「micronization」を含む例文一覧(136)

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  • To cope with an increase in impedance due to micronization of vibra tion elements by providing a preamplifier in a signal receiving circuit system.
    超音波計測装置において、振動素子の微細化によるインピダンスの増大に対し、受信回路系にプリアンプを設けて対処することを容易とする。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device together with its manufacturing method where increase of a junction capacity and the like is suppressed while punch-through and the like that follow micronization are prevented.
    微細化にともなうパンチスルー等を防止した上で、接合容量等の増大抑制を可能にする半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • With a micronization mixing apparatus 1, ozone is mixed into the aqueous solution of an extracted-component and simultaneously ozone is micronized, thus producing the aqueous solution containing the plant component.
    微細化混合装置1により、抽出成分水溶液にオゾンを混合させると供にオゾンを微細化して、植物成分含有水溶液を製造する。 - 特許庁
  • To provide an electron source array and, an imaging device and a display device promoting micronization of a pixel size without spoiling response characteristics of the pixel.
    画素の応答特性を損なうことなく、画素サイズの微細化を図ることができる電子源アレイ並びに撮像装置及び表示装置を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a method for producing, in stable quality, a polymerizable compound for satisfying the requirement of micronization in a lithographic process, especially for improving roughness.
    リソグラフィ工程における微細化の要求、特に、ラフネスを改善するための重合性化合物を安定した品質で製造する方法を提供する。 - 特許庁
  • To form a via hole with which a micronization of a multilayer interconnect structure is easily achieved and high reliability and high yield in semiconductor device fabrication are ensured.
    多層配線構造の微細化を容易にし、半導体装置の製造において高信頼性および高歩留まりを確保できるヴィアホールを形成する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a semiconductor device which can restrain the influence of a parasitic MOS, coping with micronization of element and element isolation.
    素子および素子分離の微細化に対応して、寄生MOSの影響を抑制することのできる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To realize a multilayer wiring structure which can make the micronization of metallic wiring and the suppression of electromigration compatible, without incurring increase in the number of processes.
    金属配線の微細化とエレクトロマイグレーションの抑制との両立を図ることができる多層配線構造を工程数の増加を招くことなく実現する。 - 特許庁
  • To obtain a magnetic particle powder having improved magnetic characteristics and particularly large coercive force with the micronization of a spinel type ferrimagnetic particle.
    スピネル型フェリ磁性体粒子の微粒子化を図りつつ、さらなる磁気特性の向上、特に大きな保磁力を有する磁性粒子粉を得ること。 - 特許庁
  • To provide a gas-liquid or liquid-liquid mixing apparatus solving such a problem that micronization of bubbles does not make progress if the supply amount of reaction gas (liquid) is large while agitation force by a bubble flow falls although the micronization of bubbles makes progress if the supply amount of the reaction gas (liquid) is small.
    反応用気体(液体)の供給量が多いと気泡の微細化が進まず、他方、反応用気体(液体)の供給量が少ないと、気泡の微細化は進むものの気泡流による撹拌力が低下してしまうという課題の解決を目的とする、気液または液液混合装置を提供する。 - 特許庁
  • The method and apparatus for particle micronization treatment are provided wherein a rotary blade 12 has a shape for holding the particles after collision on the collision surface 21, e.g. a recessed shape, thereby impact force against the particles contained in the treated object is increased, and micronization efficiency is improved.
    回転ブレード12が、衝突した粒子を衝突面21で保持する形状、例えば凹形状を有することにより、被処理対象物中に含まれた粒子に対する衝撃力を増加させることができ、微細化効率を向上させることができる粒子微細化処理方法および装置を提供できる。 - 特許庁
  • To provide a nonvolatile semiconductor memory equipped with a phase transition memory cell with which the micronization of the memory cell and the securement of a current driving ability of a switching transistor are made compatible.
    メモリセルの微細化およびスイッチングトランジスタの電流駆動能力確保を両立可能な相変化メモリセルを備えた不揮発性半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a level shift circuit for shifting both a high level and a low level of an input voltage with a less number of elements to simplify the structure and to facilitate micronization and a high withstanding voltage.
    入力電圧の高電位レベルと低電位レベルの両方をシフトし、しかも、素子数を少なくして構造を簡単にし、微細化及び高耐圧化を容易にする。 - 特許庁
  • To provide an emulsifying/mixing mechanism exhibiting a dramatically enhanced effect of micronizing droplets, sufficiently achieving the micronization of droplets even upon generating high-concentration droplets.
    液滴の微細化効果が劇的に向上し、高濃度の液滴を発生させる場合においても、その微細化を十分に達成できる乳化混合機構を提供する。 - 特許庁
  • To provide a reference electrode, a potential measuring system and a potential difference measuring method capable of measuring a blood component with sufficient accuracy even when micronization of a measuring solution is performed.
    測定溶液の微量化をしても十分な精度で血中成分を測定することができる参照電極,電位測定系及び電位差測定方法を提供する - 特許庁
  • To enable a semiconductor device to be equipped with a lead which shows enough junction strength to a circuit board regardless of the kind of solder or micronization.
    半田の種類やリードの微細化に関係なく、回路基板に対して十分な接合強度を示すリードを備えた半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing pressed powder magnetic core by performing compression molding of a soft magnetic material containing metal magnetic particles, and which does not cause micronization of crystal grains.
    金属磁性粒子を含む軟磁性材料を圧縮成形して圧粉磁心を製造する方法であって、結晶粒の微細化を引き起こさない方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a mechanism for generating microbubbles exhibiting a dramatically enhanced effect of micronizing bubbles, sufficiently achieving the micronization of bubbles even upon generating high-concentration bubbles.
    気泡の微細化効果が劇的に向上し、高濃度の気泡を発生させる場合においても、気泡の微細化を十分に達成できる微小気泡発生機構を提供する。 - 特許庁
  • The water droplet micronization apparatus 40 is provided in the emulsion fuel pipe 36 and micronizes the liquid droplet of water included in the emulsion fuel flowing in the emulsion fuel pipe 36.
    水滴微細化装置40は、エマルジョン燃料管36に設けられ、エマルジョン燃料管36を流れるエマルジョン燃料に含まれる水の液滴を微細化する。 - 特許庁
  • In this way, by intensively imparting forging effect to the using surface of the sleeve roll, hard carbides and dendrites are sufficiently destroyed and micronization and homogenization are made possible.
    これにより,鍛造効果を当該スリーブロールの使用面に重点的に付与して,硬質の炭化物および樹枝状晶を十分に破壊して微細均一化することができる。 - 特許庁
  • By this constitution, the autoanalyzer is provided which prevents the rising of the reaction cell from a reaction cell holder in a washing and drying step and is fit to the micronization of a sample or reagent.
    これにより、洗浄・乾燥工程において反応セルホルダから反応セルが浮き上がるのを防止し、試料や試薬の微量化に適した自動分析装置が提供される。 - 特許庁
  • To increase operation speed by effectively restraining a short channel effect and reducing capacitance of a drain or a source and a gate, in order to realize micronization and large scale integration of a transistor.
    トランジスタの微細化と大規模な集積化を図る上で、短チャンネル効果を効果的に抑制し、ドレインあるいはソースとゲートとの容量を低減させて動作速度を高める。 - 特許庁
  • To provide a method of forming a solid circuit which can form a wiring pattern capable of handling density and micronization of wirings three- dimensionally with precision and at low cost.
    配線の高密度化、微細化に対応することのできる配線パターンを構成物に、精密かつ低コストで3次元的に形成できる立体回路の形成方法を提供する。 - 特許庁
  • To attain compatibility between noise suppression and micronization by solving the problem point that as a pixel transistor portion becomes smaller in an effective channel width, especially, 1/f noise of an amplifier transistor becomes worse.
    本発明は、画素トランジスタ部の実効チャネル幅が小さくなると、特に増幅トランジスタの1/fノイズが悪化する点を解決して、ノイズ抑制と微細化の両立を可能とする。 - 特許庁
  • To provide a glass substrate which permit low floating height and to enhance recording density by realizing micronization and reduction of dispersion of crystalline particle sizes of a layer film-deposited on the substrate.
    低浮上量を可能にするガラス基板を提供するとともに、基板上に成膜される層の結晶粒径の微細化、分散の低減を実現することにより記録密度を向上させる。 - 特許庁
  • The mixed fluid pressurized to a specified value is guided to gyrating chambers 32 passing through a supply path 34 from an inlet opening 34a in the end face of each of the micronization blocks 3 to form a gyrating current.
    所定値に被圧した混合流体は、微細化ブロック3の端面の入口開口34aから供給路34を通って旋回室32に導かれ、旋回流を形成する。 - 特許庁
  • To restrain a groove wiring from increasing substantially in resistivity or interlayer connection resistance attendant on micronization in size and moisture from oozing out and to lessen a semiconductor device in stray capacity.
    微細化に伴う溝配線の実質的な比抵抗の増大や層間接続抵抗の増大を抑制し、併せて、水分の染み出しを抑制し、浮遊容量の低減化を図る。 - 特許庁
  • To provide a technique for performing the opening of a contact hole, and others by etching a silicon oxide film in a self alignment manner, with a silicon nitride film geared to the micronization and aspect ratio elevation of a semiconductor as a stopper.
    半導体の微細化・高アスペクト比化に対応した、窒化シリコン膜をストッパーとして自己整合的に酸化シリコン膜をエッチングし、コンタクトホールの開口などを行う技術を提供する。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device wherein a transmission line is not susceptive to the effect of an electromagnetic field and earthing inductance is hardly increased even in the case of micronization, and to provide a manufacturing method thereof.
    微細化を行なった場合においても伝送線路が電磁界の影響を受け難く、また、接地インダクタンスが増大し難い半導体装置およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • Phosphorus powder PW as the micronization material is added to the molten metal L held in this trough 36 and right after this addition, the molten metal L is introduced into the inner part of a cylindrical metallic mold 22.
    このトラフ36に収容された溶湯Lに対して微細化材であるリン粉末PWを添加し、その直後に、該溶湯Lを円筒状金型22の内部に導入する。 - 特許庁
  • To provide the manufacturing method of a semiconductor device and the semiconductor device, for which the shape of a contact hole is an appropriate shape even when the micronization of the semiconductor device is advanced.
    半導体装置の微細化が進んだ場合においても、コンタクトホールの形状が適性な形状を有する半導体装置の製造方法および半導体装置を提供する。 - 特許庁
  • This dispersion preparation is prepared by adding propylene glycol to a solvent and adding gum Arabic after the micronization of the solid substances, when the solid substances such as micronized carotenoid crystals or the carmine are micronized.
    カロテノイド類の結晶やカルミンといった固形物を微細化する際に、溶媒にプロピレングリコールを添加し、固形物を微細化後アラビアガムを添加した分散製剤を調製する。 - 特許庁
  • To prevent blooming characteristics, reading characteristics or pixel separating characteristics from becoming adverse even when dealing with the micronization of a pixel size or density improvement in a solid-state image pickup element.
    固体撮像素子において、画素サイズの微細化や高密度化等に対応する場合であっても、ブルーミング特性、読み出し特性、画素分離特性等が悪化してしまうのを防ぐ。 - 特許庁
  • To solve the problem, where in order to maintain/improve performance while promoting micronization for a high integration of LSI, a gate insulating film of high dielectric constant, with proper interface characteristics, is required.
    LSIの高集積化を目指し、性能を維持、向上させながら微細化を進めるには、ゲート絶縁膜として高誘電率で、かつ界面特性を良好に保持できるものが要求されている。 - 特許庁
  • To form a high-quality silicide film by laser light irradiation treatment, and to achieve the micronization and high performances of a field-effect transistor formed on an insulating substrate and having a small dispersion in electric property.
    レーザ光照射による処理で高品質なシリサイド膜を形成し、絶縁基板に形成された電気的特性のばらつきの小さい電界効果型トランジスタの微細化と高性能化を実現する。 - 特許庁
  • A mixed fluid is drained into the casing 2 by a dispersing head 26 passing through an inlet pipe 24 of the casing 2, and is filled in the space between the inside face of the casing 2 and the outside face of each of the micronization blocks 3.
    混合流体は、ケーシング2の入口管24を通って分散ヘッド26でケーシング2内に放出され、ケーシング2の内側面と微細化ブロック3の外側面との間に満たされる。 - 特許庁
  • To provide a mechanism for generating microbubbles exhibiting a dramatically enhanced effect of micronizing bubbles, sufficiently achieving the micronization of bubbles even upon generating high-concentration bubbles by pressurizing/dissolving a gas.
    気泡の微細化効果が劇的に向上し、気体を加圧溶解して高濃度の気泡を発生させる場合においても、気泡の微細化を十分に達成できる微小気泡発生機構を提供する。 - 特許庁
  • To solve the problem, where in order to maintain/improve performance while promoting micronization for a high integration of LSI, a gate insulating film of high dielectricity, with proper interface characteristics, is required.
    LSIの高集積化を目指し、性能を維持、向上させながら微細化を進めるには、ゲート絶縁膜として高誘電率で、かつ界面特性を良好に保持できるものが要求されている。 - 特許庁
  • To provide a micronization mixer stably producing particles with a diameter of not less than 10 nm and not more than 50 μm by efficiently micronizing a certain liquid mixed with the other liquid, a gas or a solid.
    液体に混合された他の液体、気体又は固体を効率よく微細化して直径が10nm以上50μm以下の粒子を安定して生成できる微細化混合装置を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a production method of catalyst paste in which micronization of particles in the catalyst paste is possible, pinholes and cracks are not generated in a catalyst layer, and superior power generation characteristics are obtained.
    触媒ペースト中の粒子の微小化が可能であるとともに、触媒層にピンホールやひび割れが生じることなく、良好な発電特性が得られる触媒ペーストの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • As a result, coarser bubbles tend to stay longer in the swirl flow, and bubbles having been sufficiently micronized therein tend to be incorporated into the central flow FM, and hence the micronization of bubbles can sufficiently and uniformly be allowed to proceed.
    その結果、粗大な気泡ほど旋回流の中に長くとどまり、微細化が十分進めば中心流FMに取り込まれる傾向となるので、気泡の微小化を十分かつ均一に進行させることができる。 - 特許庁
  • To make an element minute, without affecting the properties of a MISFET, and suppress increase in parasitic resistance of the element accompanying micronization, and also obtain shallow joining of the semiconductor regions to serve as the source and the drain.
    MISFETの特性に影響を与えずに素子の微細化を図り、また微細化に伴う素子の寄生抵抗の増加を抑制すると共に、ソース及びドレイン領域となる半導体領域の浅い接合化を図る。 - 特許庁
  • To provide a rectifier circuit, along with wireless communication equipment using it, of which all power supply voltages in the circuit are taken from weak radiowaves of high frequency, in order to achieve further micronization and higher sensitivity.
    高周波の弱電波から回路内すべての電源電圧を賄うことにより、更なる極小化と更なる高感度化を実現した整流回路およびそれを用いた無線通信装置を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a water-soluble pattern forming material not dissolving a base resist for achieving formation of a fine separation resist pattern allowing formation of a pattern beyond wavelength limit in micronization of a separation pattern and a hole pattern.
    分離パターン、ホールパターンの微細化において、波長限界を超えるパターン形成を可能とする微細分離レジストパターン形成を実現する、下地レジストを溶解しない水溶性のパターン形成材料を提供する。 - 特許庁
  • To restrain such a problem concerning skew in a clock signal which is widely used inside a semiconductor integrated circuit that has a tendency that coping with the problem becomes difficult in accordance with micronization in manufacturing technique of a semiconductor integrated circuit.
    半導体集積回路の製造技術の微細化に伴い対応が難しくなる傾向がある、半導体集積回路の内部で広範囲に用いられるクロック信号に関するスキューの問題を抑制する。 - 特許庁
  • Thin line voids 8 are formed in an interlayer insulation film 7 between gate structures adjacent to each other due to a narrowed interval between the gate structures attended with micronization of semiconductor devices.
    半導体装置の微細化に伴いゲート構造同士の間隔が狭くなっていることに起因して、互いに隣接するゲート構造同士の間において、細線状のボイド8が層間絶縁膜7内に形成される。 - 特許庁
  • To provide a micronization mixing device of a diplophase fluid which micronizes and mixes gas with respect to a liquid containing solid as well as liquid and further micronizes even the solid contained in the liquid.
    液体のみでなく、固体を含んだ液体に対しても気体を微細化して混合でき、さらに、液体に含まれる固体の微細化をも可能な複相流体の微細化混合装置を提供することにある。 - 特許庁
  • To provide a connection structure which is capable of coping with the micronization of input/output connection pads and a reduction in pitch of the pads, and absorbing a heat distortion difference between a semiconductor element and a board in a mounting structure through which a semiconductor element is connected to a board.
    半導体素子を基板に接続する実装構造において、入出力接続パッドの微細化及び狭ピッチ化に対応可能で、半導体素子と基板との熱歪を吸収可能な接続構造が望まれる。 - 特許庁
  • To provide a MOS type semiconductor device improved in breakdown resistance and having high reliability by suppressing a gain increase of a parasitic transistor caused by photo pattern defect liable to occur due to micronization of a process design rule.
    プロセスデザインルールの微細化に伴って発生しやすくなるフォトパターン欠陥に起因する寄生トランジスタのゲイン増大を抑制して破壊耐量を向上させて信頼性の高いMOS型半導体装置を提供すること。 - 特許庁
  • To provide an air assisted jetting nozzle assembly having an air cap effective to generate a wide and flat jetting pattern to improve the micronization of liquid particles with a relatively low air flow rate and low air pressure.
    比較的に少ない空気流量及び低い空気圧力を使用して、液粒子の細分化を向上させる幅の広い扁平噴射パターンを発生させるのに効果的なエアキャップを有するエアアシスト式噴射ノズルアセンブリを提供する。 - 特許庁
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