AIR CONDITIONER SYSTEM, INTERFEROMETERSYSTEM, AND EXPOSURE DEVICE SYSTEM 空調システム、干渉計システム、及び露光装置システム - 特許庁
INTERFEROMETER AND SHAPE MEASURING SYSTEM 干渉計および形状測定装置 - 特許庁
INTERFEROMETER, STAGE APPARATUS, AND EXPOSURE SYSTEM 干渉計、ステージ装置、及び露光装置 - 特許庁
MOUNTING STAND FOR LENS TO BE INSPECTED OF INTERFEROMETERSYSTEM 干渉計装置の被検レンズ載置台 - 特許庁
DUST-PROOFING DEVICE OF OPTICAL SYSTEM FOR INTERFEROMETER AND INTERFEROMETERSYSTEM PROVIDED WITH THE SAME 干渉計用光学系の防塵装置およびこれを備えた干渉計装置 - 特許庁
INTERFEROMETER AND INPUT/OUTPUT OPTICAL SYSTEM 干渉計および入出力光学装置 - 特許庁
SYSTEM ERROR CALIBRATION METHOD OF INTERFEROMETER DEVICE 干渉計装置のシステム誤差較正方法 - 特許庁
SAGNAC INTERFEROMETER BASED SECURE COMMUNICATION SYSTEM サニャック干渉計を用いた保安通信システム - 特許庁
INTERFEROMETERSYSTEM, STAGE APPARATUS, AND EXPOSURE APPARATUS 干渉計システム、ステージ装置及び露光装置 - 特許庁
PHASE NOISE COMPENSATION IN INTERFEROMETERSYSTEM 干渉計システムにおける位相雑音補償 - 特許庁
INTERFEROMETERSYSTEM, SIGNAL PROCESSING METHOD IN INTERFEROMETERSYSTEM, AND STAGES USING SIGNAL PROCESSING METHOD CONCERNED 干渉計システム、干渉計システムにおける信号処理方法、該信号処理方法を用いるステージ - 特許庁
INTERFERENCE PHASE DETECTING SYSTEM FOR OPTICAL INTERFEROMETER 光干渉計の干渉位相検出方式 - 特許庁
TRANSMISSION TYPE INTERFEROMETER AND COATING THICKNESS MEASURING SYSTEM 透過型干渉計及び膜厚測定システム - 特許庁
IMAGING OPTICAL SYSTEM FOR OBLIQUE INCIDENCE INTERFEROMETER 斜入射干渉計装置の結像光学系 - 特許庁
To provide an inexpensive interferometersystem that is used also in a heterodyne interferometer. ヘテロダイン干渉計にも用いられる安価な干渉計システムを提供すること。 - 特許庁
To provide an interferometersystem improved in a lithograph system. リトグラフ装置における改良された干渉計装置の提供。 - 特許庁
LITHOGRAPHY SYSTEM, INTERFEROMETER AND METHOD OF DEVICE-MANUFACTURING リソグラフィ装置、干渉計およびデバイス製造方法 - 特許庁
INTERFEROMETER AND MANUFACTURING METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM 干渉計及び投影光学系の製造方法 - 特許庁
NONLINEARITY COMPENSATION SYSTEM AND METHOD FOR INTERFEROMETER 干渉計の非線形性補償システム及び方法 - 特許庁
To improve a measurement accuracy of a laser interferometersystem. レーザ干渉計システムの計測精度を向上させる。 - 特許庁
The system includes an interferometer, an optical element and an SLM. システムは干渉計、光学素子、およびSLMを含む。 - 特許庁
SYSTEM AND METHOD FOR NONLINEARITY COMPENSATION OF INTERFEROMETER 干渉計非線形性補償のためのシステム及び方法 - 特許庁
BLOOD SUGAR MEASURING SYSTEM USING LOW COHERENCE OPTICAL INTERFEROMETER 低コヒーレンス光干渉計を用いた血糖測定装置 - 特許庁
SYSTEM AND METHOD FOR FEEDBACK POSITION CONTROL FOR INTERFEROMETER 干渉計用のフィードバック位置制御システムおよび方法 - 特許庁
SELF-REFERENCING INTERFEROMETER, ALIGNMENT SYSTEM AND LITHOGRAPHIC APPARATUS 自己参照干渉計、アライメントシステムおよびリソグラフィ装置 - 特許庁
INTERFEROMETERSYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 干渉計装置、露光装置、およびデバイスの製造方法 - 特許庁
ILLUMINATION SYSTEM FOR MIREAU TYPE MICROSCOPIC INTERFEROMETER AND MIREAU TYPE MICROSCOPIC INTERFEROMETER DEVICE EQUIPPED WITH SAME ミロー型顕微干渉計用照明光学系およびこれを備えたミロー型顕微干渉計装置 - 特許庁
INTERFEROMETERSYSTEM FOR DISPLACEMENT MEASUREMENT, AND EXPOSURE DEVICE USING SYSTEM 変位測定のための干渉計システム及びこれを利用した露光装置 - 特許庁
At the same time, positional information of the wafer stage is measured using an interferometersystem, e. g. an X interferometer 127 and a Y interferometer 16. 同時に、干渉計システム、例えばX干渉計127及びY干渉計16を用いて、該ウエハステージの位置情報を計測する。 - 特許庁
ALIGNMENT OPTICAL SYSTEM FOR INTERFEROMETER AND DEVICE USING IT 干渉計用アライメント光学系およびこれを用いた装置 - 特許庁
GRATING ELEMENT, MACH ZEHNDER INTERFEROMETER, AND OPTICAL CROSS-CONNECTION SYSTEM グレーティング素子、マッハツェンダー干渉計及び光クロスコネクト装置 - 特許庁
First positional information of a stage WST is measured using an interferometersystem, for example, an X interferometer 126 and a Y interferometer 16. 干渉計システム、例えばX干渉計126とY干渉計16とを用いてステージWSTの第1の位置情報を計測する。 - 特許庁
SHEARING INTERFEROMETER, MEASURING METHOD BY SHEARING INTERFEROMETER, METHOD OF MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM, PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND EXPOSURE DEVICE シアリング干渉計、シアリング干渉計による計測方法、投影光学系の製造方法、投影光学系及び露光装置 - 特許庁
OPTICAL SYSTEM FOR OBLIQUE-INCIDENCE INTERFEROMETER AND APPARATUS USING IT 斜入射干渉計用光学系およびこれを用いた装置 - 特許庁
POSITION MEASUREMENT DEVICE OF OBJECT USING LASER INTERFEROMETERSYSTEM レーザー干渉計システムを用いた対象物の位置の測定装置 - 特許庁
APPARATUS FOR MEASURING SYSTEM ERROR AND INTERFEROMETERSYSTEM FOR WAVEFRONT MEASUREMENT EQUIPPED WITH THE SAME システム誤差計測装置およびこれを備えた波面測定用干渉計装置 - 特許庁
TOOL FOR MANUFACTURING MACH-ZEHNDER INTERFEROMETER TYPE OPTICAL ELEMENT, MACH-ZEHNDER INTERFEROMETER TYPE OPTICAL ELEMENT MANUFACTURING METHOD, MACH-ZEHNDER INTERFEROMETER TYPE OPTICAL ELEMENT, AND OPTICAL COMMUNICATION SYSTEM マッハツェンダ干渉計型光学素子製造用治具、マッハツェンダ干渉計型光学素子製造方法、マッハツェンダ干渉計型光学素子および光通信システム - 特許庁
MACH-ZEHNDER INTERFEROMETER TYPE OPTICAL ELEMENT ADJUSTING METHOD, MACH-ZEHNDER INTERFEROMETER TYPE OPTICAL ELEMENT, AND OPTICAL COMMUNICATION SYSTEM マッハツェンダ干渉計型光学素子調整方法、マッハツェンダ干渉計型光学素子および光通信システム - 特許庁
FOCUS ADJUSTING METHOD OF WAVE FRONT MEASURING INTERFEROMETER, AND MANUFACTURING METHOD OF WAVE FRONT MEASURING INTERFEROMETER AND PROJECTION OPTICAL SYSTEM 波面測定干渉計のフォーカス調整方法、波面測定干渉計および投影光学系の製造方法 - 特許庁