンダイマー誘導体、その製造方法、連鎖移動剤及びラジカル重合性モノマーの重合方法を提供する。 - 特許庁 - The positive photosensitive resin composition comprises a polyamic acid (A) obtained by reacting a component selected from a tetracarboxylic acid and its derivative with a diamine component, a hydroxystyrene compound (B) and a photo-acid generating compound (C).
ポジ型感光性樹脂組成物においてテトラカルボン酸及びその誘導体から選ばれる成分とジアミン成分とを反応させて得られるポリアミド酸（Ａ）、ヒドロキシスチレン化合物（Ｂ）及び光により酸を発生する化合物（Ｃ）を含有するものとする。 - 特許庁 - The support for solid-phase synthesis has a form of porous resin beads comprising a styrene-(meth)acrylonitrile-hydroxystyrene-divinyl benzene-based copolymer and has 2-11 m mol/g amount of the (meth)acrylonitrile structural unit based on the sum total amount of the structural units.
スチレン−（メタ）アクリロニトリル−ヒドロキシスチレン−ジビニルベンゼン系共重合体からなる多孔質樹脂ビーズの形態であって、構造単位の合計量に対する（メタ）アクリロニトリルの構造単位の量が２〜１１ｍｍｏｌ／ｇであることを特徴とする固相合成用担体。 - 特許庁 - To provide hydroxystyrene ABA type triblock copolymer, that is useful as a material for photosensitive resin components, excellent in resolution, electric insulation performance, thermal shock resistance, adhesion performance, etc., and suitable for inter-layer insulation film or surface protective film for semiconductor elements; and to provide a simple manufacturing method thereof.
解像度、電気絶縁性、熱衝撃性、密着性等に優れ、半導体素子の層間絶縁膜や表面保護膜などに適した感光性樹脂成分の原料として有用な、新規なヒドロキシスチレン系ＡＢＡ型トリブロック共重合体とその簡便な製造方法を提供する。 - 特許庁 - This photosensitive resin has a vinyl aromatic repeating unit containing a sulfonium group having a specific structure as a substituent, a vinyl aromatic repeating unit containing a group having a specific structure, a hydroxystyrene repeating unit, and, optionally, a styrene repeating unit.
特定の構造を有するスルホニウム基を置換基として含有するビニル芳香族の繰り返し単位と、特定の構造を有する基を含有するビニル芳香族の繰り返し単位と、ヒドロキシスチレンの繰り返し単位と、必要に応じてスチレンの繰り返し単位とを有する感光性樹脂とする。 - 特許庁 - The underlayer film composition to be used for an underlayer film of a photoresist layer comprises a copolymer having a structural unit derived from an acryl monomer having adamantyl group which may have a substituent in a side chain and a structural unit derived from a hydroxystyrene derivative.
フォトレジスト層の下層膜に用いられる下層膜用組成物であって、置換基を有してもよいアダマンチル基を側鎖に有するアクリルモノマーから誘導される構成単位と、ヒドロキシスチレン誘導体から誘導される構成単位とを含む共重合体を含む下層膜用組成物である。 - 特許庁
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