To provide an apparatus for processing a substrate which can efficiently purge in not only a process space but also a treated gas supply nozzle when a multinary compound film is formed by laminating a molecular layer on a substrate to be processed. 被処理基板上に多元系化合物膜を、分子層の積層により形成する際に、プロセス空間のみならず、処理ガス供給ノズル内部の効率的なパージが可能な基板処理装置を提供する。 - 特許庁