「linear pattern」を含む例文一覧(442)

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  • To provide a branch point detecting method and a branch point detection program for an irregular linear pattern capable of accurately and efficiently detecting a branch point in an irregular linear pattern such as vascularization.
    血管新生などの不規則線状パターンにおいて分岐点を的確にかつ効率よく検出することができる不規則線状パターンの分岐点検出方法および分岐点検出プログラムを提供することを目的とする。 - 特許庁
  • Further, a part of the linear coil 2 is facingly disposed at the boundary part 17 between the stepped shaft 15 and the gear 16, the hardened pattern of the gear 16 with the annular coil 1 and the hardened pattern of the stepped shaft 15 with the linear coil 2, are connected.
    また、段付き軸15と歯車16の境界部17に、ラインコイル2の一部を対向配置し、環状コイル1による歯車16の焼入パターンと、ラインコイル2による段付き軸15の焼入パターンとをつなげる。 - 特許庁
  • To make possible to draw the high precision line pattern, increasing degree of freedom in drawing a high precision line pattern, determine a defect and measure a length, not only forming a linear beam to a X-axis and a Y-axis directions, but also forming a linear beam to a certain direction.
    X軸、Y軸方向の線形ビームを形成するだけでなく、任意の方向の線形ビームは形成して、高精度なラインパターン描画の自由度を増し、高精度なパターン描画、欠陥検査、測長を可能する。 - 特許庁
  • To provide a pattern formation method by which the direction of bulges formed in a linear pattern is controlled as compared with that in the case linear patterns are formed by applying droplets of a composition without forming patterns for inducing bulges on the surface of a substrate.
    基材の表面にバルジを誘導するためのパターンを形成せずに組成物の液滴を付与して線状パターンを形成する場合に比べ、線状パターンに生じるバルジの方向が制御されるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • The second overlapping measurement mark comprises a third pair of line pattern groups 124a, 124b consisting of a plurality of parallel linear patterns and a fourth pair of line pattern groups 125a, 125b consisting of a plurality of parallel linear patterns.
    第2の重ね合わせ測定マークは、平行な複数の線状パターンよりなる一対の第3のラインパターン群124a、124bと、平行な複数の線状パターンよりなる一対の第4のラインパターン群125a、125bとを有する。 - 特許庁
  • The first overlapping measurement mark comprises a first pair of line pattern groups 114a, 114b consisting of a plurality of parallel linear patterns and a second pair of line pattern groups 115a, 115b consisting of a plurality of parallel linear patterns.
    第1の重ね合わせ測定マークは、平行な複数の線状パターンよりなる一対の第1のラインパターン群114a、114bと、平行な複数の線状パターンよりなる一対の第2のラインパターン群115a、115bとを有する。 - 特許庁
  • Each of the plurality of ceramic sheets 2A1 and 2A2 has one or more linear grooves 3A1 to 3A8, and these linear grooves are filled with linear conductive members 5A1 to 5A8 constituting a conductive pattern 4C.
    複数のセラミックシート2A1、2A2は1個または2個以上の直線溝3A1〜3A8をそれぞれ有しており、導電パターン4Cを構成する直線状の導電部材5A1〜5A8がその直線溝にそれぞれ充填されている。 - 特許庁
  • The manufacture method of the microstructure, which applies a photosensitive material on a substrate having an electrode for plating, forms a linear pattern of the exposed electrode on the substrate by patterning with exposure light, fill metal on the pattern with plating, to form the microstructure, comprises forming the linear pattern so that an intersecting angle of the linear pattern may exceed 90 degrees.
    メッキ用電極を備えた基板上に感光性材料を設け、露光光を用いてパターニングすることで、前記メッキ用電極を前記基板上に露出させて形成された線状パターン上に、金属をメッキによって充填し、マイクロ構造体を形成するようにしたマイクロ構造体の作製方法において、前記線状パターンを形成するに際して、該線状パターンの交差する角度を90度を超えるように構成する。 - 特許庁
  • On the command repeating board 90, a linear pattern is formed as a wiring pattern for connecting each connector part with the one-way buffer 91.
    そして、コマンド中継基板90上には、各コネクタ部と片方向バッファ91との間を接続する配線パターンとして、直線状のパターンが形成されている。 - 特許庁
  • Then, the pattern wiring is linearly formed along the x-direction, and each mesh shape of the conductor layers 10 and 20 has a linear line along the pattern wiring.
    このとき、パターン配線はx方向に沿って直線状に形成され、導体層10,20の網目形状は、パターン配線に沿った直線状の列を有している。 - 特許庁
  • When a plurality of linear patterns are printed in parallel, a pattern region PT1 matching a design pattern is printed on a printing plate 17 and dummy printing is performed.
    平行な複数の直線状パターンを印刷するにあたって、設計上のパターンと一致するパターン領域PT1を印刷版17に掲載して、ダミー印刷を行う。 - 特許庁
  • To provide a thin-film pattern substrate where a thin linear fine film pattern is precisely and stably formed, a manufacturing method for a device, an electo-optical device, and electronic equipment.
    細い線状の微細な膜パターンが精度良く安定して形成された膜パターン基板、デバイスの製造方法、及び電気光学装置、並びに電子機器を提供する。 - 特許庁
  • The device includes pattern areas defined on a semiconductor substrate and many linear patterns arranged parallel to a first space in each pattern area.
    本発明によるこの素子は、半導体基板に定義されたパターン領域及び各パターン領域に第1間隔に平行に配置された多数のライン型パターンを含む。 - 特許庁
  • Inductive coupling of a coil in the transmitting part and the receiving part is attenuated according to a linear position of the pattern of the coupler.
    送信部および受信部におけるコイルの誘電結合は、カプラのパターンの線状位置にしたがって減衰する。 - 特許庁
  • To provide a method for producing artificial marble, capable of expressing a linear flow pattern continuous in one direction being an appearance of natural marble.
    天然の大理石の外観である一方向に連続した線状の流れ模様を表現することができる。 - 特許庁
  • To provide a solid state imaging device in which the I/O relation of a signal is linear and fixed pattern noise is reduced.
    信号の入出力関係が線形であり、また、固定パターン雑音が低減された固体撮像装置を提供する。 - 特許庁
  • The resist pattern in a desired cylindrical shape is obtained by exposing the resist while varying the position of the linear light source.
    線光源の位置を変化させながら露光を行うことで、所望のシリンドリカル形状のレジストパターンを得ることができる。 - 特許庁
  • As a result, a reliable and linear or a point-shaped contact point is formed between the tip 4a and the electrode pattern 8.
    この結果、先端4aと電極パターン8の間に確実な線状あるいは点状の接点が形成される。 - 特許庁
  • The coded patterns are as follows: circle, linear, matrix, variable bit length matrix, multi level matrix, black and white (binary) and gray scale pattern.
    コード化されるパターンには、円形、リニア、マトリクス、可変ビット長マトリクス、多層マトリクス、白黒(バイナリ)、およびグレースケールパターンがある。 - 特許庁
  • The 3rd drive part 154 rotates the laser light emitting part 152 around the linear semiconductor raw material 30, and at the same time, a circuit pattern is drawn on the linear semiconductor 30 with a laser beam.
    第3の駆動部154によってレーザ出射部152は線状半導体素材30の周りを回転し、同時にレーザビームによって回路パターンを線状半導体30に描画する。 - 特許庁
  • A pattern identification device not only analyzes structure characteristics of a pattern sample to be identified but also performs linear embedding analysis of the pattern sample to be identified in a kernel space, by a semi-supervised learning mechanism.
    パターン識別装置は、半教師あり学習メカニズムによって、識別対象パターンサンプルの構造特性を解析すると共に、核空間内で識別対象パターンサンプルに対し線形埋め込み解析を行う。 - 特許庁
  • This size measuring device is used for measuring the size of the semiconductor device having the first pattern comprising repeated structure and the linear second pattern formed across the repeated structure over the first pattern.
    繰り返し構造からなる第1のパターンと、第1のパターンの上に繰り返し構造を跨いで形成された線状の第2のパターンと、を有する半導体装置の寸法測定に用いられる寸法測定装置である。 - 特許庁
  • A registration chart 40 is used which has a white or black linear pattern 42 which slant at 45° to the horizontal and vertical and two parallel green and magenta linear patterns 44G and 44M crossing the linear pattern 42 and spaced at an interval corresponding to a specified pixel shift quantity.
    水平垂直に対して45度傾斜した白色又は黒色の線状パターン42と、この線状パーン42と直交し、所定の画素ずらし量に対応した間隔だけ離間した2本の平行な緑色の線状パターン44G,マゼンタ色の線状パターン44Mとを有するレジストレーションチャート40を使用する。 - 特許庁
  • The manufacturing method for the screen printing plate 1 comprises a process of forming a first resist pattern 11 having linear shapes to be a plurality of mesh openings 3 along one direction, and a process of forming a second resist pattern 13 having linear shapes intersecting the first resist pattern 11 and outer edge shapes surrounding these linear shapes.
    また、本発明に係るスクリーン印刷版1の製造方法は、一方向に沿った複数のメッシュ開口部3となる直線形状を有する第1のレジストパターン11を形成する工程と、第1のレジストパターン11と交差する直線形状、及び、これらの直線形状を囲んだ外縁形状を有する第2のレジストパターン13を形成する工程とを含んでいる。 - 特許庁
  • The linear pattern 21 provided on the coil substrate 20 electrically connects the adjacent two linear patterns 11 provided on the coil substrate 10 via the connections 12, 22, and the linear patterns 11, 21 and the connections 12, 22 form a spiral winding.
    コイル基板20に設けた線状パターン21は、接続部12,22を介してコイル基板10に設けた隣接する2個の線状パターン11を電気的に接続し、線状パターン11,21と接続部12,22とにより螺旋状の巻線が形成される。 - 特許庁
  • The linear scanning pattern 14 can be steered at a desired angle θ so as to provide a high quality image.
    直線走査パターン14は、高品質画像が得られるよう所望の角度θに操向させることが可能なものである。 - 特許庁
  • To print a color image on a recording medium and also to print a linear pattern on a surface of the color image through one process.
    1工程で、記録媒体にカラー画像を印刷するとともに、このカラー画像の表面に線状のパターンを印刷する。 - 特許庁
  • The linear stitch pattern is preferably 0.1 to 0.5 mm thicker than the other part.
    上記の線状の縫目模様部分の層の厚さは、他の部分の層の厚さより0.1〜0.5mm厚く盛り上がっているのが好ましい。 - 特許庁
  • Also, one end part of the linear conductor part 16 is bonded with a terminal part 33 and the other end part is bonded with a wiring pattern 18a.
    また、線状導体部16は、一端部が端子部33と接合され、他端部が配線パターン18aと接合されている。 - 特許庁
  • Of the linear conductor part 15, one end part is bonded with a terminal part 34 and the other end part is bonded with a wiring pattern 18b.
    線状導体部15は、一端部が端子部34と接合され、他端部が配線パターン18bと接合されている。 - 特許庁
  • To provide an image processing unit that properly detects a linear pattern from an input image with poor contrast to apply binary processing to the image.
    コントラストの悪い入力画像から線状パターンを適切に検出し、二値化処理を行う画像処理装置を提供する。 - 特許庁
  • The pattern poultice is characterized by the linear patterns 2 with vertical, horizontal and diagonal lines added to the front or rear surface of the conventional poultice sheet 1.
    従来の湿布シート(1)の表または、裏側に縦、横、斜めを加えた線状の模様(2)を設けることを特徴とする。 - 特許庁
  • The test chart 10 is provided with a temperature adjusting portion 20 for adjusting the temperature of the chart board 12 and the linear pattern 15a.
    テストチャート10には、チャート板12と線状パターン15aとの温度を調節する温度調節部20が設けられる。 - 特許庁
  • The four electrode parts arranged with the same pattern are included in respective linear flow passage areas of the flow passage 110.
    流路110の各直線状流路領域には同じ配列パターンで配置された四つの電極部が含まれている。 - 特許庁
  • A substrate for a liquid crystal display in one embodiment includes a polygonal pixel or a polygonal sub-pixel, and a linear pattern 7.
    実施形態に係る液晶表示用基板は、多角形画素又は多角形サブピクセルと、線状パターン7とを具備する。 - 特許庁
  • In addition, the linear pattern 13 of the face 12a side is silk screen-printed in the form of a lenticular lens using an ultraviolet-curable ink.
    加えて、表面12a側の線状パターン13を、紫外線硬化インキを用いてレンチキュラーレンズ状にシルクスクリーン印刷する。 - 特許庁
  • In the semiconductor device for forming a conductor pattern 3 through an insulation layer 2 on a metal substrate 1 and directly soldering a semiconductor bare chip 7 on the conductor pattern 3, the semiconductor bare chip 7 is sealed by a resin 8 having the substantially equal linear expansion coefficient as the linear expansion coefficient of the conductor pattern 3.
    金属基板1上に絶縁層2を介して導体パターン3が形成され、該導体パターン3上に半導体ベアチップ7が直接半田付けされた半導体装置において、前記導体パターン3の線膨張係数とほぼ等しい線膨張係数を有する樹脂8により前記半導体ベアチップ7を封止した。 - 特許庁
  • In the case of forming a lower electrode of a wire or a non-linear element by a tantalum pattern 13x containing nitrogen, a nitrogen-contained resist pattern 60 having an inverted pattern of the tantalum pattern is formed on a substrate 20x in a resist pattern formation process, and then a tantalum film 13 is formed on the substrate 20x in a film formation process.
    配線や非線形素子の下電極を窒素含有のタンタルパターン13xにより形成するにあたって、レジストパターン形成工程において、タンタルパターンの反転パターンを有する窒素含有のレジストパターン60を基板20x上に形成した後、成膜工程において、基板20x上にタンタル膜13を成膜する。 - 特許庁
  • A linear pattern 10 which retards or blocks transfer of the internal stress of a resist is disposed around the main pattern of a chip to relieve the internal stress.
    チップのメインパターンの外周部に、レジスト内部応力の伝達を緩和あるいは遮断する線形形状パターン10を設けることにより、内部応力を緩和することを特徴とする。 - 特許庁
  • Furthermore, a characteristic pattern wherein the linear regions L1, L2, L3 are aligned along the width direction is extracted from the converted image and, from the characteristic pattern, a line running along a longitudinal direction is created.
    さらに、この変換後の画像から線状領域L1,L2,L3が幅方向に沿って並ぶ特徴パターンを抽出し、その特徴パターンから長手方向に沿うラインを生成する。 - 特許庁
  • A filter kernel mask is determined in response to detected pattern information using pattern information carried by the input image, then non-linear filtering is added to the input image accordingly.
    入力映像が有するパターン情報を利用して検出されたパターン情報に従ってフィルターカーネルマスクを決定し、これに従って入力映像に対して非線形フィルターリングを加える。 - 特許庁
  • Further, the gate electrode is formed with a linear mask pattern, so that a sufficient overlapping margin can be obtained as compared with a conventional contact or bar pattern.
    また、ライン形態のマスクパターンを利用してゲート電極を形成することによって、従来のコンタクト形態やバー形態のパターンに比べてオーバーラップマージンを十分に確保することができる。 - 特許庁
  • In the TEG pattern 9b, a plurality of first linear patterns are arranged parallel to each other with an interval that is equal to or smaller than the minimum wiring interval of the wiring pattern 9a.
    TEGパターン9bは、配線パターン9aにおける最小の配線間隔以下の間隔で、複数の第1線状パターンを互いに平行に配置した構成を有する。 - 特許庁
  • To prevent size valuation due to difference in a mask pattern layout when a linear pattern of a gate electrode/wiring or metal-wiring of a MOS transistor.
    MOS型トランジスタのゲート電極・配線又はメタル配線等のライン状パターンを形成するときに、マスクパターンレイアウトの違いに起因して寸法ばらつきが生じることを防止する。 - 特許庁
  • To provide an operation device for conducting switching between an advance and a retreat, capable of conducting a switching operation from an advance mode to a retreat mode in a vehicle or the like, to a linear shift pattern and a two-dimensional shift pattern.
    車両等における前進モードから後進モードへの切換操作を、直線状のシフトパターンと二次元的なシフトパターンとに切換可能な前後進切換操作装置を提供する。 - 特許庁
  • A projection part 31 having a linear pattern is provided in an inner surface of an upper side metal mold 3 in a pair of upper/lower metal molds 2 and 3 and a styrene foam molding 1 having a groove part 11 corresponding to the linear pattern is molded using the molds 2 and 3.
    上下一対の金型2,3のうち、上側の金型3の内表面に線状模様を有する突出部31を設け、この成形型2,3を用いて線状模様に対応した溝部11を有する発泡スチロール成型品1を成形する。 - 特許庁
  • Thereby, first side portions 91y of the device patterns 91a are formed in a linear manner along the exposure pattern in the first exposure step, and second side portions 91x of the device patterns 91a are formed in a linear manner along the exposure pattern in the second exposure step.
    このため、デバイスパターン91aの第1辺部91yは、第1露光工程での露光パターンに沿って直線的に形成され、デバイスパターン91aの第2辺部91xは、第2露光工程での露光パターンに沿って直線的に形成される。 - 特許庁
  • An encoder signal FS is output from a low pass filter into which the output of a magnetic linear encoder detecting a magnetic linear scale having a magnetic application pattern in which magnetic field strength is switched strong and weak is input.
    磁界強度が強弱に切り換わる着磁パターンをもつ磁気リニアスケールを検出した磁気式リニアエンコーダの出力を入力したローパスフィルタからは、エンコーダ信号FSが出力される。 - 特許庁
  • Then, the linear conductor is wired on the substrate according to the prescribed wiring pattern, while sticking the linear conductor on the surface of the substrate in the manner of pinpoint by reciprocating the wiring head.
    そして布線ヘッドの往復移動により線状の導体を基材の表面にピンポイント的に貼付しながら、所定の布線パターンに従って線状の導体を基材上に布線していく。 - 特許庁
  • The laser medium 6 is excited by light having a lateral multi-mode pattern, and the wavelength conversion element 10 is irradiated with linear fundamental waves provided by oscillation of the laser medium 6 to output linear converted waves.
    横マルチモードパターンの光でレーザ媒質6が励起され、レーザ媒質6の発振により得られる線状の基本波を波長変換素子10に照射して線状の変換波を出力する。 - 特許庁
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