「microchips」を含む例文一覧(56)
＜前へ 1 2- The inspection method and device for blood coagulation ability are characterized by allowing invasion of blood by capillary phenomenon into the channel of microchips set on a board, and inspecting blood coagulation ability based on the invasion speed or the invasion distance of the blood in the channel.
基板に流路が設けられたマイクロチップの流路に血液を毛細管現象によって浸入させ、流路内での血液の浸入速度または浸入距離に基づいて血液の凝固能を検査することを特徴とする血液凝固能の検査方法、および該方法に使用される装置。 - 特許庁 - A plurality of microchips 1 to 3, each of which is constituted of a chemical reaction part 4, a measuring part 5 equipped with a cell 13, a light source 14 and a detector 15 and a signal processing part 5 used to perform a concentration computing operation, a sensitivity correction and the like as units are piled up in the vertical directions so as to be freely separable.
化学反応部４、セル１３と光源１４と検出器１５を備えた測定部５、濃度演算や感度補正等を行う信号処理部６をそれぞれユニット構成した複数のマイクロチップ１〜３を上下方向に分離自在に重ね合わせている。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition improved in resolution, development defects and outgassing and a pattern forming method using the same, which are a positive resist composition suitable for use in an ultramicrolithography process for producing VLSI or high-capacity microchips or in other photofabrication processes and a pattern forming method using the same.
超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造などの超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトパブリケーションプロセスに好適に用いられるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、解像力、現像欠陥、アウトガスが改良されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist composition excellent in resolution, line edge roughness and side lobe margin and a pattern forming method using the same, which is a resist composition suitable for use in an ultramicrolithography process for producing VLSI or high-capacity microchips or in other photofabrication processes, and also to provide a pattern forming method using the same.
超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造などの超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトパブリケーションプロセスに好適に用いられるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、解像性、ラインエッジラフネス、サイドローブマージンに優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist composition which is suitably used in a super-microlithography process and other photofabrication processes such as manufacture of VLSIs and high capacity microchips and whose surface roughness in etching is reduced, and further a resist composition which has superior characteristics of sensitivity, resolving power, a profile, a pattern fall, a side lobe margin, roughness and fineness dependency, etc.
超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、エッチング時の表面荒れが低減されたレジスト組成物、また更には、感度、解像力、プロファイル、パターン倒れ、サイドローブマージン、疎密依存性などの諸特性にも優れたレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - In the process for manufacturing microchips, which have a running route structure composed of a channel and a port, the bonding of substrates and confronting members is carried out after improving the surface quality through the radiation of plasma or UV light onto the bonding surfaces of the substrates or the bonding surfaces of both the substrates and the confronting members under an atmospheric pressure.
基板と対面部材とを貼り合わせることにより、チャネル及びポートからなる流路構造を有するマイクロチップを製造する方法において、基板の貼り合わせ面又は基板と対面部材の両方の貼り合わせ面に、大気圧下でプラズマ又はＵＶ光を照射して表面改質処理してから前記基板と対面部材を貼り合わせることを特徴とするマイクロチップの製造方法。 - 特許庁
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