「level pattern」を含む例文一覧(784)

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  • MOLDING ROLL HAVING LEVEL DIFFERENCE ACCORDING TO PATTERN PART AND NON-PATTERN PART
    パターン部と非パターン部で段差を有する成形用ロール - 特許庁
  • To provide a pattern correcting apparatus assuring high-level correction of pattern.
    修正品位が高いパターン修正装置を提供する。 - 特許庁
  • Patterned katajiaya (a thick and hard twilled fabric with a clear pattern) (monsha (patterned gauze) in summer) for sankyu (the fifth level of status) and yonkyu (the sixth level of status).
    三・四級は有紋の固地綾（夏は文紗）。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • A projected pattern exists on a reticle level.
    投影パターンはレチクル水準上に存在する。 - 特許庁
  • A peak discrimination circuit 56 discriminates a peak level of this correlation and a level pattern discrimination circuit 62 detects a pattern of a level of the peak value.
    この相関のピーク値をピーク判定回路５６により判定し、レベルパターン判別回路６２により、ピーク値のレベルのパターンを検出する。 - 特許庁
  • A level value of each sample in the pattern is varied.
    パターン内にあるそれぞれのサンプルのレベル値が変化する。 - 特許庁
  • A recording waveform control signal pattern is stored in a light emission level pattern storage part 230.
    記録波形制御信号パターンを発光レベルパターン記憶部２３０に記憶する。 - 特許庁
  • To set an authentication level according to the action pattern of a user.
    ユーザの行動パターンに応じて、認証レベルを設定する。 - 特許庁
  • To provide a pattern forming apparatus and a pattern formation method with fewer failures in drawing a pattern due to level difference.
    段差によるパターンの描画不良を低減したパターン形成装置及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • At such a time, a two-dimensional pattern of the effective touch level indicates a pattern on a touch panel plane and includes a column direction pattern, a row direction pattern and the like.
    このとき、有効タッチレベルの２次元パターンは、タッチパネル平面上でのパターンを示し、列方向パターン、行方向パターンなどを含む。 - 特許庁
  • The spacing between the center of the first hole pattern for level difference inspection and the center of the second hole pattern for level difference inspection is confined to ≤5a.
    第１の段差検査用ホールパターンの中心と第２の段差検査用ホールパターンの中心との間隔を５ａ以下とする。 - 特許庁
  • List mailbox names in directory matching pattern. directory defaults to the top-level mail folder, and pattern defaults to match anything.
    pattern にマッチする directoryメイルボックス名を列挙します。 directory の標準の設定値は最上レベルのメイルフォルダで、pattern は標準の設定では全てにマッチします。 - Python
  • The sound pressure control circuit is provided with a pattern analysis circuit for analyzing a change pattern of noise level to change output of the speaker by the change pattern of noise level detected by the pattern analysis circuit.
    音圧制御回路は、騒音レベルの変化パターンを分析するパターン分析回路を備え、パターン分析回路で検出される騒音レベルの変化パターンによってスピーカーの出力を変化させる。 - 特許庁
  • After that, a checker pattern is written with a lower write-in level than a normal write-in level.
    その後、チェッカパターンを通常の書き込みレベルよりも浅い書き込みレベルで書き込みする（ステップＳ２０２）。 - 特許庁
  • A light-emitting level pattern storage part 230A stores setting information on a light-emitting level pattern or a sampling pulse in each register 232 of a register set 231.
    発光レベルパターン記憶部２３０Ａはレジスタセット２３１の各レジスタ２３２に発光レベルパターンやサンプリングパルスの設定情報を記憶する。 - 特許庁
  • To provide a pattern forming method for forming a pattern nearer to design dimensions in the case of forming the pattern on level difference.
    段差上にパターンを形成する場合に、設計寸法により近いパターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • Stripes of multi-level pattern are identified from edge information extracted from binary pattern light, and then the range desired is obtained by correspoding the identified stripe image with the stripe light of multi-level pattern light.
    ２値パターン光から抽出したエッジ情報から多値パターンのストライプを同定し，同定したストライプ像と多値パターン光のストライプ光を対応させることにより距離を取得する。 - 特許庁
  • This measurement is performed by measuring an amplitude of a diffraction order of a diffraction pattern obtained from an interference between a pattern on a wafer level and a pattern projected on the pattern on the wafer level.
    この測定は、ウェーハ水準上のパターンと、ウェーハ水準上のパターンの上に投影されるパターンとの間の干渉から得られる回折模様の回折次数の振幅を測定することによって行われる。 - 特許庁
  • An operation level simulation control part 220 acquires an operation level simulation model, an operation level test pattern and an RTL description through a data input device 100, and makes an operation level simulation executing part 210 execute operation level simulation.
    動作レベルシミュレーション制御部220は、データ入力装置100を介して動作レベルシミュレーションモデル、動作レベルテストパタン及びRTL記述を取得し、動作レベルシミュレーション実行部210に動作レベルシミュレーションを実行させる。 - 特許庁
  • This means to conversion-display a character display of level 1 or an easy pattern of level 2 to a map display corresponding to level 3 or conversion-display the map display of level 3 to the character display corresponding to level 1.
    これは、レベル１の文字表示又はレベル２の簡易図形からレベル３相当の地図表示に変換表示し、レベル３の地図表示からレベル１相当の文字表示に変換表示するものである。 - 特許庁
  • When the pattern matching with the recognition object pattern P1 from the input image is to be imaged, search is executed for each partial pattern A1; and when the pattern matching level of the partial pattern A1 exceeds threshold, pattern matching level is added to a position deviating from the position only by a relative position Ap1.
    入力画像から認識対象パターンＰ１と合致するパターンをサーチする際には、部分パターンＡ１ごとにサーチを行い、部分パターンＡ１のパターン合致度が閾値を越えたときには、その位置から相対位置Ａｐ１だけずれた位置にパターン合致度を加算していく。 - 特許庁
  • The drive pattern according to the grayscale level is controlled to be identical for each display panel.
    また、階調レベルに応じた駆動パターンは、各表示パネルで同じにする。 - 特許庁
  • Accompanying the voltage change in the voltage level, upon on-driving, the drive pattern, according to the grayscale level, is changed from the pattern, when the mixture ratio of RGB is identical.
    また、オン駆動時の電圧レベルの変更に伴い、階調レベルに応じた駆動パターンを、ＲＧＢの混合比が同じである場合から変更する。 - 特許庁
  • Moreover, when the ambient temperature is high, this selects the starting pattern on low voltage level, and when the ambient temperature is low, this selects the starting pattern at the high-voltage level.
    また、周囲温度が高かったとき低い電圧レベルの起動パターンを選択し、周囲温度が低かったとき高い電圧レベルの起動パターンを選択する。 - 特許庁
  • METHOD, APPARATUS AND SYSTEM OF GENERATING REUSE PATTERN BASED ON INTERFERENCE LEVEL
    干渉レベルに基づいてリユースパターンを発生させる方法、装置及びシステム - 特許庁
  • After that, pattern data of a biased DC level such as negating the detected DC level are recorded in a section B.
    しかる後、区間Ｂにおいて、前記ＤＣレベルを打ち消すような偏ったＤＣレベルのパターンデータを記録する。 - 特許庁
  • To provide a mask pattern correcting method which can easily eliminate a minute level difference formed after line width correction of a pattern.
    パターンの線幅補正後に生じる微小段差を、簡易に解消できるマスクパターン補正方法を提供する。 - 特許庁
  • The master unit transmits to the slaves a distorted test pattern formed by distorting a standard test pattern by a specified distortion level.
    マスタユニットは、基準テストパターンを所定の歪みレベルで歪ませた歪みテストパターンをスレーブに向けて送信する。 - 特許庁
  • Karaginu (a waist-length robe worn at the top): No color is provided, however, futaeorimono (a fabric with another pattern woven from other threads on a patterned fabric) (sha (gauze) in summer) is used for nikyu (the fourth level of status of Shinto priests) and above, with mon (a pattern) woven by nuitoriori (a weave with which another pattern is woven on a patterned fabric as if it is embroidered).
    唐衣：色に規定は無いが、二級以上は二重織物（夏は紗）紋は縫取織りで表す。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • Thereby, the resist pattern 106 is fit in and the gap 107 between the resist pattern and an under-layer and the disconnection of the resist pattern due to level difference is repaired.
    これにより、レジストパターン１０６が馴染み、レジストパターンと下地層間の空隙１０７やレジストパターンの段切れを修復することができる。 - 特許庁
  • THICK FILM SUBSTRATE PRINTING PATTERN FORMATION METHOD FOR MOUNTING CHIP HAVING RECESSED FILM LEVEL DIFFERENCE
    凹膜段差を有するチップ実装用厚膜基板印刷パターン形成方法 - 特許庁
  • A resistor element pattern 30 is formed by laying a lowermost level pattern 30a, a step-like pattern 30b and a highest level pattern 30c on a step-like oxide film 31 formed on a semiconductor substrate 33.
    抵抗素子パターン３０は、半導体基板３３上に形成された階段状の酸化膜３１上に、最下段パターン３０ａ、階段状パターン３０ｂ、最上段パターン３０ｃから形成されていることを特徴とする。 - 特許庁
  • Using the test pattern generated by the test pattern generator 4, a resistor level trouble diagnosing device 5 performs the trouble diagnosis of a resistor level so as to generate the information for performing a gate level trouble diagnosis.
    レジスタレベル故障診断器５はテストパタン作成器４が生成したテストパタンを用いて、レジスタレベルの故障診断を行うことにより、ゲートレベル故障診断を行うための情報を生成する。 - 特許庁
  • A twilled fabric with a pattern woven on it (neriusu (a silk fabric woven from raw silk and glossed silk), nuitori or kenmonsha (gauze with a clear pattern) in summer) for tokkyu (the first level of status) and ikkyu (the second level of status), patterned aya (a twilled fabric) (neriusu or kenmonsha in summer) for nikyu-jo (the third level of status) and nikyu, patterned aya (kenmonsha in summer) for sankyu and yonkyu.
    特級・一級は綾地に縫取（夏は練薄・縫取・顕文紗）二級上・二級は有文綾（夏は練薄・顕文紗）三・四級は有文綾（夏は顕文紗） - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • To provide a level difference measuring method and a level difference measuring device, that can measure a difference in level such as an etching depth of a fine structure pattern.
    微細構造体パターンのエッチング深さなどの段差を測定することの出来る段差測定方法、段差測定装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • When user data are input, level information set with the user data is specified, and change pattern data 109 set with level information showing the same level as the level shown by the specified level information are specified.
    ユーザデータが入力されると、このユーザデータとセットになっているレベル情報を特定し、特定したレベル情報が示すレベルと同じレベルを示すレベル情報とセットになっている変化パターンデータ１０９を特定する。 - 特許庁
  • A cycle precision level simulation control part 220 obtains a cycle precision level simulation model, a cycle precision level test pattern, and an RTL description to make a cycle precision level simulation executing part 210 execute the cycle precision level simulation.
    サイクル精度レベルシミュレーション制御部２２０はサイクル精度レベルシミュレーションモデル、サイクル精度レベルテストパタン及びＲＴＬ記述を取得し、サイクル精度レベルシミュレーション実行部２１０にサイクル精度レベルシミュレーションを実行させる。 - 特許庁
  • A plurality of pattern tables are provided for one gray level and a pattern table suitable for eliminating the isolated dot or for reducing the dot level difference is selected from the plurality of pattern tables.
    １つの階調値に対して複数のパターンテーブルを設けて、この複数のパターンテーブルの中から孤立ドットをなくすのに、または、ドット段差をより小さくするのに適するパターンテーブルを選択する。 - 特許庁
  • A detector 34 detects a fixed pattern representing a mute pattern as a predetermined pattern and a "0" level continued for a predetermined time from an input signal.
    検出器３４は、入力信号から所定パターンとしてミュートパターンを表す固定パターン及び所定時間継続する０レベルを検出する。 - 特許庁
  • A pattern not appearing in a flat level in the case of usual binary processing is selected as a code pattern and codes 800-803 adopting the pattern are added to image information.
    通常の２値化処理の際には平坦部には出現しないパターンを符号パターンとして設定し、該パターンによる符号８００〜８０３を付加する。 - 特許庁
  • To provide a pattern formation method capable of processing a fine pattern having a high aspect ratio, a plurality of level difference structures, etc.
    高アスペクト比、複数の段差構造などを有する微細パターンの加工が可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • In this case, the level of affinity with respect to the ink 5 is specified so as to be as pattern forming unit 4> transfer board 2> pattern not forming unit 3.
    このとき、インク５に対する親和性の高さを、パターン形成部４＞転写板２＞パターン非形成部３としておく。 - 特許庁
  • The stepped pattern 11 is composed of a plurality of recesses 13 and equipped with an edge 15 on the same level with the pattern region 41.
    段差状パターン１１は、複数の凹部１３で、パターン領域４１と同じ高さ位置にあるエッジ１５を有する。 - 特許庁
  • NONEXPOSURE PATTERN FORMING METHOD UTILIZING LEVEL DIFFERENCE AND SILICIFICATION METHOD UTILIZING IT
    段差を利用した無露光パターン形成方法およびこれを利用したシリサイド化方法 - 特許庁
  • The light emission pattern data read by the CPU 41 are input in a level meter control part 73 to vary the level meter 34.
    ＣＰＵ４１によって読み出された発光パターンデータはレベルメータ制御部７３に入力されてレベルメータ３４が変動する。 - 特許庁
  • A mark is formed or a space is formed by using a recording waveform having an erase-pattern including a predetermined pulse whose high level is higher than an erase-power level and whose low level is lower than the erase-power level.
    上位レベルは消去パワーレベルより高くて下位レベルは消去パワーレベルより低い所定のパルスを含む消去パターンを有した記録波形を用いてマークを形成するか、スペースを形成する。 - 特許庁
  • A mark or a space is formed by using a recording waveform which has an erasure pattern including a predetermined pulse in which a high- order level is higher than an erasure power level and a low-order level is lower than the erasure power level.
    上位レベルは消去パワーレベルより高くて下位レベルは消去パワーレベルより低い所定のパルスを含む消去パターンを有した記録波形を用いてマークを形成するか、スペースを形成する。 - 特許庁
  • While the second main pattern 12 is stationarily displayed, a second auxiliary pattern 22 is dropped from the upper level part in the display part 124 and passed over the second main pattern 12 to be displayed in the lower level part of the display part 124 (C).
    さらに、第２主図柄１２を停止表示すると共に、第２副図柄２２を、表示部１２４の上段部から落下させ第２主図柄１２上を通過させて、表示部１２４の下段部にて表示する（（Ｃ）参照）。 - 特許庁
  • A compensation pattern including a plurality of gray level portions and a plurality of fiducial marks is used.
    複数のグレーレベル部分及び複数の基準マークを含む補償パターンを使用する。 - 特許庁
  • The corrected gray level is further corrected by the density of each monochromatic pattern.
    また補正後にそれぞれの単色パターンの濃度値を求めて更に修正を加える。 - 特許庁
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