IMMOBILIZATION METHOD AND DETECTION METHODOF GLYCOSAMINOGLYCAN, AND SOLUTION SET FOR DETECTION グリコサミノグリカンの固定化方法、検出方法および検出用溶液セット - 特許庁
CONTAINER FOR PREPARING AND PRESERVING ACIDIC AQUEOUS SOLUTIONOF HEPARIN AND METHOD FOR PREPARING ACIDIC AQUEOUS SOLUTIONOF HEPARIN 酸性ヘパリン水溶液を調製し、保存するための容器、および酸性ヘパリン水溶液の調製方法 - 特許庁
To provide a method for recovering an aqueous solutionof nitric acid of high quality from a pickling waste solution containing nitric acid. 硝酸を含む酸洗廃液から良質の硝酸水溶液を回収する方法の提供 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING AQUEOUS SOLUTIONOF FREE ALLYLAMINE POLYMER AND AQUEOUS SOLUTIONOF FREE DIALLYLAMINE POLYMER 遊離のアリルアミン類重合体水溶液の製造方法および遊離のジアリルアミン類重合体水溶液 - 特許庁
VISCOSITY-REDUCING AGENT FOR NATURAL RUBBER SOLUTION, NATURAL RUBBER SOLUTION COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THE COMPOSITION AND METHOD FOR REDUCING VISCOSITY OF NATURAL RUBBER SOLUTION 天然ゴム溶液用減粘剤、天然ゴム溶液組成物及びその製造方法、並びに天然ゴム溶液の粘度を低減させる方法 - 特許庁
This production method comprises the steps of: preparing an alkaline colloidal solution formed of a dispersive colloidal solutionof Pd and Ag, a reducing agent and an alkaline substance; and adding an aqueous solutionof a Ni salt into the colloidal solution to produce Ni particles. PdとAgの分散コロイド溶液と還元剤とアルカリ性物質とからなるアルカリ性コロイド溶液にNi塩水溶液を添加して、Ni粒子を生成させる。 - 特許庁
METHOD FOR CONFIRMING AMOUNT OFSOLUTION TO BE EXAMINED IN OPTICAL CHARACTERISTIC-MEASURING DEVICE, MEASUREMENT SYSTEM CONTROL METHOD, AND SOLUTION CONCENTRATION MEASUREMENT METHOD 光学特性計測装置における被検溶液量確認方法、計測系制御方法および溶液濃度計測方法。 - 特許庁
This method for producing the chloropicrin, comprising reacting the nitromethane with the hypochlorite in an aqueous solution under a pressure below the atmospheric pressure, is characterized by feeding the nitromethane aqueous solution from the feeding port of a nitromethane aqueous solution-charging pipe immersed in the aqueous solutionof the hypochlorite. ニトロメタンを水溶液として次亜塩素酸塩水溶液中へ供給し、減圧下で加熱しながら反応し、クロルピクリンを留出させる。 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING SACCHARIDE SOLUTIONOF HIGH CONCENTRATION AND FERMENTATION PRODUCTION PROCESS FOR AMINO ACIDS USING THE SACCHARIDE SOLUTION 高濃度糖液の製造方法並びに当該糖液を用いたアミノ酸の発酵生産方法 - 特許庁
METHODOF SIMULTANEOUSLY TREATING WASTE COPPER ETCHING SOLUTION AND WASTE RESIST SOLUTION AND CHEMICAL AGENT FOR USE THEREIN 銅エッチング廃液とレジスト廃液を同時に処理する方法及びそれに使用する薬剤 - 特許庁
ETCHING SOLUTION FOR THIN FILM OF METALLIC SILVER OR SILVER ALLOY, AND ETCHING METHOD USING THE SOLUTION 金属銀薄膜または銀合金薄膜用エッチング溶液及び該溶液を用いたエッチング方法 - 特許庁
NEGATIVE ELECTRODE FOR NONAQUEOUS ELECTROLYTIC SOLUTION SECONDARY BATTERY, METHODOF MANUFACTURING SAME, AND NONAQUEOUS ELECTROLYTIC SOLUTION SECONDARY BATTERY 非水電解液二次電池用負極及びその製造方法並びに非水電解液二次電池 - 特許庁
INSULATION/BINDING TREATMENT SOLUTION AND INSULATION/BINDING TREATMENT METHODOF ELECTRIC APPARATUS COMPONENT USING THIS TREATMENT SOLUTION 絶縁・結束処理液と該処理液を用いた電気機器部品の絶縁・結束処理方法 - 特許庁
PREPARATION METHODOF CELLULOSE ESTER SOLUTION, MANUFACTURING METHODOF CELLULOSE ESTER FILM AND CELLULOSE ESTER FILM セルロースエステル溶液の調製方法、セルロースエステルフィルムの製造方法及びセルロースエステルフィルム - 特許庁
SOLUTION FOR DETECTING FINGERPRINT, METHODOF MANUFACTURING THE SAME, AND METHODOF DETECTING FINGERPRINT USING THE SAME 指紋検出用溶液、その製造方法およびそれを用いた指紋検出方法 - 特許庁
METHODOF PREPARING METAL NANOPARTICLE AND METHODOF PREPARING METAL NANOPARTICLE DISPERSION SOLUTION 金属ナノ粒子の製造方法及び金属ナノ粒子分散溶液の製造方法 - 特許庁
GALVANIZING SOLUTION, GALVANIZATION METHOD AND METHODOF EVALUATING HYDROGEN EMBRITTLEMENT SENSITIVITY OF STEEL PRODUCT 亜鉛めっき液、亜鉛めっき方法および鋼材の水素脆化感受性評価方法 - 特許庁
METHODOF PREPARING HIGH-PURITY SOLUTION CONTAINING NICKEL SULFATE AND COBALT SULFATE, AND METHODOF PRODUCING HIGH-PURITY NICKEL WITH USE OF THE SAME SOLUTION 硫酸ニッケルと硫酸コバルトとを含む高純度溶液の作成方法、及びこの溶液を用いた高純度ニッケルの製造方法。 - 特許庁
To suppress the occurrence of scratch flaws of a film in a solution film forming method. 溶液製膜方法におけるフイルムの擦り傷の発生を抑える。 - 特許庁
METHOD FOR REPLENISHING OF REPLENISHING SOLUTIONOF AUTOMATIC DEVELOPING DEVICE AND AUTOMATIC DEVELOPING DEVICE 自動現像装置の補充液補充方法及び自動現像装置 - 特許庁
METHODOF DETERMINING INTERACTION PARAMETER, AND METHODOF MEASURING CONCENTRATION OF BINDING SUBSTANCE IN MEASURING SOLUTION 相互作用パラメータの決定方法及び測定溶液中の結合物質の濃度の測定方法 - 特許庁
POLISHING SOLUTION FOR METAL AND METHODOF POLISHING SUBSTRATE USING SAME 金属用研磨液及びそれを用いた基板の研磨方法 - 特許庁
SAW SENSOR SOLUTION MEASURING SYSTEM AND DISPLAY METHODOF THE SAME SAWセンサ溶液測定システムおよびその表示方法 - 特許庁
CLEANING SOLUTION AND CLEANING METHODOF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME 洗浄液及びそれを用いた半導体素子の洗浄方法 - 特許庁
METHOD FOR TREATING SOLUTIONOF POLY PARAPHENYLENE TEREPHTHALAMIDE IN CONCENTRATED SULFURIC ACID ポリパラフェニレンテレフタルアミドポリマー濃硫酸溶解物の処理方法 - 特許庁
ACETYLENE BLACK CONTAINING BORON IN THE FORM OF SOLID SOLUTION, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND COMPOSITION ホウ素固溶アセチレンブラック、その製造方法及び組成物 - 特許庁
CLEANING SOLUTION AND METHODOF CLEANING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE 半導体基板洗浄液及び半導体基板洗浄方法 - 特許庁
OBSERVATION METHODOF COMPOUND AND COLORING SOLUTION USED THEREIN 化合物の観察方法及び該方法に用いる着色溶液 - 特許庁