To provide an interferometer for immersion microscope objective capable of quantitatively and accurately evaluating the immersion microscope objective. 液浸系顕微鏡対物レンズを定量的にかつ高精度に評価することができる液浸系顕微鏡対物レンズ用干渉計の提供。 - 特許庁
LIGHT SOURCE UNIT, SEMICONDUCTOR EXPOSURE DEVICE, LASER MEDICAL TREATMENT DEVICE, LASER INTERFEROMETER DEVICE, AND LASER MICROSCOPE DEVICE 光源装置、半導体露光装置、レーザー治療装置、レーザー干渉計装置およびレーザー顕微鏡装置 - 特許庁
Information is sent to an exposure device precision judging machine 40 from a temperature sensor 30, a reticle microscope 15, an interferometer 17, a sensor 18, a wafer alignment microscope 19, a flowmeter F, and a keyboard K. 露光装置精度判定機40に、温度センサ30、レチクル顕微鏡15、干渉計17、センサ18、ウエハアライメント顕微鏡19、流量計F及びキーボードKから情報が送れる。 - 特許庁
CANTILEVER ARRAY, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, SCANNING PROBE MICROSCOPE USING THE SAME, SLIDING DEVICE FOR GUIDE AND ROTATION MECHANISM, SENSOR, HOMODYNE LASER INTERFEROMETER, LASER DOPPLER INTERFEROMETER WITH PHOTOEXCITATION FUNCTION OF SAMPLE AND EXCITATION METHOD FOR CANTILEVER カンチレバーアレイ、その製造方法及びそれを用いた走査型プローブ顕微鏡、案内・回転機構の摺動装置、センサ、ホモダインレーザ干渉計、試料の光励振機能を有するレーザドップラー干渉計ならびにカンチレバーの励振方法 - 特許庁
To provide a charge density wave quantum phase microscope and a charge density wave quantum interferometer for actively utilizing macroscopic quantum phase information on a charge density wave. 電荷密度波の巨視的量子位相情報を積極的に活用した電荷密度波量子位相顕微鏡及び電荷密度波量子干渉計を提供する。 - 特許庁
An interferometer is provided with a light source section 100 which emits light rays and a microscope section 200 which projects the light rays emitted from the section 100 toward objects 31 and 32 to be measured after transforming the light rays into parallel rays of light. 干渉計は、光を発する光源部100と、光源部100からの光を平行光にして測定対象物31,32に向けて照射する顕微鏡部200を備えている。 - 特許庁
In this method, shape measurement for the lens under test which is to be turned about a rotating shaft R_2, performed as changing relative attitude of a microscopeinterferometer 1 is divided into two steps, such as a surface side measurement performed with the lens under test 9 supported from the rear face side; and a rear face side measurement performed with the lens under test 9 supported from the surface side. 回転軸R_2回りに回転せしめられる被検レンズ9に対し、顕微干渉計1の相対姿勢を変えながら行う形状測定を、被検レンズ9が裏面側から支持された状態で行う表面部の測定と、被検レンズ9が表面側から支持された状態で行う裏面部の測定とに分けて行う。 - 特許庁