「mpc2」を含む例文一覧(5)

  • The substrate processing equipment includes an ashing portion and cleaning treatment portions MPC1, MPC2.
    基板処理装置は、アッシング（灰化処理）部および洗浄処理部ＭＰＣ１，ＭＰＣ２を備える。 - 特許庁
  • An ionizer 5 is externally provided at the side of the transmission window 6 of each of cleaning units MPC1, MPC2.
    イオナイザ５は、洗浄処理部ＭＰＣ１，ＭＰＣ２の透過窓６側の外部に設けられている。 - 特許庁
  • The substrate conveyance robot CR conveys to a cleaning part MPC1 or a cleaning part MPC2 the substrate W that is cooled as specified in the cooling plate CP.
    基板搬送ロボットＣＲは、クーリングプレート部ＣＰで所定の冷却処理を施された基板Ｗを洗浄処理部ＭＰＣ１または洗浄処理部ＭＰＣ２に搬送する。 - 特許庁
  • Weak X-rays radiated from the ionizer 5 reach the port 7 of the cleaning units MPC1, MPC2, a shutter SH, a spin chuck 21, a guard 24 or the like through the transmission window 6.
    イオナイザ５から照射された微弱Ｘ線は、透過窓６を通って、洗浄処理部ＭＰＣ１，ＭＰＣ２の基板搬入出口７、シャッタＳＨ、スピンチャック２１、ガード２４等に到達する。 - 特許庁
  • The cleaning treatment portions MPC1, MPC2 have a spin chuck 21 for keeping the substrate W after ashing to be horizontal and for rotating the substrate W around a vertical rotating axis passing through the center of the substrate W.
    洗浄処理部ＭＰＣ１，ＭＰＣ２は、アッシング処理後の基板Ｗを水平に保持するとともに基板Ｗの中心を通る鉛直な回転軸の周りで基板Ｗを回転させるためのスピンチャック２１を備える。 - 特許庁

例文データの著作権について

  • 特許庁
    Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.