「multi-charged」を含む例文一覧(58)
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マルチ荷電ビームレンズおよびそれを用いた荷電ビーム露光装置 - 特許庁 - MULTI-BEAM CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS, AND CONTROL METHOD FOR THE MULTIBEAM CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS
マルチビーム荷電粒子線装置及びマルチビーム荷電粒子線装置の制御方法 - 特許庁 - MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM LENS, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM USING IT, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
マルチ荷電ビームレンズ及びこれを用いた荷電粒子線露光装置ならびにデバイス製造方法 - 特許庁 - CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE FOR HIGH SPATIAL RESOLUTION AND MULTI-VIEWPOINT IMAGE FORMATION
高空間分解能および多視点結像用の荷電粒子ビーム装置 - 特許庁 - To provide a multipole lens having multi-functions used for a charged particle beam.
荷電粒子線に用いられる多極子レンズで多機能を有するものを提供する。 - 特許庁 - MULTI-LAYER ELASTOMER MATERIAL CHARGED WITH RADIATION ATTENUATING COMPOUND, PREPARATION METHOD AND USE OF THE SAME
放射線減衰化合物を充填した多層エラストマー材料、その調製方法および使用 - 特許庁 - To remove influence on an electron beam due to charging-up of an insulator in a multi-charged particle beam lens.
マルチ荷電ビームレンズにおける絶縁体のチャージアップによる電子ビームへの影響を解消する。 - 特許庁 - To provide a multi-beam deflector array means for a particle beam exposure apparatus using a beam of charged particles.
荷電粒子ビームを使用する粒子ビーム露光装置用のマルチビーム偏向器アレイ手段を提供する。 - 特許庁 - This multi-charged beam lens is constructed by layering a plurality of electrodes 201a-201c having a charged beam passage area 202 provided with a plurality of charged beam apertures 202a in the electron charged beam optical axis direction via fiber chips 212.
複数の荷電ビーム用開口２０２ａが設けられた荷電ビーム通過領域２０２を有する複数枚の電極２０１ａ〜ｃが、ファイバーチップ２１２を介して荷電ビームの光軸方向に積層されて構成されたマルチ荷電ビームレンズが提供される。 - 特許庁 - In the multi-pole constituted of a plurality of electrode poles 2 or magnetic poles 4 and controlling movements of charged particle, non-magnetic multi-electrode poles and multi-magnetic poles are arranged so as to be supported by an insulating body 1 on the same axis, and the multi-magnetic poles are positioned outside the multi-electrode poles.
複数の電極子２又は磁極子４で構成され、荷電粒子の運動を制御する多極子において、同軸上に非磁性体の多電極子と多磁極子を絶縁体１で支持されるように配置し、前記多磁極子が多電極子の外側に位置するように構成される。 - 特許庁 - The multi-charged particle writing system for writing on a wafer 9 using a plurality of charged particle beams comprises a Faraday cup 14 receiving a plurality of charged particle beams directly and measuring the total current thereof, and a multi-detector 15 having a function for receiving each charged particle beam directly and multiplying incident electrons, and measuring the relative value of the current of each charged particle beam.
複数の荷電粒子線を用いてウエハ９を描画するマルチ荷電粒子線描画装置において、複数の荷電粒子線を直接入射させその総電流を計測するファラデーカップ１４と、各荷電粒子線を直接入射させ入射電子を増倍する機能を有し、各荷電粒子の電流の相対値を計測するマルチ検出器１５とを有する。 - 特許庁 - MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM OPTICAL LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE EMPLOYING THE SYSTEM OR THE METHOD
マルチ荷電粒子線露光装置および方法ならびに該装置または方法を用いたデバイス製造方法 - 特許庁 - To provide a charged particle beam-irradiating apparatus capable of obtaining a clear image of the aperture of a multi-leaf collimator.
マルチリーフコリメータの開口部の鮮明な撮像画像を得ることができる荷電粒子線照射装置を提供する。 - 特許庁 - To obtain a low cost and high throughput, in the device manufacturing and inspection of device using a multi-column type charged particle beam.
マルチコラム方式の荷電粒子ビームを用いたデバイス製造・検査において、低コストおよび高スループットを実現する。 - 特許庁 - To provide a charged particle beam lens array, reduced in cross talk and high in convergent performance while being optimum for a multi-beam type exposure device.
クロストークが少なく、収束性能が高い、マルチビーム型露光装置用として好適な荷電粒子線レンズアレイを提供する。 - 特許庁 - In this case, concretes different in kind are charged in the inner forms 11 in series to manufacture the concrete product having a multi-layer structure.
このとき異種のコンクリートを順次内型枠１１内に投入し、多層構造のコンクリート製品を製造することができる。 - 特許庁 - To provide a multi-charged particle writing system capable of measuring a current of each electron beam accurately and capable of exposing a desired pattern.
各電子ビームの電流を正確に測定でき、所望パターンを露光できるマルチ荷電粒子線描画装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a surface analysis apparatus capable of highly accurately analyzing the surface of a sample in a short time through the use of multi-charged ions.
多価イオンを用いて、試料表面の分析を高精度で短時間に行うことができる表面分析装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a multi-beam pattern defining (PD) system, capable of correcting a distortion error in an image forming system and a charged particle processing or inspecting apparatus.
結像系のひずみエラーを補正できるマルチビーム・パターン定義（ＰＤ）システム、及び荷電粒子処理または点検装置を提供する。 - 特許庁 - Thus, the composite material contains the polylactic acid, the layered silicate organically modified with the positively electric charged organic compound and the multi-functional epoxy compound.
すなわち、ポリ乳酸と、正電荷有機化合物で有機修飾された層状珪酸塩と、多官能エポキシ化合物とを含有するものである。 - 特許庁 - A charged beam 2 is controlled by controlling a voltage to electrodes according to a polarized charged beam condition using a rotation- symmetry round type electron lens 16 capable of independently controlling the control voltages, in the middle of orbit of the charged beam 2 passing a multi-pole field formed with pole lenses 11, 12, 18 and 19.
極子レンズ１１、１２、１８、１９により形成されたマルチポール場を通過する荷電ビーム２の軌道途中で、制御電圧を独立に制御できる回転対称型のラウンド式電子レンズ１６を用いて偏向荷電ビームの条件に応じて各エレクトロードへの電圧を制御することにより荷電ビーム２を制御する。 - 特許庁 - The charged particle beam-irradiating apparatus 4 comprises: a scatterer 6 and ridge filter 7 that irradiate a charged particle beam P supplied from a cyclotron 5 on a cancerous area B in the body of a patient A; and a multi-leaf collimator 8 that sets the irradiation bounds of the charged particle beam P according to the shape of the cancerous area B.
荷電粒子線照射装置４は、サイクロトロン５から供給された荷電粒子線Ｐを患者Ａの体内の腫瘍部Ｂに照射する散乱体６及びリッジフィルタ７と、腫瘍部Ｂの形状に合わせて荷電粒子線Ｐの照射範囲を設定するマルチリーフコリメータ８とを有している。 - 特許庁 - To do away with processing unevenness due to glitch noise generated when a multi-bit D/A converter is used for controlling of deflection voltage, in the course of processing by convergent charged particle beam.
収束荷電粒子線による加工において、偏向電圧の制御にマルチビット型Ｄ／Ａ変換器を用いた時に発生するグリッチノイズによる加工ムラをなくす。 - 特許庁 - A collimator shape-confirming unit 9, which is advancible and retractable on the irradiation axis Q of the charged particle beam P, is disposed between the ridge filter 7 and the multi-leaf collimator 8.
リッジフィルタ７とマルチリーフコリメータ８との間には、荷電粒子線Ｐの照射軸Ｑに対して進退可能なコリメータ形状確認ユニット９が配置されている。 - 特許庁 - The apparatus is characterized by forming a reactor charged with the catalyst at multi-stages reactor to connect a flow route for supplying the mono lower alkyl amine in multi-stage reactors, and branching flow routes for supplying the alkylene oxide to connect in parallel in the front reactor of each reactor of the multi-stage reactors.
装置としては、触媒が充填される反応器が多段に構成され、モノ低級アルキルアミンの供給流路が多段の反応器に直列的に連結されるとともに、アルキレンオキシドの供給流路が分岐して多段の反応器の各反応器の前流に並列に連結されている特徴を有する。 - 特許庁 - To provide charged-particle-beam lithography technology for permitting drawing process without changing a multi-beam forming element and without deteriorating a drawing accuracy, even when electron beam having fault in characteristics thereof by the fault of the multi-beam forming element is generated.
マルチビーム形成素子の不具合により特性の不良な電子ビームが生じた場合にも、マルチビーム形成素子を交換することなく、且つ描画精度を低下させることなく、描画処理を可能にする荷電粒子ビーム描画技術を提供する。 - 特許庁 - To provide a multi-beam type charged particle beam application device having a function wherein a primary beam is incident to a sample from a slanting direction without relatively inclining an electrooptic system and the sample.
マルチビーム式の荷電粒子線応用装置において、電子光学系と試料を相対的に傾けることなく、試料に対し一次ビームを斜め方向から入射する機能を付与する。 - 特許庁 - To display an initial screen on a display portion of a multi-functional peripheral based on a usage history of a user to secure convenience of the user, and to prevent the user from unconsciously using a charged application.
複合機の表示部にユーザの利用履歴に基づいて初期画面を表示しユーザの利便性を確保すると共に、ユーザが無意識のうちに有料のアプリケーションを使用するのを防ぐ。 - 特許庁 - Satisfactory memory properties of the pixel display and reproducibility of the pixel display stable for a long time and multi-times can be attained by stability of the diamond like carbon film and affinity with the charged particles 5.
ダイヤモンドライクカーボン膜の安定性、帯電粒子５との親和性によって、画素表示の良好なメモリ性、長期間、多回数の安定した画素表示の再現性も実現する。 - 特許庁 - A measure is prepared in a multi-beam charged particle beam apparatus, the measure that can change micro-field size so that each beam will not make a micro field size that is to be drawn become an even-numbered multiple of a drawing pattern size.
マルチビーム荷電粒子線装置において各ビームが描画する微小フィールドサイズを描画パターンサイズの偶数倍にしない為に、微小フィールドサイズを変更する手段を設ける。 - 特許庁 - To provide a lithium ion storage battery in which a multi-layer film is used for the outer package and which can hold a shape in a high temperature environment and can be charged and discharged even in a low temperature environment.
外装体に多層フィルムを使用しており高温環境下で形状を保持することができ低温環境下でも充放電可能なリチウムイオン蓄電池を提供する。 - 特許庁 - Recirculation exhaust gas through an outlet 5 of a furnace 1 is heat-exchanged with air by a multi-cyclone type heat exchanger 30 and branched into branch exhaust gas recirculation passages 111 and 112 via a recirculation fan 31 and one is charged from a lower stage port 3 and the other is charged from a hopper part 6 into the furnace 1.
火炉１の出口５からの再循環排ガスは、マルチサイクロン型熱交換機３０で空気と熱交換され、再循環ファン３１を経て分岐排ガス再循環路１１１，１１２に分岐され、一方は下段ポート３から、他方はホッパ部６から火炉１内に投入される。 - 特許庁 - To provide a multi-mass filter for multi-kind of plasma selectively collecting charged particles having different mass-charge ratio by effectively restricting them to an orbital leading to respective different areas and capable of being relatively simply manufactured with an easy use and a relatively good cost effect.
異なる質量−電荷比の帯電粒子をそれぞれの異なる領域へ導く軌道に効果的に拘束して分別収集する多種プラズマの多種質量フィルタであって、比較的簡単に製造でき、使用が容易で、比較的に費用効果の良好な多種質量フィルタを提供する。 - 特許庁 - A multi-beam pattern definition device 300 for use in a particle-beam processing or inspection apparatus is configured to irradiate a beam of electrically charged particles, allow passage of the beam through a plurality of apertures, and then form beamlets which are imaged onto a target.
粒子ビーム処理または検査装置用のマルチビームパターン定義装置３００は、荷電粒子ビームを発生し、複数のアパーチャを通過させた後に、ターゲット上に結像されるビームレットを形成する。 - 特許庁 - To provide a control device for a multi-cylinder internal combustion engine, in which quantity of air charged in each cylinder can be correctly grasped to properly restrict irregularity of quantity of air in the cylinders.
各気筒の筒内充填空気量を正確に把握し、筒内充填空気量の気筒毎のばらつきを的確に抑制することのできる多気筒内燃機関の制御装置を提供する。 - 特許庁 - In a multi-charged beam lens where three or more electrode substrates are laminated with an insulator interposed, the site of at least one electrode board brought into contact with the insulator is insulated from a voltage application part.
３枚以上の電極基板が間に絶縁体を挟んで積み重ねられているマルチ荷電ビームレンズにおいて、少なくとも１枚の電極基板の、前記絶縁体と接する部位を電圧印加部から絶縁する。 - 特許庁 - In the multi-beam type charged particle beam application device, lenses 140a, 140b are controlled by an optical control circuit 139 so as to focus on the sample while lens voltage of an array lens 109 is turned off.
マルチビーム型の荷電粒子線応用装置において、アレイ状レンズ１０９のレンズ電圧を切った状態でも試料上に合焦させるように、光学系制御回路１３９により、レンズ１４０a、１４０b他を制御する。 - 特許庁 - To provide a portable capacitor system for multi-purpose application, capable of carrying a solar battery power generating system which fluctuates depending on light receiving condition in fully charged state at any time, and capable of reducing an exhausted amount of environmental pollutant.
受光状態により変動する太陽電池発電システムを随時フル充電状態で運搬でき、環境汚染物質の排出量を減らすことができる多目的使用の可搬型の蓄電池システムを提供する。 - 特許庁 - In this image forming system, a printer or an MFP (Multi-Function-Peripheral) connected to a network is effectively used by use of a framework of grid computing technology, and the license fee for resource use is charged.
グリッドコンピューティング技術のフレームワークを使用して、ネットワーク上に接続されたＭＦＰ（Ｍｕｌｔｉ−Ｆｕｎｃｔｉｏｎ−Ｐｅｒｉｐｈｅｒａｌ）やプリンタを有効活用し、かつ、リソース活用のライセンス料を課金するための画像形成システム。 - 特許庁 - The developer electric field transport substrate is configured to convey charged powdery developer, along the developer transport path by means of an electric field generated by application of multi-phase AC voltage to the transport the electrodes.
現像剤電界搬送基板は、複数の搬送電極への多相交流電圧の印加に伴って発生する電界により、現像剤搬送経路に沿って、帯電した粉末状の現像剤を搬送するように構成されている。 - 特許庁 - LAYERED COMPOSITION HAVING MULTI-CHARGED ONIUM ION AS EXCHANGE ION, APPLICATION OF THE SAME COMPOSITION FOR PREPARING MONOMER, OLIGOMER AND POLYMER INTERCALATION MATERIAL AND NANO COMPOSITE PREPARED BY USING LAYERED COMPOSITION OF THE INTERCALATION MATERIAL
交換イオンとして多荷電オニウムイオンを有する層状組成物、ならびにモノマー、オリゴマー及びポリマーインターカレーション物を調製するための当該組成物の適用と、当該インターカレーション物の層状組成物を用いて調製したナノ複合体 - 特許庁 - A rotary kiln 1 and a furnace 4 are provided, a refuse 6 pulverized into appropriate size is charged into the kiln, and the hot gas which is the prebeated air including the odor generated in a refuse reception pit 20 is blown against the refuse through a multi-staged annular passage 8.
ロータリキルン１と火炉４とを備え、キルンへは適宜のサイズに破砕したごみ６を投入し、ごみ受入ピット２０で発生した臭気を含む空気を予熱した高温ガスを多段式環状通路８を介して吹きつける。 - 特許庁 - The collimator shape-confirming unit 9 comprises an image pickup camera 11 that directly images the aperture 8c of the multi-leaf collimator 8, and is movable between an imaging position that corresponds to the irradiation region R comprising the irradiation axis Q of the charged particle beam P and a standby position at a distance from the irradiation region R comprising the irradiation axis Q of the charged particle beam P.
コリメータ形状確認ユニット９は、マルチリーフコリメータ８の開口部８ｃを直接撮像する撮像カメラ１１を有し、荷電粒子線Ｐの照射軸Ｑを含む照射領域Ｒに対応する撮像位置と荷電粒子線Ｐの照射軸Ｑを含む照射領域Ｒから離れた退避位置との間で移動可能となっている。 - 特許庁 - This multi-beam source 101 for generating a plurality of beamlets 112 of energetic electrically charged particles comprises: an illumination system 102 generating an illuminating beam of charged particles; and a beam-forming system 103 being arranged behind the illumination system as seen in the direction of the beam, and adapted to form a plurality of telecentric or homocentric beamlets 112 out of the illuminating beam.
エネルギ荷電粒子の複数のビームレット（１１２）を発生するためのマルチビーム源（１０１）は、荷電粒子の照明ビームを発生する照明システム（１０２）と、ビームの方向に見て照明システムの後に配置され、かつ照明ビームから複数のテレセントリックまたは均質なビームレット（１１２）を形成するように適応されたビーム形成システム（１０３）とを含む。 - 特許庁 - The detection line is charged/discharged in response to the internal clock signal in the even cycle, the duty detection circuit is applicable to a multi-phase DLL circuit and the potential difference appearing on the detection line can be ensured sufficiently.
これにより、偶数サイクルの内部クロック信号に対応して検出ラインが充放電されることから、多相式のＤＬＬ回路への適用が可能であるとともに、検出ラインに現れる電位差を十分に確保することが可能となる。 - 特許庁 - A main control system 34 preliminarily prepares and stores in a storage 43 a voltage map showing a defocus level of a multi-beam B1 on a sample surface, according to a charged-up level caused when the sample 10 is irradiated with the primary electron beams B1.
主制御系３４は、試料１０上に一次電子ビームＢ１を照射した際に生ずるチャージアップ量に応じ、試料面におけるマルチビームＢ１の焦点ずれ量を示す電圧マップを予め作成し記憶装置４３に記憶する。 - 特許庁 - To solve a problem wherein, when an electric field or a voltage on a surface of a sample is changed in accordance with a characteristic of the sample, the arrangement of a plurality of primary beams on the sample surface, and a plurality of secondary beams on a detector is changed, in a multi-beam type charged particle beam application device.
マルチビーム型の荷電粒子線応用装置において、試料の特性に応じて試料表面における電界や電圧を変更すると、試料表面における複数の一次ビーム、検出器上における複数の二次ビームの配置が変化する。 - 特許庁 - The charged particle beam device 10 has an interface 24 which can operate so as to transmit a data from the computer to mobile devices 16, 18, 20 through a mobile phone network 14 in a form of short message service (SMS) and/or multi-media message service (MMS).
荷電粒子ビーム装置１０は、コンピュータからのデータを携帯電話ネットワーク１４を介してショートメッセージサービス（ＳＭＳ）および／またはマルチメディアメッセージサービス（ＭＭＳ）メッセージの形式でモバイル装置１６，１８，２０に伝送させるように動作可能なインターフェイス２４を含む。 - 特許庁 - If printing using an Internet FAX function is performed in an environment where the number of prints is managed for each user, the number of prints is counted (charged) to the user of a sender MFP (Multi Function Peripheral) if a destination MFPβ is located near a sender MFPα.
ユーザ毎に印刷枚数管理を行なう環境において、インターネットＦＡＸ機能を用いた印刷が行なわれた場合、送信先ＭＦＰβが送信元ＭＦＰαの近くにあれば、送信元ＭＦＰのユーザに対して印刷枚数をカウント（課金）する。 - 特許庁 - To provide a radical polymerization initiator obtained by combining a binuclear ruthenium complex as a multi-nuclear complex charged with a cation with a halogen compound, and further, to provide a method of producing a polymer having a functional group capable of chemical conversion in the end by polymerization using the initiator.
複核錯体として、カチオンを荷電した２核ルテニウム錯体とハロゲン化合物の組み合わせによるラジカル重合開始剤を提供することにあり、さらにその開始剤を用いる重合反応から末端に化学変換可能な官能基を有するポリマーの製造法を提供する。 - 特許庁
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