To microprocess a cyano crosslinked metal complex with an easy method. 簡易な方法でシアノ架橋金属錯体の微細加工を行うこと。 - 特許庁
To optimize the switching voltage and the holding voltage of a thyristor used as an electrostatic protecting element, by adjusting the layout of the respective regions of a semiconductor device, and especially, provide an effective structure of the semiconductor device in a microprocess. 静電気保護素子として用いられるサイリスタのスイッチング電圧とホールディング電圧とを配置の調整により最適化可能とし、特に微細プロセスにおいて有効なデバイス構造を提供すること。 - 特許庁
To provide a fabrication process of an MIM capacitor excellent in dielectric breakdown voltage and reliability and applicable to a microprocess in which focus margin or processing margin such as the thickness of resist film is ensured while reducing level difference at the time of processing. 絶縁破壊耐圧および信頼性に優れ、加工時に段差が少なくフォーカスマージンやレジスト膜厚等の加工マージンを確保した微細プロセスに搭載可能なMIM容量の製造方法を提供する。 - 特許庁
This microprocess is a microprocessor, including a control unit and a cache connected to the control unit for storing use data, the cache can be selectively constituted as a single cache or a separate cache provided with a locked cache part and a normal cache part. 制御ユニットと、使用データを保存するために当該制御ユニットに接続されるキャッシュとを含むマイクロプロセッサであって、キャッシュは、単一キャッシュ、またはロックド・キャッシュ部分および通常キャッシュ部分を備える分割キャッシュとして選択的に構成可能である。 - 特許庁