「inductively」を含む例文一覧(330)

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  • To know inductively.
    帰納的に分かる。 - Weblio Email例文集
  • INDUCTIVELY POWERED APPARATUS
    誘導的に動力を備えた装置 - 特許庁
  • INDUCTIVELY COUPLED PLASMA PROCESSING APPARATUS
    誘導結合型プラズマ処理装置 - 特許庁
  • INDUCTIVELY COUPLED PLASMA TREATMENT APPARATUS
    誘導結合形プラズマ処理装置 - 特許庁
  • INDUCTIVELY COUPLED HIGH FREQUENCY PLASMA SOURCE
    誘導結合高周波プラズマ源 - 特許庁
  • The adjacent resonators 11, 13 are inductively coupled, and the adjacent resonators 12, 13 are also inductively coupled.
    隣接する共振器11,13は誘導結合し、隣接する共振器12,13も誘導結合している。 - 特許庁
  • The resonators 4, 5 are coupled inductively, and resonator 5, 6 are also coupled inductively.
    共振器4と共振器5は誘導性結合し、共振器5と共振器6も誘導性結合する。 - 特許庁
  • PLASMA CONE FOR INDUCTIVELY COUPLED PLASMA MASS SPECTROMETER, AND INDUCTIVELY COUPLED PLASMA MASS SPECTROMETER
    誘導結合プラズマ質量分析装置用プラズマコーン及び誘導結合プラズマ質量分析装置 - 特許庁
  • CONTROL METHOD OF INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA AND INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA PROCESSING APPARATUS
    誘導結合型プラズマの制御方法及び誘導結合型プラズマ処理装置 - 特許庁
  • (a) Mass spectrometers utilizing inductively-coupled plasma
    イ 誘導結合プラズマを用いたもの - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • The electrodes 4a and 4b are inductively heated by the induction heating coils 7a and 7b.
    電極4a,4bを誘導加熱コイル7a,7bで誘導加熱する。 - 特許庁
  • INDUCTIVELY COUPLED ANTENNA UNIT AND PLASMA PROCESSING DEVICE
    誘導結合型アンテナユニット及びプラズマ処理装置 - 特許庁
  • INDUCTIVELY CHARGED PAD HAVING ARRANGEMENT INDICATOR
    配置指示器を有する誘導充電パッド - 特許庁
  • INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA PROCESSING DEVICE, AND PLASMA PROCESSING METHOD
    誘導結合プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - 特許庁
  • INDUCTIVELY COUPLED PLASMA SPECTROSCOPE AND ITS MEASURING METHOD
    誘導結合型プラズマ分光装置、およびその測定方法 - 特許庁
  • INDUCTIVELY COUPLED PLASMA REACTOR AND ITS METHOD
    誘導結合プラズマ・リアクタとその方法 - 特許庁
  • INDUCTIVELY COUPLED PLASMA MASS SPECTROMETRY AND EMISSION ANALYZER
    誘導結合プラズマ質量分析及び発光分析装置 - 特許庁
  • CHAMBER STRUCTURE OF INDUCTIVELY COUPLED PLASMA ETCHING DEVICE
    誘導結合プラズマ食刻装置のチャンバ構造 - 特許庁
  • INDUCTIVELY COUPLED PLASMA ALIGNMENT APPARATUS AND METHOD
    誘導結合プラズマ整列装置及び方法 - 特許庁
  • One or more inductively powered devices are randomly placed in the receptacle to receive power inductively from the primary coil.
    1又は複数の誘導的に動力を備えた装置が、一次コイルから誘導的に電力を受信するためにレセプタクル内にランダムに置かれる。 - 特許庁
  • The conductor layer 341 is inductively coupled with the first inductor, and the conductor layer 441 is inductively coupled with the third inductor.
    導体層341は第1のインダクタと誘導性結合し、導体層441は第3のインダクタと誘導性結合する。 - 特許庁
  • TRANSGENIC ANIMAL WHOSE OSTEOCYTE CAN BE DELETED INDUCTIVELY
    誘導的に骨細胞を欠失させることのできるトランスジェニック動物 - 特許庁
  • METHOD AND SYSTEM FOR INDUCTIVELY TRANSMITTING ENERGY AND INFORMATION
    エネルギーおよび情報を誘導的に伝達する方法およびシステム - 特許庁
  • To supply power to one or more inductively powered devices.
    1又は複数の誘導的に動力を備えた装置に電力を提供する。 - 特許庁
  • CIRCUIT LAYOUT OF INDUCTIVELY OPERATING SENSOR AND OPERATION METHOD OF THE CIRCUIT LAYOUT
    誘導的に動作するセンサの回路配置と該回路配置の操作方法 - 特許庁
  • The contactless power supply is inductively coupled to one or above loads.
    この非接触電源は、1つ以上の負荷に誘導結合されている。 - 特許庁
  • To provide an inductively-coupled plasma processing apparatus having improved uniformity.
    均一性の向上した誘導結合型プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
  • CENTER RING AND INDUCTIVELY COUPLED PLASMA DECOMPOSITION DEVICE PROVIDED WITH THIS
    センターリングおよびこれを備えた誘導結合プラズマ分解装置 - 特許庁
  • HIGH-FREQUENCY INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA ION TRAP MASS SPECTROMETRY DEVICE
    高周波誘導結合プラズマイオントラップ質量分析装置 - 特許庁
  • To uniform the plasma density of a high-frequency inductively coupled plasma apparatus.
    高周波誘導結合プラズマ装置のプラズマ密度の均一化を図る。 - 特許庁
  • To obtain an induction heating cooker to inductively heat a cooking pan.
    調理鍋を誘導加熱する誘導加熱調理器を得るものである。 - 特許庁
  • INDUCTIVELY COUPLED PLASMA PRODUCTION DEVICE AND PLASMA PRODUCTION METHOD
    誘導結合型プラズマ生成装置及びプラズマ生成方法 - 特許庁
  • INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA PROCESSING APPARATUS, PLASMA PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM
    誘導結合プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び記憶媒体 - 特許庁
  • INDUCTIVELY COUPLED PLASMA REACTOR COUPLED WITH MULTIPLEX MAGNETIC CORE
    多重マグネチックコアが結合された誘導結合プラズマ反応器 - 特許庁
  • METHOD AND APPARATUS FOR HIGH FREQUENCY INDUCTIVELY COUPLED PLASMA MASS SPECTROMETRY
    高周波誘導結合プラズマ質量分析方法及び装置 - 特許庁
  • INDUCTIVELY-COUPLED DOUBLE-TUBE ELECTRODE AND ARRAY ANTENNA TYPE CVD PLASMA DEVICE
    誘導結合型の二重管電極及びアレイアンテナ式のCVDプラズマ装置 - 特許庁
  • In some aspects, the method uses an inductively coupled plasma (ICP) source.
    いくつかの局面では、前記方法は、誘導結合プラズマ(ICP)源を用いる。 - 特許庁
  • MANUFACTURING METHOD FOR MAGNETOOPTIC DISK BY INDUCTIVELY COUPLED RF PLASMA SUPPORTED MAGNETRON SPUTTERING METHOD
    誘導結合RFプラズマ支援マグネトロンスパッタ法における光磁気ディスクの製造方法 - 特許庁
  • QUANTITATIVE ANALYSIS OF ALUMINUM IN STEEL BY INDUCTIVELY COUPLED PLASMA EMISSION SPECTROSCOPIC ANALYSIS METHOD
    誘導結合プラズマ発光分光分析法による鋼中のアルミニウムの定量分析方法 - 特許庁
  • Two corresponding terminals (b) and (d) of an inductively coupled coil are interconnected virtually, and are grounded.
    誘導結合されたコイルの対応する2端子であるbとdを仮想的につなぎ、接地する。 - 特許庁
  • To provide an inductively coupled high frequency plasma reactor and method of processing a semiconductor wafer.
    誘導結合高周波プラズマ・リアクタと半導体ウェハの処理方法とを提供する。 - 特許庁
  • Particularly, the silicon oxide film 3 is preferably deposited by using an inductively coupled plasma CVD method.
    特に、誘導結合プラズマCVD法を用いてケイ素酸化物膜3を形成することが好ましい。 - 特許庁
  • SIGHTING DEVICE, AND EMISSION SPECTROMETER WITH INDUCTIVELY COUPLED PLASMA SOURCE COMPRISING SUCH A DEVICE
    照準装置及びそのような装置を含み誘導結合プラズマ源を有する発光分光計 - 特許庁
  • FILM FORMATION DEVICE AND MANUFACTURING METHOD FOR ORGANIC EL ELEMENT USING INDUCTIVELY COUPLING TYPE CVD
    誘導結合型CVDを使用した有機EL用素子成膜装置および製造方法 - 特許庁
  • CONTAINER FOR PRETREATMENT OF ELEMENTAL ANALYSIS, METHOD FOR ELEMENTAL ANALYSIS, INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA TORCH AND ELEMENTAL ANALYSIS SYSTEM
    元素分析前処理用容器、元素分析方法、誘導結合プラズマトーチ、及び元素分析装置 - 特許庁
  • ANALYZER HAVING GAS CHROMATOGRAPH BONDED WITH INDUCTIVELY COUPLED PLASMA MASS SPECTROMETER
    ガスクロマトグラフに誘導結合プラズマ質量分析装置を結合させた分析装置 - 特許庁
  • An inductively-coupled micro plasma source has a floating electrode inside a gas flow passage.
    誘導結合型マイクロプラズマ源のガス流路内部に、浮遊電極を用意する。 - 特許庁
  • The induction heating coil 33 surrounds a periphery of the outer tube 32, and inductively heats the outer tube 32.
    誘導加熱コイル33は、外管32の周囲を取り巻き、外管32を誘導加熱する。 - 特許庁
  • To provide an inductively coupled high frequency plasma reactor and a method for processing a semiconductor wafer.
    誘導結合高周波プラズマ・リアクタと半導体ウェハの処理方法とを提供する。 - 特許庁
  • To provide an inductively coupled plasma processing apparatus capable of dealing with a target substrate to be processed of a larger size.
    被処理基板の大型化に対応できる誘導結合プラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁
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