「multiple-baseline~」を含む例文一覧(1)

  • The baseline is determined by initially exposing the monitor wafers using the lithographic apparatus to perform multiple exposure passes on each of the monitor wafers.
    ベースラインは、最初リソグラフィ装置を用いてモニタウェーハを露光してモニタウェーハの各々の上で複数の露光パスを実行することで決定される。 - 特許庁

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