A new capping multilayer structure for EUV-reflective Mo/Si multilayers consists of the top layer that protects the multilayer structure from the environment and a bottom layer that acts as a diffusion barrier between the top layer and the structure beneath. EUV反射性Mo/Si多層膜のための新規なキャッピング多層構造は、多層構造を環境から保護する上面層と、上面相と下方構造との間において拡散バリアとして作用する底面層と、からなる。 - 特許庁