「line width control」を含む例文一覧(137)
＜前へ 1 2 3 次へ＞- To provide a side trimming control method whereby change in the width of a strip (steel plate) can be made by cutting with a side trimmer continuously without stopping a processing line.
ストリップ（鋼板）の幅変更をサイドトリマーによる切断を処理ラインを停止させることなしに連続的行える制御方法を実現する。 - 特許庁 - To fully control the final line width of a wafer in an application development treatment apparatus which has various treatment units by a plurality of units.
多種類の処理ユニットを複数台ずつ有する塗布現像処理装置において、最終的なウェハの線幅を十分に制御できるようにする。 - 特許庁 - To control a line width difference by adjusting an effective light source shape which is a light intensity distribution formed on the pupil plane of a projection optical system.
投影光学系の瞳面に形成される光強度分布である有効光源形状を調整することによって線幅差を制御する。 - 特許庁 - However, when the lane dividing line at the side closer to the obstacle is not detected, the lane dividing line taken to be reference for determining the above control start is displaced to the outside in the lane width direction.
但し、障害物に近い側の車線区分線を検出できない場合には、上記制御開始を判定する際に基準とする車線区分線を車線幅方向外側へ変位させる。 - 特許庁 - In such a case, the moving amount of an optical pickup 100 is made large at the inner peripheral side where the line width of the image is widened, by a main control part 170, while the moving amount of the optical pickup 100 is made smaller at the outer peripheral side where the line width is narrowed.
かかる場合、主制御部１７０は、該画像の線幅が広くなる内周側においては、光ピックアップ１００の移動量を大きく設定する一方、線幅が狭くなる外周側においては、光ピックアップ１００の移動量を小さく設定する。 - 特許庁 - A control circuit 12 generates a control signal e in which a pixel of the maximum light-emitting luminance of one scanning line is the pulse width of the maximum light-emitting time, and each of the other pixels of the one scanning line is converted to the pulse width of a ratio, corresponding to the ratio where the pixel of the maximum light-emitting luminance is the lighting rate of 100%.
制御回路１２は、１走査線の最大発光輝度の画素を最大発光時間とするパルス幅とし、その１走査線の他の画素のそれぞれについては、画素毎に最大発光輝度の画素を点灯率１００％としたのに対応した比率のパルス幅に変換した制御信号ｅを生成する。 - 特許庁 - When the same image is continuously printed and the image data includes a line of a predetermined length along a sheet conveying direction, the control circuit 22 generates the control signal CTL so as to shift the effective light emitting elements by a predetermined number of light emitting elements corresponding to the width of the line.
制御回路２２は、同一画像の連続印刷であり、且つ、用紙の搬送方向に所定の長さの線がある場合、線幅に応じた数の発光素子だけ、有効発光素子をずらすように制御信号ＣＴＬを生成する。 - 特許庁 - In the buttonholing machine, when a width correction factor is entered from a control panel for distances from the center line 201 of a buttonhole 200 to needle locations, a control device corrects distances between the center line 201 and the needle locations for needle locations rightwards of the center line 201 on the basis of the width correction factor and computes new needle locations.
本発明のボタン穴かがりミシンでは、ボタン穴２００の中心線２０１から針落ち点までの距離についての幅補正率を操作パネルから入力すると、制御装置がその幅補正率に基づいて、中心線２０１より右方の各針落ち点について、中心線２０１から当該各針落ち点までの距離を補正して、新たな針落ち点を演算する。 - 特許庁 - To precisely control time until an exposed substrate is heat-treated and to form an uniform line width.
露光後の基板を加熱処理するまでの時間を正確に管理することができ、均一な線幅を形成することが可能な基板受け渡し装置及び塗布現像理システムの提供。 - 特許庁 - To provide a stencil mask which can control line width with higher accuracy without influence of fine and coarse patterns and pattern size at the time of application of the near exposure method.
近接露光法を適用する際に、パターンの疎密、パターンサイズに影響されることなく、高精度な線幅制御が可能となるステンシルマスクを提供することである。 - 特許庁 - The above configuration enables temperature control depending on the warpage of the semiconductor wafer W or the actual device to uniform the line width and enables improving the yield products.
これにより、半導体ウエハＷの反りや実デバイスに応じた温度制御を可能にし、線幅の均一化等を図ると共に、製品歩留まりの向上を図ることができる。 - 特許庁 - To provide a material pattern formation method by an ink-jet method for giving a rectangular material pattern with good control performance of fine line width.
本発明の目的は、微細な線幅制御性の良い矩形な材料パターンが得られるインクジェット方式による材料パターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁 - SYSTEM AND METHOD FOR IMPROVING LINE WIDTH CONTROL FOR LITHOGRAPHY APPARATUS BY CHANGING ANGULAR DISTRIBUTION OF LIGHTING APPARATUS AS FUNCTION OF LIGHTING POSITION
照明装置における光の角分布を照明野位置の関数として変化させることによって、リソグラフィ装置における線幅のコントロールを改善するシステムおよび方法 - 特許庁 - Further the width interval control device is constituted so that a center line L3 is assumed to be a transportation reference line and each of transportation driving lines L1, L2 is driven back and forth in a direction intersecting the transportation of the plate like material P to be treated with respect to the transportation reference line L3.
また、横幅間隔調整装置として、中心ラインＬ３を搬送基準ラインとし、この搬送基準ラインＬ３に対して各搬送駆動ラインＬ１，Ｌ２を板状被処理物Ｐの搬送方向と直交する方向に進退駆動するように構成した。 - 特許庁 - To accurately control not only the width of the eaves of a barrier but also the width of its root, when forming the barrier having eaves and a root to separate an organic EL medium from a second electrode line, in a board for an organic EL display element.
有機ＥＬ表示素子用基板において、有機ＥＬ媒体／第２電極ラインを分離するためのひさしとすそを有する隔壁を形成するに当たり、隔壁のひさし幅ばかりでなく、すその幅をも正確に制御する - 特許庁 - A data calculating circuit 50 calculates display data by an amount equivalent to one line and the circuit 50 transmits a pulse width control signal such as that the voltage waveform of a write voltage immediately rises when a load is large and the waveform of the write voltage rises by being delayed when the load is small to a pulse width control circuit 51.
データ演算回路５０は、表示データを１ライン分演算し、負荷が大きいときには書込み電圧の電圧波形が直ちに立上がり、負荷が小さいときには書込み電圧の電圧波形が遅れて立上がるようなパルス幅制御信号をパルス幅制御回路５１に与える。 - 特許庁 - The circuit 1 to which a control pulse/P is inputted limits the pulse width of the forward pulse FCL by the fall of the control pulse/P when a control pulse P is inputted to the line 15 when the pulse FCL is 'H'.
前進パルス分裂対策回路１は、制御パルス/Ｐ が入力されており、前進パルスFCL が“Ｈ”のときに制御パルスＰが前進パルス用遅延線15に入力される場合には、前進パルスFCL のパルス幅を制御パルス/Ｐ の立下りまでに制限する。 - 特許庁 - The width interval control apparatus is constituted so that the transportation drive line L1 of the first transportation device 5A is assumed to be a transportation reference line and the transportation driving line L3 of the second transportation device 5B is driven back and forth in a direction intersecting the transportation direction of the plate like material P to be treated with respect to the transportation reference line.
この横幅間隔調整装置として、第一搬送装置５Ａの搬送駆動ラインＬ１を搬送基準ラインとし、この搬送基準ラインに対して第二搬送装置５Ｂの搬送駆動ラインＬ２を板状被処理物Ｐの搬送方向と直交する方向に進退駆動するように構成した。 - 特許庁 - Development information consisting of the line segment data to regulate the locus followed by the laser beams and the laser control data is generated from set information including the printing line width C and the profile adjustment value D, and the deflection control and the ON/OFF control of the laser beams are performed according to development information following the printing starting command.
印字線幅Ｃ及び輪郭調整値Ｄを含む設定情報からレーザー光がたどるべき軌跡を規定する線分データ及びレーザー制御データからなる展開情報を生成し、印字開始指令に伴って展開情報にしたがってレーザー光の偏向制御及びオン・オフ制御を行う。 - 特許庁 - The counter part 2 for thick line plotting inputs X coordinates and Y coordinates at each point on the outermost circumference or innermost circumference outputted from a counter part 1 for circle plotting and the thick line width control signal S2 outputted from the plotting control circuit 3, changes coordinates in an X or Y axial direction being a plotting direction in a one-pixel unit and outputs plotting signals only for a designated thick line width.
太線描画用カウンタ部２は、円描画用カウンタ部１から出力される最外円周上または最内円周上の各点でのＸ座標およびＹ座標と、描画制御回路３から出力される太線幅制御信号Ｓ２とを入力して、描画方向であるＸ軸方向またはＹ軸方向の座標を１ピクセル単位で変化させ、指定された太線幅だけの描画信号を出力する。 - 特許庁 - A control section 63 conveys a piece of paper, on which a line pattern is projected in a width direction by a pattern projector 62, to a fixing nip; measures the shape of the line pattern on paper by means of an area sensor 61; and detects the shape of deformation outside the surface of paper.
制御部６３は、パタン投影機６２で幅方向にラインパタンが投影された用紙を定着ニップへ搬送し、エリアセンサ６１で、用紙上のラインパタンの形状を測定して、用紙の面外変形形状を検知する。 - 特許庁 - The control means may be configured to determine whether the pattern rises or falls from the line profile generated based upon the difference between the signal detected by the first electron detection means and the signal detected by the second electron detection means, and to measure a line width of a line.
制御手段は、第１の電子検出手段で検出された信号と第２の電子検出手段で検出された信号との差分を基に作成されたラインプロファイルによりパターンの立下り又は立上りを判定し、ラインの線幅を測定するようにしてもよい。 - 特許庁 - To uniform a line width and improve the yield of products by enabling temperature control depending on the warpage of a substrate to be processed and on an actual device by a single heater.
単一のヒータで、被処理基板の反りや実デバイスに応じた温度制御を可能にし、線幅の均一化等を図ると共に、製品歩留まりの向上を図れるようにすること。 - 特許庁 - To accurately control a width distribution of ultraviolet rays radiated in a line to an irradiation object, in a structure in which a diffraction grating pattern is formed on each side of a diffractive optical element.
回折光学素子の両面に回折格子パターンが形成された構造で、照射対象にライン状に照射される紫外線の幅方向の配光を精度よく制御する。 - 特許庁 - A control unit 161 extracts the aging trend of the line width of the pattern formed by the coating development treatment system 1 on the basis of measuring information accumulated in the accumulating unit 160.
制御装置１６１では，蓄積装置１６０に蓄積された測定情報に基づいて，塗布現像処理システム１で形成されるパターンの線幅の経時的な傾向を導出する。 - 特許庁 - The fuel flow control device for an oil combustor burner using the return type pressure spray nozzle has in a return line a flow regulating valve driven by valve opening time control based on a duty ratio for varying a pulse width.
戻り式圧力噴霧ノズルを用いた石油燃焼器用バーナの燃料流量制御装置にあって、戻し路には、パルス巾を可変するデューティ比による開弁時間制御にて駆動される流量調整弁を設けたことにある。 - 特許庁 - The line memory device 100 includes a line memory macro 101 which uses serial/parallel conversion, a shift register 111 which has its capacity equal to the bit width of the data to be converted into the parallel data, a selector 109 and a control block 110 which controls the register 111 and selector 109.
ラインメモリ装置１００は、シリアルパラレル変換を用いたラインメモリマクロ１０１、パラレル変換するデータのビット幅と同じ容量のシフトレジスタ１１１、セレクタ１０９、シフトレジスタ１１１とセレクタ１０９を制御する制御ブロック１１０とを備える。 - 特許庁 - Alternatively, the moving distance of the sheet 50 is measured with the magnetic scale 60a and the magnetic detector 60b, and the read time Ti of each reading line is controlled by a control means 32a so that the width of each read line of the sheet 50 becomes constant.
または、蓄積性蛍光体シート50の各読取りラインの幅が一定になるように、磁気スケール60aおよび磁気検出器60bによってシート50の移動距離を測定し、制御手段32aによって各読取ラインに対する読取時間Ｔ_ｉを制御する。 - 特許庁 - The patterns 57 and 59 are restrained from intersecting joints 63 and 67 of the fields 61 and 65 on the original plates, so that the exposure patterns can be prevented from degrading in control accuracy of the exposure line width at joints.
各々の原板では、フィールド６１、６５の繋ぎ部６３、６７にはパターン５７、５９がかからないようにしたので、繋ぎ部において露光線幅の制御精度が損なわれることが回避される。 - 特許庁 - The control part 71 makes a carrying-amount set value of the paper 21 smaller than a value equivalent to the width dimension of one line in the carrying operation in which a back end of the paper 21 passes through a point of the pressure contact by the paper feeding roller 25.
制御部７１は、用紙２１の後端が給紙ローラ２５による圧接点を通過する搬送動作において、用紙２１の搬送量設定値を１行の幅寸法分より小さくする。 - 特許庁 - The first control part 6 is made of a fitting group comprising a front fitting part 12 and a back fitting part 13 positioned at the front and back of the cover 3 in the width direction provided in a line in the right and left direction of the cover.
第１規制部分６は、蓋体３の幅方向前後に位置する前の係合部１２と後の係合部１３とからなる係合部組が蓋体の左右方向に並設されてなる。 - 特許庁 - The positive terminal 12a, the negative terminal 12b, and the temperature detection terminal 12d are arranged on one side with respect to a center line P1 in the width direction of the pack body 11, the control terminal 12c is arranged on the other side.
プラス端子１２ａ、マイナス端子１２ｂ、温度検出端子１２ｄは、パック本体１１の幅方向の中心線Ｐ１より一方の側に設けられ、コントロール端子１２ｃは、他方の側に設けられる。 - 特許庁 - To provide a wavelength variable light source capable of performing high-precision wavelength control by suppressing an increase in spectrum line width and phase noise due to wavelength fluctuations exceeding a response speed of a motor.
モータの応答速度以上の波長揺らぎによるスペクトル線幅の増大や位相雑音を抑制することによって高精度の波長制御を行うことができる波長可変光源を提供する。 - 特許庁 - This microscope where observation data are acquired by irradiating an observation object with the deep ultraviolet light has a control part measuring the line width of a pattern provided at the prescribed position of the observation object and stopping the irradiation of the observation object with the deep ultraviolet light when the line width of the pattern attains a prescribed limiting value.
観察対象に深紫外光を照射して観察データを取得する顕微鏡において、該観察対象の所定の位置に設けられたパターンの線幅を測定し、該パターンの線幅が所定の制限値に達した場合に、該観察対象への深紫外光の照射を停止する制御部を有することを特徴とする。 - 特許庁 - A scanner 104 outputs a control signal having a predetermined pulse width to a scan line WSL to turn on a sampling transistor 3A in a time zone wherein a signal line DTL is at a signal potential, and then holds the signal potential in a holding capacitor 3C.
スキャナ１０４は、信号線ＤＴＬが信号電位にある時間帯にサンプリング用トランジスタ３Ａを導通状態にするため、所定のパルス幅を有する制御信号を走査線ＷＳＬに出力し、以って保持容量３Ｃに信号電位を保持する。 - 特許庁 - An electric control circuit device 150 detects a distance (Z-axis directional distance) Lz from a mirror 115 to the object surface in compliance with the light receiving position by the line sensor 118 and detects a light receiving width Lzs of the reflected light by means of the line sensor 118.
電気制御回路装置１５０は、ラインセンサ１１８による受光位置に応じてミラー１１５から対象物の表面までの距離（Ｚ軸方向の距離）Ｌｚを検出するとともに、ラインセンサ１１８による反射光の受光幅Ｌzsを検出する。 - 特許庁 - A width of the power supply line for supplying a power source potential corresponding to a potential which major switch control signal supply circuits output at this timing, out of the two kinds of power source potentials is thicker than that of the power supply line for supplying the other power source potential.
前記２種類の電源電位のうち、前記タイミングでより多くの前記スイッチ制御信号供給回路が出力する電位に対応する電源電位を供給する電源線の幅が、他方の電源電位を供給する電源線の幅より太い。 - 特許庁 - A lighting tool system 100 for a vehicle includes: a lighting tool for an vehicle 70 in which a cutoff line extended in the vehicle width direction can be moved in the vertical direction in a light distributing pattern for a low beam; and a control part which controls the movement quantity of the vertical direction of the cutoff line.
車両用灯具システム１００は、ロービーム用配光パターンにおいて車幅方向に延びるカットオフラインを上下方向に移動可能な車両用灯具７０と、カットオフラインの上下方向の移動量を制御する制御部と、を備える。 - 特許庁 - Furthermore, the system control apparatus 401 receives a specification of a photographing area of at least two directions of a body axial (z) direction, a horizontal (x) direction, or a vertical (y) direction (photographing area line 85), and the opening width of a collimator 203 is controlled in order to irradiate X rays with the irradiation width corresponding to the radiographing area.
更に、システム制御装置４０１は、体軸（ｚ）方向、左右（ｘ）方向、または上下（ｙ）方向の少なくとも２方向の撮影範囲の指定を受け付け（撮影範囲ライン８５）、撮影範囲に応じた照射幅でＸ線を照射するよう、コリメータ２０３の開口幅を制御する。 - 特許庁 - The device is equipped with LCSs(liquid crystal shutters) 11 which control output gradations of the image by adjusting the quantity of monochromatic light by pixels according to original image information and an optical retardation plate 10 which has width corresponding to at least the width of the line light in a horizontal scanning direction and optically uniform characteristics.
原画像情報に応じて、各画素毎における単色光の光量を調整して、画像の出力階調を制御するＬＣＳ１１と、少なくとも上記ライン光の主走査方向の幅に相当する幅を有し、光学的に均一な特性を有する位相差板１０とを備える。 - 特許庁 - To provide a method and apparatus for supplying a paint capable of always obtaining stable coating finish, even in such a state that the control width of air conditioning temperature is large, in an industrial coating line without requiring a large number of processes of a thinner diluted paint or complicated stock control.
工業用塗装ラインにおいて、シンナー希釈塗料の多大な工数や煩雑な在庫管理を要することなく、空調温度の管理幅が広い状態でも常に安定した塗装仕上りが得られる塗料供給方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - In a built-in voltage dividing resistor, a metallic thin film having width not less than 1 mm is placed on the dielectric tapetum face of inner wall side of the neck part, between the middle voltage terminal of the voltage dividing resistor and the discharge control metallic line, and in at least not less than 1 mm from the metallic line.
内臓された分圧用抵抗器の、ネック部内壁側の絶縁被膜面上であって、分圧抵抗器の中間電圧端子と放電抑制金属線との間で、この金属線から少なくとも１ｍｍ以上離間した位置に１ｍｍ以上の幅の金属薄膜を設ける。 - 特許庁 - To control the operation such that an edge having a level difference is made smoother and longitudinal, lateral or oblique line has a uniform line width when a document is read out with a scanner, a digital image signal thus obtained is subjected to image processing and an image is reproduced on a transfer sheet by means of a printer.
スキャナー等により原稿を読み取り、得られたディジタル画像信号に対して画像処理をおこない、プリンター等において転写紙に画像を再生するにあたり、段差のあるエッジ部分をより滑らかにしたり、縦線や横線や斜め線が一様の線幅となるように制御すること。 - 特許庁 - To provide a connection control procedure which can realize internet communication in addition to a telephone line, secures sufficient timing adjustment width even if a distance between a line wire connection trunk or an outer base station and a relay connection trunk becomes far and directly connects mutual mobile terminals.
従来のアンテナ制御装置は電話回線の接続を目的とし、また、外線接続トランクあるいは外部の基地局と中継接続トランクの間の距離が遠くなるとタイミングを調整するための調整幅が大きくなり過ぎ、中継接続トランク側だけでは調整を仕切れなくなる。 - 特許庁 - The scan control part 401 outputs a driving signal LD2 for the light source 41 synchronized with the second line period T2 as a pulse signal divided into a plurality of the same pulse width T5, so that the light emission time for the first and second line periods T1 and T2 are equalized.
走査制御部４０１は、第１及び第２のライン周期Ｔ１，Ｔ２における発光時間が等しくなるように、第２のライン周期Ｔ２に同期する光源４１への駆動信号ＬＤ２を同一パルス幅Ｔ５に複数分割したパルス信号として出力する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor storage device which has a floating gate and a control gate and whose source and drain regions are asymmetrical and which can avoid the increase of the resistance of a bit line arranged between the floating gates in itself and besides can scale down the bit line width.
フローティングゲート及びコントロールゲートを有し、ソース／ドレイン領域が非対称である半導体記憶装置におけるフローティングゲート間に配置されるビット線抵抗の増大を避け、かつ、ビット線幅を縮小することができる半導体記憶装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a printer using an organic EL element (electroluminescent element) as a light source of a light emission unit part, wherein dispersion of a line or an expanse of a width of one line in a main scanning direction is eliminated by especially performing control such that an exposure spot from the EL element becomes uniform.
本発明は発光ユニット部の光源として有機ＥＬ素子（electro luminescence element）を使用した印刷装置に関し、特にＥＬ素子からの露光スポットが一様になるように制御し、主走査方向での１ラインの幅の広がりやラインのバラツキを無くす印刷装置を提供するものである。 - 特許庁 - One end 11 of the collector 1 is measured by a running line control sensor 9, and a die nozzle 6 is moved in vertical direction to the running direction of the collector by a deviation width between the measuring position and the reference position.
集電体１の一端１１を走行ライン制御センサ９で測定し、測定位置と基準位置のズレ幅分だけ、ダイノズル６を集電体の進行方向に対して垂直方向に移動させる。 - 特許庁 - Detection brightness distribution Y corresponding to a correction reference line L orthogonal to a correction code C along a width direction β is detected on the basis of a pixel signal from an imaging part 22 by a control part 21.
制御部２１により、撮像部２２からの画素信号に基づいて補正用コードＣに対し幅方向βに沿うように直交する補正基準線Ｌ上に対応する検出輝度分布Ｙが検出される。 - 特許庁 - To provide a high-performance, high-reliability semiconductor laser device which operates at a single wavelength and allows arbitrary wavelength control, while a laser oscillation spectral line width is narrow, for fast response with out reducing optical output.
レーザ発振スペクトル線幅が狭く、かつ光出力を減少することなく高速応答できる任意な波長制御が可能な単一波長で動作する高性能、高信頼度な半導体レーザ装置を提供する。 - 特許庁
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