「measuring process」を含む例文一覧(1250)
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 24 25 次へ＞- AUTOMATIC MEASURING APPARATUS FOR CURING PROCESS
硬化過程自動測定装置 - 特許庁 - TOOL LENGTH MEASURING PROCESS AND TOOL LENGTH MEASURING DEVICE
工具長測定方法及び工具長測定装置 - 特許庁 - DISTANCE MEASURING DEVICE, PROCESS FOR MEASURING DISTANCE AND VEHICLE
距離計測装置、距離計測方法および車両 - 特許庁 - IMPEDANCE MEASURING DEVICE FOR PLASMA PROCESS
プラズマ処理用インピーダンス測定装置 - 特許庁 - TWO-DIMENSIONAL MULTICOLOR-PROCESS TEMPERATURE MEASURING APPARATUS
二次元多色法温度計測装置 - 特許庁 - ION-CONCENTRATION MEASURING APPARATUS FOR PROCESS-IN- LINE
プロセスインライン用イオン濃度測定装置 - 特許庁 - PROCESS ACCURACY MEASURING DEVICE OF SLIDING COMPONENT
摺動部品の加工精度計測装置 - 特許庁 - MEASURING INSTRUMENT, MEASURING INSTRUMENT CONTROLLER, MEASUREMENT SYSTEM, MEASURING PROCESS PERFORMING METHOD, AND RECORDING MEDIUM
計測器、計測器制御装置、計測システム、測定処理実行方法及び記録媒体 - 特許庁 - RESISTANCE MEASURING METHOD AND COMPONENT INSPECTION PROCESS
抵抗測定方法、および部品検査プロセス - 特許庁 - RESISTANCE MEASURING METHOD AND COMPONENT INSPECTING PROCESS
抵抗測定方法、および部品検査プロセス - 特許庁 - REAGENT AND PROCESS FOR MEASURING AMYLASE
アミラーゼの測定用試薬および測定方法 - 特許庁 - TEM CELL-PROCESS MEASURING JIG FOR LSI TESTER
ＬＳＩテスター用ＴＥＭセル法測定治具 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR MEASURING PROCESS PARAMETER IN MATERIAL WORKING PROCESS
材料加工プロセスのプロセス・パラメータを測定する方法および装置 - 特許庁 - IN-LINE CONNECTING METHOD OF UNIFORMITY MEASURING PROCESS TO TIRE SETTING PROCESS
タイヤセット工程へのユニフォーミティ測定工程のインライン接続方法 - 特許庁 - Next, the first measuring path 71 and second measuring path 72 set in the measuring path setting process are profiling measured (measuring process).
次に、測定経路設定工程において設定された第１測定経路７１および第２測定経路７２を倣い測定する（測定工程）。 - 特許庁 - THERMAL STABILITY MEASURING DEVICE IN DRYING PROCESS
乾燥工程における熱安定性測定装置 - 特許庁 - CMP PROCESS PRESSURE DISTRIBUTION MEASURING APPARATUS, PRESSURE-MEASURING SHEET AND ITS METHOD OF MANUFACTURE, CMP PROCESS PRESSURE DISTRIBUTION MEASURING METHOD, ND TEMPERATURE DISTRIBUTION MEASURING METHOD
ＣＭＰ加工圧力分布測定装置、圧力測定シート及びその製造方法、ＣＭＰ加工圧力分布測定方法、並びに温度分布測定方法 - 特許庁 - MEASURING INSTRUMENT, LITHOGRAPHY UNIT, PROCESS APPARATUS, MEASURING METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
計測装置、リソグラフィ装置、プロセス装置、計測方法、及びデバイス製造方法。 - 特許庁 - PATTERN MEASURING METHOD, PATTERN MEASURING DEVICE AND PATTERN PROCESS CONTROL METHOD
パターン計測方法及びパターン計測装置、並びにパターン工程制御方法 - 特許庁 - This measuring method includes a process of preparing a substrate (sample S), and a measuring process.
本発明に従った測定方法は、基板（試料Ｓ）を準備する工程と、測定工程とを備える。 - 特許庁 - WAFER TEMPERATURE MEASURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR PROCESS
半導体プロセスにおけるウエハの温度計測方法 - 特許庁 - the process of measuring an object by the use of photographs
写真の像から対象物を測量すること - EDR日英対訳辞書 - METHOD OF MEASURING PROCESS PARAMETER OF SEMICONDUCTOR FABRICATION PROCESS USING OPTICAL MEASUREMENT
光計測を用いた半導体製造プロセスのプロセスパラメータの測定方法 - 特許庁 - INTEGRATED CIRCUIT DEVICE WITH PROCESS PARAMETER MEASURING CIRCUIT
プロセスパラメータ測定回路を有する集積回路装置 - 特許庁 - AGGREGATION PROCESS DEVICE AND SLURRY PROPERTY MEASURING DEVICE
凝集処理装置及びスラリー性状測定装置 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING RADIATION TEMPERATURE, PART FOR MEASURING RADIATION TEMPERATURE, AND PROCESS DEVICE
放射温度計測方法および装置、放射温度計測用部品、プロセス機器 - 特許庁 - METHOD FOR MEASURING FILM THICKNESS AT JOB SITE DURING COATING PROCESS
被覆加工処理中の現場での膜厚測定方法 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR PATTERN MEASURING METHOD AND PROCESS CONTROL METHOD
半導体パターン計測方法、およびプロセス管理方法 - 特許庁 - PROCESS MONITORING METHOD, MASS MEASURING METHOD, AND DEVICE
プロセスモニタ方法並びに質量測定方法及び装置 - 特許庁 - The temperature control process 20 contains a temperature-measuring process 23 for temperature control, a temperature adjusting process 24 and a heating process 22.
温度制御工程２０は、温度制御用測温工程２３と、温度調節工程２４と、加熱工程２２とを含んでいる。 - 特許庁 - The control device 12 executes a calibration process for measuring distance and direction up to the reference measuring object 36 and a measuring process for measuring the distance and direction up to the measuring object 38.
制御装置１２は、参照計測対象３６までの距離と方向を計測するキャリブレーション工程と、計測対象３８までの距離と方向を計測する計測工程と、を実施する。 - 特許庁 - PATTERN MEASURING SYSTEM, PATTERN MEASURING METHOD, PROCESS MANAGING METHOD, AND EXPOSURE CONDITION RESOLUTION METHOD
パターン計測システム、パターン計測方法、プロセス管理方法及び露光条件決定方法 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING PROCESS ERROR, AND METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING OVERLAY UTILIZING THE SAME
工程エラー測定方法及び装置とこれを利用したオーバーレー測定方法及び装置 - 特許庁 - APPARATUS FOR MEASURING POTENTIAL GRADIENT, AND ELECTRONIC DEVICE PROCESS EVALUATING APPARATUS
電位勾配測定装置及び電子デバイスプロセス評価装置 - 特許庁 - METHOD OF EVALUATING PROCESS MARGIN, METHOD OF SETTING MEASURING CONDITIONS, PROCESS MARGIN EVALUATION PROGRAM, AND MEASURING CONDITIONS SETTING PROGRAM
プロセスマージンの評価方法、測定条件の設定方法、プロセスマージンの評価プログラム、及び、測定条件の設定プログラム - 特許庁 - CONTAINED-ELEMENT CONCENTRATION MEASURING DEVICE IN RADIOACTIVE PROCESS SOLUTION
放射性プロセス溶液中の含有元素濃度測定装置 - 特許庁 - The oxidation current of adenine is measured in the measuring process.
測定工程においてアデニンの酸化電流を測定する。 - 特許庁 - CONCENTRATION MEASURING METHOD FOR ACID MIXED AQUEOUS SOLUTION IN ETCHING PROCESS
エチングプロセスにおける混酸水溶液の濃度測定方法 - 特許庁 - INSTRUMENT AND METHOD FOR MEASURING FILM THICKNESS AND PROCESS DEVICE
膜厚測定装置、膜厚測定方法及びプロセス装置 - 特許庁 - PROCESS CARTRIDGE INTERVAL MEASURING METHOD USING OPTICAL PATH ALTERING MEMBER AND PROCESS CARTRIDGE MEASURED USING MEASURING METHOD
光路変更部材を用いたプロセスカートリッジの間隔測定方法、及びその測定方法を用いて測定されるプロセスカートリッジ - 特許庁 - The method for measuring the inside of the oral cavity includes a light projecting process, an imaging process, an exposure time control process, an image composition process, and a three-dimensional arithmetic process.
口腔内測定方法は、投光工程と、撮像工程と、露光時間制御工程と、画像合成工程と、三次元演算工程とを備えている。 - 特許庁 - This process transmitter for measuring a process pressure includes a pressure sensor in a sensor housing.
プロセス圧力を測定するためのプロセス送信機は、センサハウジング内の圧力センサを含む。 - 特許庁 - Then, the heating process (step S103), measuring process (step S104) and completion judging process (S105) are repeatedly performed.
その後、加熱工程（ステップS103）、測定工程（ステップS104）および終了判定工程（ステップS105）が繰り返し行われる。 - 特許庁 - To provide a process error measurement method and a process error measuring apparatus that minimize process errors, and an overlay measurement method and an overlay measuring apparatus that utilize them.
工程エラーを最少化するための工程エラー測定方法及び装置と、これを利用したオーバーレー測定方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - This image measuring system is provided with a display device 9 displaying one or two or more measured images, a measuring process section 21 measuring the displayed images, an image process section 55 applying an image process after the measurement by the measuring process section 21, and a re-measuring section 57 conducting measurement again after applying the image process.
１又は２以上の被計測画像を表示する表示装置９と、表示した画像を計測する計測処理部２１と、計測処理部２１によって計測した後に、画像処理を施す画像処理部５５と、画像処理を施した後に、再度計測を行う再計測部５７を有して構成される。 - 特許庁 - TEMPERATURE MEASURING DEVICE AND METHOD FOR LASER TREATMENT PROCESS
レーザ処理プロセスの温度測定装置および温度測定方法 - 特許庁 - PROCESS AND SYSTEM FOR MEASURING DISTANCE OF MOVING BODY FROM FIXED PART
移動物体の固定部からの距離を測定するプロセスとシステム - 特許庁 - Process evaluation is important for measuring your people's achievements.
部下の業績を測定する際にはプロセス評価が重要である。 - Weblio英語基本例文集 - The size of volume of the main tube part is measured [measuring process].
本管部４６の容積の大きさを測定する[測定工程]。 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR MEASURING PATTERN DENSITY, FILM- THICKNESS MEASURING METHOD, AND PROCESS CONTROL METHOD
パターン密度計測方法及び計測装置及び膜厚計測方法及びプロセス制御方法 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
- Copyright © National Institute of Information and Communications Technology. All Rights Reserved.
