「maximum depth」を含む例文一覧(245)
＜前へ 1 2 3 4 5 次へ＞- Assuming a maximum diameter of a cavity 5 formed in a piston 2 as D1, a lip diameter as D2 and the maximum depth as H, a value of (D1-D2)/D1 being the reentrant ratio is set to substantially 0.1 and a value of D1/H being the aspect ratio is set to substantially 4.
ピストン２に形成されたキャビティ５の最大径をＤ１、リップ径をＤ２、最大深さをＨとした場合に、リエントラント率である（Ｄ１−Ｄ２）／Ｄ１の値を略０．１、かつ、アスペクト比であるＤ１／Ｈの値を略４とする。 - 特許庁 - To provide a mimic electrode for monitoring a local corrosion to measure at its place by evaluating a maximum local corrosion speed or maximum corrosion hole depth and a method for monitoring a local corrosion using the electrode.
最大の局部腐食速度もしくは最大の腐食孔深さを評価でき、かつその場での測定が可能な局部腐食モニタリング用模擬電極および当該電極を用いた局部腐食モニタリング方法を提供する。 - 特許庁 - (a) A dress depth when a grinding wheel is dressed by moving a dresser within a working plane of the grinding wheel with the dresser contacting the working plane of the rotating grinding wheel, or a depth of cut s when a grinding object is ground by a dressed grinding wheel, and a maximum depth value t of a groove formed in the grinding wheel by dressing are determined.
（ａ）回転する砥石の作用面にドレッサーを接触させた状態で、砥石の作用面内でドレッサーを移動させて、砥石をドレスするときのドレス深さ、または、ドレスされた砥石で被研削物を研削するときの研削切り込み量ｓ、及び、ドレスにより砥石に形成される溝の最大深さの値ｔを決定する。 - 特許庁 - This method comprises the following practice: the size of each of food material pellets to be fed to an injection expansion apparatus when expanded molded foams for food are to be produced is set to the depth of the screw groove of the injection expansion apparatus, in particular being set within the range from the minimum groove depth×0.5 to the maximum groove depth×0.8.
食品用の発泡成形体を製造する際に射出発泡装置に供給する食品材料ペレットの大きさを、射出発泡装置のスクリュー溝深さに合わせ、特に、射出発泡装置のスクリューの最小溝深さ×０．５〜最大溝深さ×０．８の範囲内に設定する。 - 特許庁 - The slide face is arranged to piston ring peripheral areas (11, 12), which are at least partially installed at the volume removed by abrasion to a maximum abrasion depth (13).
この滑動面は最大磨耗深さ（１３）まで磨耗によって除去される量で少なくとも部分的に設けられたピストン・リング周縁域（１１、１２）に配置されている。 - 特許庁 - The expanded width 6b is provided at the area Y where the maximum depth D of the siping shape narrow groove from the ground surface 7 is not less than 20% and not more than 90%.
拡幅部６ｂは、前記接地表面７から該サイピング状細溝の最大深さＤの２０％以上かつ９０％以下の領域Ｙに設けられる。 - 特許庁 - Pmax : maximum pressing force to a rotary arm 8, h : the arm length of the rotary arm 8, ϕ : a diameter of the permanent pile 2, and L1 : the burying depth of the permanent pile 2.
なお、Ｐｍａｘ：回転アーム８に対する最大の押力、ｈ：回転アーム８の腕の長さ、φ：本設杭２の直径、Ｌ１：本設杭２の埋設深さである。 - 特許庁 - The recessed part 11 has the maximum tire radial depth D1 of 0.5-1.5 mm, and a tire circumferential length L1 of 0.5-1.5 mm on a block cross section perpendicular to the sipe.
凹部１１は、サイプと直角なブロック断面において、タイヤ半径方向の最大深さＤ１が、０．５〜１．５mmかつタイヤ周方向の長さＬ１が０．５〜１．５mmである。 - 特許庁 - A maximum acquiring space (that is, the smallest number of acquired sheets) satisfying such a condition means the case that the acquired space agrees with the depth of field DOF of an imaging part.
このような条件を満足する最大の取得間隔（すなわち、最低の取得枚数）は、取得間隔が撮像部の被写界深度ＤＯＦと一致する場合である。 - 特許庁 - In the cutting process, a part or all of the surface layer part of the carbon steel base material is cut to the maximum decarburization depth or more to manufacture the desired sliding components 17, 23, 24, 26, 39, 60.
切削工程では、炭素鋼母材の一部又は全部の表層部分が最大脱炭深さ以上切削されて所望の摺動部品１７，２３，２４，２６，３９，６０が製造される。 - 特許庁 - The crystallized layer may be formed only on the inside surface of the quartz crucible at a level corresponding to 1/2 or below of maximum depth h_0 of the silicon melt at the beginning of melting.
なお、前記の結晶化層は、溶解初期のシリコン融液の最大深さｈ_0の１／２に相当するレベル以下の石英ルツボの内表面にのみ形成されていてもよい。 - 特許庁 - After the corrosion test, corrosion product in a steel plate clad section is removed, a plate thickness decrement is measured by a micrometer, thereby measuring the maximum corrosion depth of an evaluation part.
腐食試験後、鋼板合わせ部の腐食生成物を除去し、マイクロメーターで板厚減少量を測定することにより、評価部分の最大腐食深さを測定する。 - 特許庁 - Even when crystal defects 240 are left at the depth position of the concentration peak at which the concentration becomes the maximum, the operation of a device is not influenced, because the defects 240 are out of an active layer.
濃度が最大となる濃度ピークの深さ位置に結晶欠陥（２４０）が残存しても、これは、活性層外であるため、デバイスの作動に影響を与えない。 - 特許庁 - Thus, the selling person of the merchandise can easily confirm that the merchandise can be paid out when the maximum depth size of the merchandise is within the range of the scales 6g.
これにより、商品の販売者は、商品の最大奥行き寸法が目盛６ｇの範囲内であれば、払い出し可能な商品であることを容易に確認できる。 - 特許庁 - By doing so, a Doppler signal is selectively extracted from the target position at the depth of d while circumventing an influence of the maximum component of integral clutter power.
したがって、クラッタ積算電力の極大成分による影響を回避しつつ、目標位置である深さｄからドプラ信号を選択的に抽出することが可能になる。 - 特許庁 - The imaging pitch setting unit 52 sets an imaging pitch such that the maximum focal position and the adjacent focal position fall within a range of a focal depth of the imaging unit.
撮影ピッチ設定部５２は、最大焦点位置および近傍の焦点位置が、撮影ユニットの焦点深度の範囲内に収まるように撮影ピッチを設定する。 - 特許庁 - The ratio of iron measuring intensity to the maximum value of the nickel measuring intensity is defined as the iron/nickel ratio, at a depth position showing the maximum value of nickel measuring intensity at the performing of glow discharge spectrum measurement of the iron-nickel diffusion layer 91, in the thickness direction.
鉄−ニッケル拡散層９１をその厚さ方向にグロー放電分光測定したときにニッケル測定強度が最大を示す深さ位置において、ニッケル測定強度の最大値に対する鉄測定強度の比を、鉄／ニッケル比率と定義する。 - 特許庁 - A thin-film antenna in which a difference between the maximum height of a projection portion existing on a surface of the smoothing layer and a maximum depth of a recess portion is equal to or less than 1 μm, less than a film thickness of an antenna, or radio wave is transmitted/received via a surface of the smoothing layer is formed.
平滑層の表面に存在する凸部の最大高さと凹部の最大深さとの差が１μｍ以下か、またはアンテナの膜厚よりも小さく、該平滑層の表面に電波を送受信する薄膜状のアンテナを形成する。 - 特許庁 - The maximum depth of the recessed parts in the cross section, formed by simultaneously cutting the mix and the current collector vertically to the electrode surface, is 1 μm or larger, or the difference between the average thickness of the current collector and the maximum thickness of the current collector is 0.35 μm or larger.
合剤と集電体とを電極面に垂直に同時に切断した断面においては、凹部の最大深さが１μｍ以上であり、もしくは、集電体の平均厚みと集電体の最大厚みとの差が０．３５μｍ以上である。 - 特許庁 - In such a case, the depth T of the grooves of a grating is so set as to be below the depth of the grooves corresponding to the maximum diffraction efficiency determined by λ/(2×Δn) and therefore, the dependence of the diffraction efficiency on an incident angle can be reduced.
この場合に、偏光ホログラムでは、格子の溝の深さＴが、λ／（２×Δｎ）で求められる最大の回折効率に対応する溝の深さ未満となるように設定されているため、回折効率の入射角度依存性を低減することができる。 - 特許庁 - By the above-mentioned structure, the region where the potential under a transfer gate is maximized, is formed in the depth almost same as the region where maximum potential of completely depleted embedded photodiode is formed.
この構造により、転送ゲート下のポテンシャルが最大となる領域が、完全空乏化した埋め込みフォトダイオードの最大ポテンシャルが形成される領域と概ね同じ深さに形成される。 - 特許庁 - The circumferential surface roughness of the shaft member 10 is small, the roundness is favorable, and especially, the maximum depth is small, so abrasion is so small that stable friction force can be maintained for a long period.
軸部材１０の周方向の面粗度が小さく、真円度がよく、特に、最大深さが小さいため、磨耗が少なく長期間に亘って安定した摩擦力を維持できる。 - 特許庁 - A minimum interval D3 between the one pair of end parts 20 and 21 is smaller than a maximum width D5 of the rack shaft 8 with respect to a prescribed parallel direction X3 orthogonal to the depth direction X2.
深さ方向Ｘ２とは直交する所定の平行方向Ｘ３に関して、一対の端部２０，２１間の最小間隔Ｄ３は、ラック軸８の最大幅Ｄ５よりも小さい。 - 特許庁 - A peripheral edge part 12a of the recessed part 12 is formed in an arc, and satisfies a relationship of r/d≥1 when a curvature radius of the arc is denoted by r, and the maximum depth of the recessed part is denoted by d.
凹部１２の周縁部１２ａは円弧で形成されており、円弧の曲率半径をｒ、凹部の最大深さをｄとしたときにｒ／ｄ≧１の関係を満たしている。 - 特許庁 - A minimum clearance S10 between the pair of ends 185 related to a direction Z2 crossing at a right angle with the depth direction Z3 is set to be smaller than a maximum width L2 of the rack shaft 8.
深さ方向Ｚ３とは直交する方向Ｚ２に関して、一対の端部１８５間の最小間隔Ｓ１０は、ラック軸８の最大幅Ｌ２よりも小さくされている。 - 特許庁 - It comprises four or more recess portions 2 which are in maximum depth 20%-80% of the height of a screw thread 3 formed on the periphery of the spout within the range of each 360° circumference thereof.
口部外周に形成されたネジ山３の円周３６０度の範囲内に、最大深さをネジ山高さの２０％−８０％とした４個以上の凹溝２を設ける。 - 特許庁 - Each forming die 20 has a recessed portion which has a partially spherical bottom and receives molten glass, wherein the recessed portion preferably has a maximum depth ≥1.5 times the curvature radius of the bottom.
成形型２０は、部分球面状の底部を有し溶融ガラスを受容する凹部を備え、この凹部の最大深さは、底部の曲率半径の１．５倍以上であることが好ましい。 - 特許庁 - The depth and the width of the cooling grooves (2, 2a, 2b, 2c) or any one of them are maximum at the central portion of a side wall of the metallic mold (1), and are reduced toward the edges of the side wall.
冷却溝（２，２ａ，２ｂ，２ｃ）の深さ及び幅又はそのいずれか一方が金型（１）の側壁の中心で最大であり、側壁の隅領域の方向に減少される。 - 特許庁 - Alternatively, the maximum component of integral clutter power can be displaced from the target position at the depth of d by changing the repeating frequency of pseudo-random signal into f_p3 or f_p4.
なお、擬似ランダム信号の繰り返し周波数をｆ_ｐ３，ｆ_ｐ４などに変化させても、目標位置である深さｄからクラッタ積算電力の極大成分をずらすことができる。 - 特許庁 - The mark is composed of sidewalls, a bottom surface of substantially projecting shape and an array of plural recessed spots, having the relatively shallow maximum depth between 7.5 microns and 12 microns.
マークは、側壁、実質的に凸状の底部表面、及び７．５ミクロンと１２ミクロンとの間の相対的に浅い最大深さを有する複数の陥入スポットのアレイから構成される。 - 特許庁 - The gear has a carburization layer having a C concentration of ≥0.60%, and a retained austenite content of ≤20%, and the outer layer thereof is provided with a carburization abnormal layer having the maximum depth of 5 to 13 μm.
歯車は、Ｃ濃度が０．６０％以上、残留オーステナイト量が２０％以下の浸炭層を有し、その外層には最大深さ５〜１３μｍの浸炭異常層を有している。 - 特許庁 - The gear has a carburized layer having a C concentration of ≥0.60% and a retained austenite content of ≤20%, and the external layer thereof is provided with a carburized abnormal layer whose maximum depth is 2 to 10 μm.
歯車は、Ｃ濃度が０．６０％以上、残留オーステナイト量が２０％以下の浸炭層を有し、その外層に最大深さ２〜１０μｍの浸炭異常層を有している。 - 特許庁 - Then a silicon wafer is manufactured which includes a concentration distribution of oxygen in solid solution having a maximum value and a minimum value at a predetermined depth from a wafer surface along the thickness as shown by a solid line (a).
そして、実線（ａ）に示すようにウェーハ表面から厚さ方向の所定深さで固溶酸素の最大値および最小値を有する濃度分布を備えたシリコンウェーハを製造する。 - 特許庁 - A SOI substrate has an SiO2 film 230 the center of which is positioned to the depth of the damage peak at which crystal defects become the maximum when oxygen ions are implanted into an Si substrate 10.
ＳＯＩ基板は、Ｓｉ基板（１０）に酸素イオンをイオン注入した際に結晶欠陥最大となるダメージピークの深さ位置に中心を有するＳｉＯ_2膜（２３０）を有する。 - 特許庁 - The clutter power maximum region and the micro-clutter region are repeatedly emerged along the depth direction at a period of Tm for the periodicity of the transmission signal and the periodicity of the position selection.
送信信号の周期性と位置選択の周期性のために、クラッタ電力極大領域と微小クラッタ領域が、深さ方向に沿って周期Ｔ_ｍで繰り返し出現する。 - 特許庁 - Both the concentration of arsenic at a maximum concentration portion and that of phosphorus at a maximum concentration portion are at least 1026 atom/m^3 and up to 1027 atom/m^3, and the depth of the maximum concentration portion of phosphorus from the surface of the silicon substrate is up to that of the maximum concentration portion of arsenic.
シリコン基板と、前記シリコン基板の一主面側に形成されたゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜に積層して形成されたゲート電極と、ひ素およびリンを含有する拡散層とを備え、ひ素の最高濃度部の濃度とリンの最高濃度部の濃度がともに1026原子/m3以上1027原子/m3以下であり、なおかつリンの最高濃度部の前記シリコン基板表面からの深さがひ素の最高濃度部の深さ以下であるようにする。 - 特許庁 - This method for improving accuracy of bronchial biopsy includes: a step (S3) of detecting the position and spread of lesion subjected to biopsy by an imaging method; a step (S4) of calculating the maximum biopsy depth depending on the spread of lesion in a known biopsy accuracy; and steps (S7, S10) of creating biopsy plan based on the calculated maximum biopsy depth and the position of lesion.
本発明は、生検すべき病変の位置および広がりを画像化方法により検出するステップ（Ｓ３）と、既知の生検精度において病変の広がりに依存した最大生検深さを算出するステップ（Ｓ４）と、算出された最大生検深さおよび病変の位置に基づいて生検計画を作成するステップ（Ｓ７，Ｓ１０）とを含む気管支生検の精度改善方法を開示する。 - 特許庁 - The maximum thickness of the core 40 for the coil is larger than twice of the surface depth S in the diameter direction, and in the whole region within a cross section, the shortest distance from an optional inner portion to the surface of the nearest core 40 for the coil is equal to or less than the surface depth S.
コイル用コア４０は、径方向において、その最大肉厚が表皮深さＳの２倍よりも大きく、且つ、断面内方の全領域において、任意にとった内部箇所から直近のコイル用コア４０の表面までの最短距離が表皮深さＳ以下となっている。 - 特許庁 - The electrically conductive well (2) is generated by means of high-energy ion implantation and subsequent heating, so that it has a doping profile which either has a maximum located at a depth T_1 from the planar surface (5) of the electrically conductive well (2), or is essentially constant up to a depth T_2.
導電性ウェル（２）は、それが導電性ウェル（２）の平坦面（５）から深さＴ_１に位置する最大値を有するか、または深さＴ_２まで本質的に一定であるかのどちらかのドーピング分布を有するように、高エネルギーイオン注入法およびその後の加熱によって生成される。 - 特許庁 - For example, the reception signal monitoring unit sequentially reads reception signals of the prescribed number of samples from a reception signal corresponding to a depth substantially several samples shallower than the sea bottom depth and, when a maximum value of the samples reaches a saturation level or approximates to the saturation level, determines it to be the saturation state.
例えば、海底深度よりも数サンプル程度浅い深度に対応する受信信号から順に所定サンプル数の受信信号を読み出し、これらのサンプルの最大値が飽和レベルに達したか、あるいは飽和レベルに近づく場合飽和状態であると判定する。 - 特許庁 - A packing configuration selection unit 5 determines the maximum depth and width and the stacking height when the articles are stacked from the depth (D), the width (W) and the height (H) of a plurality of articles to be packed according to the delivery instruction data from a delivery instructor in order to select a packing box to pack the articles.
梱包形態選定部５は、物品を梱包する梱包箱を選定するために、配送指示者からの配送指示データに従って、梱包すべき物品（複数）の縦（Ｄ）、横（Ｗ）、高さ（Ｈ）から、最大縦横寸法および物品を積み重ねた場合の重ね高さを求める。 - 特許庁 - Condition A: the smoothing curve has the maximum peak at a depth position deeper than that of a reflected wave which results from a self-hardened tissue and whose intensity is the lowest, and the intensity of the reflected wave of the maximum peak is the highest except at a part which results from a non-self-hardened tissue and results from surface scattering.
条件Ａ：焼入れ組織に起因し且つ強度が最も低い反射波の深さ位置よりも深い深さ位置に、極大ピークを有し、該極大ピークの反射波は、非焼入れ組織に起因し且つ表面散乱に起因する部分を除いて強度が最も高い。 - 特許庁 - In the well regions, when a depth indicating the maximum concentration of second-conductive-type impurities is defined as D, and a distance between the opposing well regions is defined as L, the condition L≤2D is established.
ウエル領域において第２導電型の不純物が最大濃度を示す深さをＤとし、相対するウエル領域の間隔をＬとすると、Ｌは２Ｄ以下であることを特徴とするものである。 - 特許庁 - When the support layer 2 is a favorable support layer formed of a sand layer or a gravel layer, the diameter is formed larger than the outer diameter ( excavation diameter) and the depth is made as larger as three times of the maximum diameter from the front end of the knobbled pile 5.
ソイルセメント柱３は、支持層２が砂層か礫層の良好な支持層の場合、径が杭１の外径（掘削径）以上、深さが節杭５の先端からその最大径の３倍以上に形成する。 - 特許庁 - In this case, a slit depth SD is maximum half the diameter of the ring cross section, and an EDPM as a ring material secures a region of the slit bottom thick wall portion 14 existing with no gap.
この場合、スリット深さＳＤは、最大でもリング断面における太さの半分とされており、リング素材であるＥＤＰＭが隙なく存在するスリット底部余肉部１４の領域を確保している。 - 特許庁 - To enable forming of a metallic exterior material high in design effect having a pattern depth of 3 to 8 mm maximum by providing preliminary rolls at the entrance of emboss rolls and applying tension between both the rolls.
エンボスロール入り口に予備ロールを設け，両ロール間にテンションを張ることで模様深さ３ｍｍから最大８ｍｍの模様深さの、意匠性の高い金属製外装材の成型を可能とする。 - 特許庁 - To provide an electron beam device which can obtain a maximum enlargement effect of focal depth at minimum number of image uptake by acquiring a plurality of images with an optimum focal shifting amount in interlocking with image- forming conditions.
像形成条件に連動して、最適な焦点ずらし量で複数画像を取得し、最小の画像取り込み数で、最大の焦点深度拡大効果が得る電子線装置の提供。 - 特許庁 - In performing the estimation, a model posterior probability, when the curve includes the current source, becomes maximum, that is to say, the position of the current source including the depth direction can be estimated by examining the model posterior probability.
この推定の際に、モデル事後確率は曲面が電流源を含むときに最大になること、すなわちモデル事後確率を調べることにより電流源の位置を深さ方向まで含めて推定する。 - 特許庁 - If this is set as a basic configuration, the on-resistance will be reduced, while the maximum cut-off current density is high by increasing the conductivity modulation of the N- base layer 1 with the large depth D of the trench 3.
これを基本構成とすれば、トレンチ３の深さＤを大としてＮ^-ベース層１の伝導度変調を強めることでオン抵抗を低減し、かつ最大遮断電流密度を大とすることができる。 - 特許庁 - A small siping group 12 comprising small sipings 11 whose maximum depth hs is 2 mm or less and both ends of which are broken off on a land section R comprising blocks Rb or rib Rr is provided on the land section R.
ブロックＲｂ又はリブＲｒからなる陸部Ｒに、最大深さｈｓが２mm以下、しかも両端が陸部Ｒ内で途切れる小サイピング１１からなる小サイピング群１２を設ける。 - 特許庁
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