「interferometer system」を含む例文一覧(228)

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  • INTERFEROMETER SYSTEM
    干渉計システム - 特許庁
  • INTERFEROMETER SYSTEM
    干渉計装置 - 特許庁
  • INTERFEROMETER AND SYSTEM USING INTERFEROMETER
    干渉計および干渉計を使用するシステム - 特許庁
  • MEASUREMENT SYSTEM AND INTERFEROMETER
    測定システムおよび干渉計 - 特許庁
  • APERTURE CONVERTER FOR INTERFEROMETER AND INTERFEROMETER SYSTEM
    干渉計のためのアパーチャコンバーター及び干渉計システム - 特許庁
  • INTERFEROMETER SYSTEM FOR WAVEFRONT MEASUREMENT
    波面測定用干渉計装置 - 特許庁
  • COLLIMATOR OPTICAL SYSTEM FOR INTERFEROMETER, INTERFEROMETER, AND SPECTROMETER
    干渉計用コリメータ光学系、干渉計および分光器 - 特許庁
  • INTERFEROMETER SYSTEM TO MONITOR OBJECT
    物体をモニタする干渉計システム - 特許庁
  • IMPROVED LITHOGRAPH INTERFEROMETER SYSTEM
    改良されたリトグラフ干渉計装置 - 特許庁
  • AIR CONDITIONER SYSTEM, INTERFEROMETER SYSTEM, AND EXPOSURE DEVICE SYSTEM
    空調システム、干渉計システム、及び露光装置システム - 特許庁
  • INTERFEROMETER AND SHAPE MEASURING SYSTEM
    干渉計および形状測定装置 - 特許庁
  • INTERFEROMETER, STAGE APPARATUS, AND EXPOSURE SYSTEM
    干渉計、ステージ装置、及び露光装置 - 特許庁
  • MOUNTING STAND FOR LENS TO BE INSPECTED OF INTERFEROMETER SYSTEM
    干渉計装置の被検レンズ載置台 - 特許庁
  • DUST-PROOFING DEVICE OF OPTICAL SYSTEM FOR INTERFEROMETER AND INTERFEROMETER SYSTEM PROVIDED WITH THE SAME
    干渉計用光学系の防塵装置およびこれを備えた干渉計装置 - 特許庁
  • INTERFEROMETER AND INPUT/OUTPUT OPTICAL SYSTEM
    干渉計および入出力光学装置 - 特許庁
  • SYSTEM ERROR CALIBRATION METHOD OF INTERFEROMETER DEVICE
    干渉計装置のシステム誤差較正方法 - 特許庁
  • SAGNAC INTERFEROMETER BASED SECURE COMMUNICATION SYSTEM
    サニャック干渉計を用いた保安通信システム - 特許庁
  • INTERFEROMETER SYSTEM, STAGE APPARATUS, AND EXPOSURE APPARATUS
    干渉計システム、ステージ装置及び露光装置 - 特許庁
  • PHASE NOISE COMPENSATION IN INTERFEROMETER SYSTEM
    干渉計システムにおける位相雑音補償 - 特許庁
  • INTERFEROMETER SYSTEM, SIGNAL PROCESSING METHOD IN INTERFEROMETER SYSTEM, AND STAGES USING SIGNAL PROCESSING METHOD CONCERNED
    干渉計システム、干渉計システムにおける信号処理方法、該信号処理方法を用いるステージ - 特許庁
  • INTERFERENCE PHASE DETECTING SYSTEM FOR OPTICAL INTERFEROMETER
    光干渉計の干渉位相検出方式 - 特許庁
  • TRANSMISSION TYPE INTERFEROMETER AND COATING THICKNESS MEASURING SYSTEM
    透過型干渉計及び膜厚測定システム - 特許庁
  • IMAGING OPTICAL SYSTEM FOR OBLIQUE INCIDENCE INTERFEROMETER
    斜入射干渉計装置の結像光学系 - 特許庁
  • To provide an inexpensive interferometer system that is used also in a heterodyne interferometer.
    ヘテロダイン干渉計にも用いられる安価な干渉計システムを提供すること。 - 特許庁
  • To provide an interferometer system improved in a lithograph system.
    リトグラフ装置における改良された干渉計装置の提供。 - 特許庁
  • LITHOGRAPHY SYSTEM, INTERFEROMETER AND METHOD OF DEVICE-MANUFACTURING
    リソグラフィ装置、干渉計およびデバイス製造方法 - 特許庁
  • INTERFEROMETER AND MANUFACTURING METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM
    干渉計及び投影光学系の製造方法 - 特許庁
  • NONLINEARITY COMPENSATION SYSTEM AND METHOD FOR INTERFEROMETER
    干渉計の非線形性補償システム及び方法 - 特許庁
  • To improve a measurement accuracy of a laser interferometer system.
    レーザ干渉計システムの計測精度を向上させる。 - 特許庁
  • The system includes an interferometer, an optical element and an SLM.
    システムは干渉計、光学素子、およびSLMを含む。 - 特許庁
  • SYSTEM AND METHOD FOR NONLINEARITY COMPENSATION OF INTERFEROMETER
    干渉計非線形性補償のためのシステム及び方法 - 特許庁
  • BLOOD SUGAR MEASURING SYSTEM USING LOW COHERENCE OPTICAL INTERFEROMETER
    低コヒーレンス光干渉計を用いた血糖測定装置 - 特許庁
  • SYSTEM AND METHOD FOR FEEDBACK POSITION CONTROL FOR INTERFEROMETER
    干渉計用のフィードバック位置制御システムおよび方法 - 特許庁
  • SELF-REFERENCING INTERFEROMETER, ALIGNMENT SYSTEM AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
    自己参照干渉計、アライメントシステムおよびリソグラフィ装置 - 特許庁
  • INTERFEROMETER SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
    干渉計装置、露光装置、およびデバイスの製造方法 - 特許庁
  • ILLUMINATION SYSTEM FOR MIREAU TYPE MICROSCOPIC INTERFEROMETER AND MIREAU TYPE MICROSCOPIC INTERFEROMETER DEVICE EQUIPPED WITH SAME
    ミロー型顕微干渉計用照明光学系およびこれを備えたミロー型顕微干渉計装置 - 特許庁
  • INTERFEROMETER SYSTEM FOR DISPLACEMENT MEASUREMENT, AND EXPOSURE DEVICE USING SYSTEM
    変位測定のための干渉計システム及びこれを利用した露光装置 - 特許庁
  • At the same time, positional information of the wafer stage is measured using an interferometer system, e. g. an X interferometer 127 and a Y interferometer 16.
    同時に、干渉計システム、例えばX干渉計127及びY干渉計16を用いて、該ウエハステージの位置情報を計測する。 - 特許庁
  • ALIGNMENT OPTICAL SYSTEM FOR INTERFEROMETER AND DEVICE USING IT
    干渉計用アライメント光学系およびこれを用いた装置 - 特許庁
  • GRATING ELEMENT, MACH ZEHNDER INTERFEROMETER, AND OPTICAL CROSS-CONNECTION SYSTEM
    グレーティング素子、マッハツェンダー干渉計及び光クロスコネクト装置 - 特許庁
  • MEASURING METHOD, MEASURING APPARATUS, INTERFEROMETER SYSTEM, AND EXPOSURE APPARATUS
    計測方法、計測装置、干渉計システム及び露光装置 - 特許庁
  • First positional information of a stage WST is measured using an interferometer system, for example, an X interferometer 126 and a Y interferometer 16.
    干渉計システム、例えばX干渉計126とY干渉計16とを用いてステージWSTの第1の位置情報を計測する。 - 特許庁
  • SHEARING INTERFEROMETER, MEASURING METHOD BY SHEARING INTERFEROMETER, METHOD OF MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM, PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND EXPOSURE DEVICE
    シアリング干渉計、シアリング干渉計による計測方法、投影光学系の製造方法、投影光学系及び露光装置 - 特許庁
  • INTERFEROMETER SYSTEM, STAGE DEVICE, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
    干渉計システム、ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法 - 特許庁
  • OPTICAL SYSTEM FOR OBLIQUE-INCIDENCE INTERFEROMETER AND APPARATUS USING IT
    斜入射干渉計用光学系およびこれを用いた装置 - 特許庁
  • POSITION MEASUREMENT DEVICE OF OBJECT USING LASER INTERFEROMETER SYSTEM
    レーザー干渉計システムを用いた対象物の位置の測定装置 - 特許庁
  • APPARATUS FOR MEASURING SYSTEM ERROR AND INTERFEROMETER SYSTEM FOR WAVEFRONT MEASUREMENT EQUIPPED WITH THE SAME
    システム誤差計測装置およびこれを備えた波面測定用干渉計装置 - 特許庁
  • TOOL FOR MANUFACTURING MACH-ZEHNDER INTERFEROMETER TYPE OPTICAL ELEMENT, MACH-ZEHNDER INTERFEROMETER TYPE OPTICAL ELEMENT MANUFACTURING METHOD, MACH-ZEHNDER INTERFEROMETER TYPE OPTICAL ELEMENT, AND OPTICAL COMMUNICATION SYSTEM
    マッハツェンダ干渉計型光学素子製造用治具、マッハツェンダ干渉計型光学素子製造方法、マッハツェンダ干渉計型光学素子および光通信システム - 特許庁
  • MACH-ZEHNDER INTERFEROMETER TYPE OPTICAL ELEMENT ADJUSTING METHOD, MACH-ZEHNDER INTERFEROMETER TYPE OPTICAL ELEMENT, AND OPTICAL COMMUNICATION SYSTEM
    マッハツェンダ干渉計型光学素子調整方法、マッハツェンダ干渉計型光学素子および光通信システム - 特許庁
  • FOCUS ADJUSTING METHOD OF WAVE FRONT MEASURING INTERFEROMETER, AND MANUFACTURING METHOD OF WAVE FRONT MEASURING INTERFEROMETER AND PROJECTION OPTICAL SYSTEM
    波面測定干渉計のフォーカス調整方法、波面測定干渉計および投影光学系の製造方法 - 特許庁
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