A second optical element 20 at the position of the secondary light sources is impacted by EUV radiation over an impactable area via the first optical element 7, and an impactable surface is divided into a plurality of second facet elements 21 to 24. 2次光源の位置にある第2光学要素20は、EUV放射線により第1光学要素7を通じて衝撃可能領域にわたって衝撃を受け、衝撃可能表面は、複数の第2ファセット要素21から24に分割されている。 - 特許庁