「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 129 130 131 132 133 134 135 136 137 .... 287 288 次へ＞- On the other hand, when a DVD is used, there is a danger that in the case of the light of a wavelength λ exceeding 700 nm, a light quantity necessary for information recording or reproducing becomes short.
一方、ＤＶＤを用いた場合、波長λが７００ｎｍを超える光では、情報の記録又は再生に必要な光量が足らなくなる恐れがある。 - 特許庁 - The composite has a BET specific surface area of 5-500 m^2/g, an average particle size of primary particles of 250 nm or less, and an average particle size of secondary particles of 3.0 μm or less.
複合体は、ＢＥＴ比表面積が５〜５００ｍ^２/ｇ、一次粒子の平均粒子径が２５０ｎｍ以下、二次粒子の平均粒子径が３．０μｍ以下である。 - 特許庁 - The incline composition base layer 4 is an inclined composition GaAs1-xSbx layer which has a carrier concentration of 5.0×1019/cm3, a band gap energy ΔE of 8 kV and a thickness of 50 nm.
組成傾斜型ベース層４は、キャリア濃度が５．０×１０^19／cm^3 、バンドギャップエネルギーΔＥが８ｋＶで、膜厚が５０ｎｍの組成傾斜型ＧａＡｓ_1-X Ｓｂ_X 層である。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a glass substrate for a mask blank and the like which can suppress the occurrence of a protruded defect with a height of several nm and a size of 5 μm to 20 μm.
高さが数ｎｍ、大きさが５μｍ〜２０μｍ程度の凸状欠陥の発生を抑制できるマスクブランク用ガラス基板の製造方法等を提供する。 - 特許庁 - The light incident side face of the body part that constitutes the light incident surface is a corrugated surface configured to include convex parts 45 arranged at an arrangement pitch of 488 nm or less.
入光面を構成する本体部の入光側面は、４８８ｎｍ以下の配置ピッチで配置された凸部４５を含んで構成される凹凸面となっている。 - 特許庁 - The light take-out structure is composed of a supporting member and the light-scattering film provided with a porous structure formed on the supporting member, having a roughness Ra of less than 10 nm.
支持部材と、支持部材上に形成された、粗さＲａが１０ｎｍ未満の多孔質構造を備える光散乱膜とを有する光取り出し構造を提供する。 - 特許庁 - For this, the slide bearing has an outside abrasion decreasing cover layer in the thickness range of D=10 nm to 10 μm made of only aluminum oxide.
このため、滑り軸受は、酸化アルミニウムだけから成っている厚さ範囲Ｄ＝１０ｎｍないし１０μｍの外側の摩耗低下カバー層を有していることとする。 - 特許庁 - The surface roughness Ra of the magnetic layer is made equal to or less than 12.0 nm, and the improvement rate of the surface roughness of the nonmagnetic supporting body by the magnetic layer is made equal to or less than 0.8.
また、前記磁性層の表面粗度Ｒａは、１２．０ｎｍ以下とし、その磁性層による非磁性支持体表面粗度の改善率は０．８以下とする。 - 特許庁 - The above described needle-shaped titanium oxide carries ployalcohl, SBET is more than 70 m2/g and surface roughness of the above described magnetic layer, Ra, is less than 3.5 nm.
前記針状の酸化チタンは多価アルコールを担持したものであり、Ｓ_BETが７０ｍ^2／ｇ以上であり、かつ前記磁性層の表面粗さＲａが３．５ｎｍ以下である。 - 特許庁 - The abrasive is made of a cluster diamond 10 wherein artificial diamond particles 11 each having an impurity 15 adhering to the surroundings thereof and ≤20 nm primary particle diameter are bonded in a cluster shape.
研磨材は、周囲に不純物１５を付着している一次粒子径２０ｎｍ以下の人工ダイヤモンド粒子１１がクラスター状に結合したクラスターダイヤモンド１０から成る。 - 特許庁 - The total volume of the pore with a porous radius of 0.3-0.6 nm by an MP method may be approximately 10-80 vol% of the integrated porous volume.
また、ＭＰ法による細孔半径０．３〜０．６ｎｍの細孔の総容積は、上記積算細孔容積に対して、１０〜８０容量％程度であってもよい。 - 特許庁 - At least a part of the substrate has thermal conductivity of not less than 10 W/(m K), and average surface roughness of light emission layer side of the substrate is 50 nm or less.
基板４は、少なくとも一部が１０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上の熱伝導率を有し、且つ発光層側の表面の平均表面荒さが５０ｎｍ以下である。 - 特許庁 - For a main magnetic film, 88FeNi of film thickness of 200 nm which becomes Hk0.32Oe (25.6 A/m) at minimum is used, and as an interlayer material, a 20 wt% FeNi film is selected which is the same FeNi system plating film and has low Hk and low Hc.
主となる磁性膜は最小Hk0.32Oe(25.6A/m)となる膜厚200nmの88FeNiを使用し、層間材料として、同じFeNi系めっき膜で低Hkかつ低Hcを有する20wt%FeNi膜を選定した。 - 特許庁 - Preferably the UV-B exposure dose (at 305 nm wavelength) is ≥0.133 μw/cm^2 based on 1 mol/m^2/sec exposure dose PPF value of the visible light lamps 11.
さらには、ＵＶ−Ｂ照射量（同３０５ｎｍにおいて）を可視光線ランプ１１の照射量ＰＰＦ値１mol／m2／secに対して０.１３３μw／cm2以上とするのが好ましい。 - 特許庁 - The compound cloth for the abrasive cloth is obtained by layering a sheet-like material on a cloth containing polyester multi-filament yarns A having the single fiber diameter of 50-1,500 nm, and the abrasive cloth is obtained therefrom.
単繊維径５０〜１５００ｎｍのポリエステルマルチフィラメント糸Ａを含む布帛にシート状物を積層して研磨布用複合布帛を得て、研磨布とする。 - 特許庁 - If the deviation between the number Nm and the number NmT is not smaller than the threshold ΔN (NO, in S30), the control unit executes rotation synchronous control (S40).
回転数Ｎｍと目標回転数ＮｍＴとの偏差がしきい値ΔＮ以上のとき（Ｓ３０にてＮＯ）、ハイブリッド制御部は、回転同期制御を実行する（Ｓ４０）。 - 特許庁 - A refractive index Δn of the liquid crystal material forming the liquid crystal layer and the thickness of the liquid crystal layer (d) are selected, so as to make their product Δn.d into 600-900 nm.
液晶層を形成する液晶材料の屈折率Δｎと液晶層の厚みｄとを、その積Δｎ・ｄが６００ｎｍ〜９００ｎｍとなるように選択する。 - 特許庁 - This anticorrosion treatment method comprises the steps of: forming a dense oxidized layer with a thickness of 5 to 20 nm on the surface of aluminum or the aluminum alloy; and then forming a barrier-type anodic oxide coating.
アルミニウム又はアルミニウム合金の表面に厚さ５〜２０ｎｍの緻密な酸化層を形成し、その後、バリア型陽極酸化処理をすることを特徴とする。 - 特許庁 - W=2πnTt (1), wherein W is the work done (W h), π is the ratio of the circumference of a circle to its diameter, n is the number of rotation of the rotor (cycles/s), T is the torque (Nm) and t is the dispersion time (h).
Ｗ＝２πｎＴｔ ・・・・・（１）（Ｗ：分散の仕事量（Ｗ・ｈ）、π：円周率、ｎ：ローター回転数（ｃｙｃｌｅｓ／ｓ）、Ｔ：トルク（Ｎｍ）、ｔ：分散時間（ｈ）） - 特許庁 - The surface smoothed fluororesin tube and the pressure roller are constituted so that the average roughness (Ra) of a center line is ≤10 nm on the optional cross section of the surface.
表面の任意断面において、中心線平均粗さ(Ｒａ)が１０ｎｍ以下であることを特徴とする表面平滑性フッ素系樹脂チューブ及び加圧ローラ。 - 特許庁 - The coarseness of the surface of a recording medium opposing the slider is 0.8 nm or less in Ra, a head suspension applies a head load of 1gf or more to the head.
スライダと対向した記録媒体の表面粗さは、Ｒａで０．８ｎｍ以下であり、ヘッドサスペンションは、ヘッドに対して１ｇｆ以上のヘッドう荷重を印加している。 - 特許庁 - An intermediate layer comprising a radiation curing resin as a main component is provided between the magnetic layer and the non-magnetic layer and the magnetic layer has ≤2 nm surface roughness.
前記磁性層と非磁性層との間に放射線硬化型樹脂を主成分として含む中間層を有し、かつ、前記磁性層の表面粗さは２ｎｍ以下である。 - 特許庁 - This blue fluorescent substance for color plasma display comprises powder of an aluminic acid-based blue fluorescent substance coated with an amorphous SiO2 coat having ≤100 nm thickness on the surface.
アルミン酸系青色蛍光体の粉末表面にアモルファスＳｉＯ_2被覆膜が１００ｎｍ以下の厚さで成膜されているカラープラズマディスプレイパネル用青色蛍光体。 - 特許庁 - The light source 1 for illumination for measurement has a wide rang of 600 to 900 nm, thus an appropriate contrast is available even when the difference in level of superimposing marks 20 are variable.
測定用照明光源１は６００〜９００ｎｍの広帯域なので、重ね合わせマーク２０の段差が種々の値をとっても適度なコントラストが得られる。 - 特許庁 - In the obtained composite, the silica particles of 5-50 nm are uniformly dispersed in the observation of transmission electron microscope (TEM), and both bending and tensile strengths are remarkably improved.
得られたコンポジットをＴＥＭで観察したところ５ｎｍ〜５０ｎｍのシリカ粒子が均一に分散しており、曲げ強度、引張強度とも大幅に向上した。 - 特許庁 - A magnetic recording medium 10 is provided with an alternately laminated film, which is constituted by alternately laminating a magnetic film and a non-magnetic film having film thickness ≤1 nm, as an information recording film 3.
磁気記録媒体１０は、磁性膜と、膜厚１ｎｍ以下の非磁性の膜とを交互に積層して構成される交互積層膜を情報記録膜３として備える。 - 特許庁 - The invention relates to the method for culturing plant cells comprising redifferentiation of a callus 1, wherein a light of 250-760 nm of wave length with 40 μmol/m^2/g of intensity is irradiated.
カルス１を再分化させる植物細胞培養方法であって、培養時に波長２５０〜７６０ｎｍで４０μｍｏｌ／ｍ^2 ／ｓ以上の光を照射する。 - 特許庁 - The luminescent labeling reagent emits a light, which is detected by Si-CCD or InGaAs-PD and transmits a sample rich in H_2O in a region of red-near infrared at a wavelength of 650-1,600 nm, by the excitation.
そして、この励起によりSi-CCDもしくはInGaAs-PDで検出可能でかつ、H_2Oリッチな試料中を透過できる波長650nm〜1600nmの赤〜近赤外領域の光を発光する。 - 特許庁 - On the surface 11 of a substrate, after the first organomolecular film 12 of 3 nm or below thickness is formed, the second organomolecular film 13 having different functional groups is formed.
基板表面１１に、膜厚が３ｎｍ以下の第１の有機分子膜１２を形成した後に、異なる官能基を有する第２の有機分子膜１３を形成する。 - 特許庁 - This coated article has a Ti (C, N, O) layer having a particle size of <25 nm as a coating layer, and the method provides the same article.
粒度が２５ｎｍ又はそれ未満のＴｉ（Ｃ，Ｎ，Ｏ）層を、コーティング層として有するコーティングされた物品、並びにこの物品を提供するための方法とする。 - 特許庁 - Suitably, the saccharated ferric oxide is colloid, the average particle diameter of the colloid is 10 to 1,000 nm, and the pH of the saccharated ferric oxide formulation for injection is 9 to 10.
好適には、上記含糖酸化鉄はコロイドであって、該コロイドの平均粒子径は１０〜１０００ｎｍであり、上記注射用含糖酸化鉄製剤のｐＨは９〜１０である。 - 特許庁 - To provide a shrinkable label for a glass bottle or a PET bottle, both having such excellent lightproofness that transmittance is at most 1% even for visible rays of at most 500 nm.
５００ｎｍ以下の可視光線にあっても透過率が１％以下となるような遮光性に優れたガラス瓶やペットボトル用のシュリンクラベルを提供すること。 - 特許庁 - Preferably, the average inner diameter of the crucible-shaped pores 21 is 0.125 to 0.30 μm, and the diameter of an inlet 21a serving as an inlet of gas is 40 to 45 nm.
好ましくは、坩堝形状をなす気孔２１は、平均内径が０．１２５〜０．３０μｍであり、反応ガスの入口２１ａである入口径が４０〜４５ｎｍとされる。 - 特許庁 - The organic electric field light emitting element is characterized by a light emitting layer 4 which contains the light emitting organic and inorganic compounds, and film thickness being 5 nm or less.
本発明は、発光層４が発光性の有機化合物及び無機化合物を含有し、かつ膜厚が５ｎｍ以下であることを特徴とする有機電界発光素子である。 - 特許庁 - To provide a thin-film pattern forming method which can form fine thin-film patterns of not more than tens of nm in large area and in large quan tity on a flexible sheet substrate.
フレキシブルなシート状基板に数十ｎｍ以下の微細な薄膜パターンを大面積かつ大量に形成することができる薄膜パターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The first chemical contains an electrolyte and air bubbles of 10 nm-1,000 μm in diameter, and the second chemical contains abrasive particles.
前記第１の薬液は、電解質と直径が１０ｎｍ〜１０００μｍの気泡とを含有し、前記第２の薬液は研磨粒子を含有することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a new fluorine-containing polymerizable cyclic olefin that is useful as a raw material for a base resin of a photoresist material because it has excellent transparency to radial rays of, for example, ≤ 200 nm wavelength, particularly ≤ 160 nm wavelength, further excellent etching resistance to the dry etching and shows good image-developing properties with the hydrophobic properties suppressed.
例えば、波長２００ｎｍ以下、特に波長１６０ｎｍ以下の放射線に対する透明性、およびドライエッチングに対するエッチング耐性に優れ、しかも疎水性が抑制されて現像特性が良好であり、そのためフォトレジスト材料のベース樹脂の原料として有用な新規含フッ素重合性環状オレフィン化合物を提供する。 - 特許庁 - The device for reducing β_2-microglobulin or uric acid contained in the irradiation target is provided with at least a method for reducing β_2-microglobulin or uric acid contained in the irradiation target by irradiation with light of wavelengths of 400 nm or more and a means for emitting light of wavelengths of 400 nm or more.
４００ｎｍ以上の波長を有する光を照射することによって、照射対象に含まれるβ_2−マイクログロブリンまたは尿酸を減少させる方法、ならびに、４００ｎｍ以上の波長を有する光を照射する手段を少なくとも備える、照射対象に含まれるβ_2−マイクログロブリンまたは尿酸を減少させるための装置。 - 特許庁 - The intensity of fluorescence X' having the wavelength near 383 nm generated when a solution Q of the polycyclic aromatic hydrocarbon which is detection object is irradiated with excitation light having the wavelength near 300 nm is detected, and the concentration of the polycyclic aromatic hydrocarbon is determined from data of a calibration curve for showing concentration versus fluorescence intensity of the polycyclic aromatic hydrocarbon measured beforehand.
検出対象の多環芳香族炭化水素の溶液Ｑに、波長３００nm近傍の励起光Ｘを照射したときに生じる波長３８３nm近傍の蛍光Ｘ'の強度を検出し、予め測定された多環芳香族炭化水素の濃度対蛍光強度を示す検量線のデータから当該多環芳香族炭化水素の濃度を得る。 - 特許庁 - The optical multilayer film 3 has functions for cutting ultraviolet rays of 320nm wavelength or less which may yellow the optical anisotropic material layer 5, transmitting ultraviolet lays of 360-410 nm wavelengths which are necessary for polymerizing or curing a polymerizable liquid crystal composition or optical polymerizable adhesives and preventing the reflection of light of a wavelength of 405 nm band.
前記光学多層膜３は、光学異方性材料層を黄変させる波長３２０ｎｍ以下の紫外線をカットし、重合性液晶組成物や光重合性接着剤を重合あるいは硬化させるために必要な波長３６０〜４１０ｎｍの紫外線を透過し、さらに波長４０５ｎｍ帯の光を反射防止する機能をもつ。 - 特許庁 - The method for producing a water absorbent comprises (a) mixing a water-absorbing resin with water and a mixing auxiliary without adding a water-soluble radical polymerization initiator and an ethylenic unsaturated monomer and (b) radiating the obtained mixture with an ultraviolet light having a wavelength of >200 nm and ≤400 nm while fluidizing the mixture.
吸水剤の製造方法であって、 ａ）水溶性ラジカル重合開始剤およびエチレン性不飽和単量体を添加せずに、吸水性樹脂と水と混合助剤とを混合し、 ｂ）得られた混合物を流動させながら２００ｎｍを超えて４００ｎｍ以下の波長を有する紫外線を照射すること、を含む吸水剤の製造方法である。 - 特許庁 - In the insular magnetic thin film where isolated insular particles composed of a magnetic material are arranged like a discontinuous film, the magnetic material contains a rare earth element, the in-plane diameter of the insular particles has an average value in the range of 40-140 nm, and the thickness of the thin film is in the range of 2-25 nm.
磁性材料からなる孤立した島粒子が不連続膜状に配置された島状磁性薄膜であって、前記磁性材料が希土類元素を含有するものであり、前記島粒子の面内直径の平均値が４０〜１４０ｎｍの範囲にあり、且つ、前記薄膜の厚みが２〜２５ｎｍの範囲にあることを特徴とする島状磁性薄膜。 - 特許庁 - The polishing composition is obtained by mixing ion-exchanged water filtered through a 0.5μm cartridge filter with a polishing material comprising colloidal silica 30 nm in mean particle size and polymethyl methacrylate(PMMA) particles 30 nm in mean size and 60° in contact angle with water at 23°C, benzotriazole, hydrogen peroxide and an organic acid, and agitating the mixture with a high-speed homogenizer to effect homogeneous dispersion.
研磨材として、平均粒径３０ｎｍのコロイダルシリカ、平均粒径３０ｎｍで２３℃の水の接触角が６０度のポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）粒子、ベンゾトリアゾール、過酸化水素、有機酸を０．５μｍのカートリッジフィルターで濾過されたイオン交換水に混合し、高速ホモジナイザーで攪拌して均一に分散させて研磨用組成物を得た。 - 特許庁 - In this formation method of silicon-based thin films for introducing a feed gas, where silicon fluoride and hydrogen are contained into a vacuum vessel, and for forming the silicon-based thin films on a substrate introduced into the vacuum vessel by a high-frequency plasma CVD method, light emission intensity due to SiF α (440 nm) is to be higher than that due to Hα (656 nm).
真空容器内にフッ素化シリコンと水素を含む原料ガスを導入し、前記真空容器内に導入した基板上に高周波プラズマＣＶＤ法を用いてシリコン系薄膜を形成する方法であって、ＳｉＦα（４４０ｎｍ）に起因する発光強度が、Ｈα（６５６ｎｍ）に起因する発光強度以上であることを特徴とする。 - 特許庁 - As an ultraviolet light emitting lamp, a phosphor which is of a plane type using an excitation source by a xenon discharge and which is activated by gadolinium is used, a light source which emits only ultraviolet rays at an emission peak wavelength of 313 nm and in a half width of 5 nm or less is built in, and a high-cost filter is not required for the ultraviolet transmitting medium at the fluorescent transilluminator.
紫外線発光ランプとして、キセノン放電による励起源を用いた平面型で、ガドリニウム付活の蛍光体を用いることで、発光ピーク波長が３１３ｎｍで半値幅５ｎｍ以下の紫外線のみを発光する光源を内蔵することで、蛍光トランスイルミネーターの紫外線透過窓に高価なフィルタが不必要となる。 - 特許庁 - The light emitting device includes a light emitting element which emits light of which the peak wavelength is more than 440 nm and less than 480 nm; and three or more phosphors which emit light of a peak wavelength different to the light emitting device by irradiating light from the light emitting device, and emit the light of color mixture with luminescent color from the light emitting devices and luminescent color from the phosphor.
ピーク波長が４４０ｎｍ以上４８０ｎｍ未満である光を発光する発光素子と、発光素子からの光を照射することによって発光素子とは異なるピーク波長の光を発光する３つ以上の蛍光体と、を含み、発光素子からの発光色と蛍光体との発光色との混色の光を発光する発光装置である。 - 特許庁 - For example, the convergent electron beam 110 of a 20 kV accelerating voltage, a current amount of an electron beam 100 pA, and a 50 nm spot size, is scanned at a 400 nm/s scan speed to a scan direction 111 vertical to an extension direction of the carbon nanotube 103, and the state where the convergent electron beam 110 is irradiated on the local area of the carbon nanotube 103 is created.
例えば、加速電圧２０ｋＶ，電子線の電流量１００ｐＡ，スポットサイズ５０ｎｍの収束電子線１１０を、カーボンナノチューブ１０３の延在方向に対して垂直な走査方向１１１に、走査速度４００ｎｍ／ｓで走査し、カーボンナノチューブ１０３の局所領域に、収束電子線１１０が照射された状態とすればよい。 - 特許庁 - The liquid crystal display apparatus of a vertical alignment mode and a normally black mode is equipped with a pair of biaxial circularly polarizing films disposed on both sides of the liquid crystal cell, wherein each polarizing film shows retardation in the plane direction satisfying 125 nm≤Re≤155 nm and total retardation in the thickness direction satisfying |Rth(1)+Rth(2)|≥Rlc-130.
垂直配向モード・ノーマリーブラックモードの液晶表示装置であって、液晶セルの両側に、面内方向の位相差について、それぞれが１２５ｎｍ≦Ｒｅ≦１５５ｎｍを満たし、かつ厚み方向の位相差について、合計が│Ｒｔｈ（１）＋Ｒｔｈ（２）│≧Ｒｌｃ−１３０を満たす一対の二軸性の円偏光フィルムが配置された液晶表示装置である。 - 特許庁 - The light source s a fluorescent lamp 31, and Fbp-20≤Lbp≤Fbp+10 is satisfied wherein Lbp [nm] is a peak wavelength of the blue light emitted from the fluorescent lamp 31 and Fbp [nm] is a wavelength at which the transmittance for blue light of an optical member disposed between the fluorescent lamp 31 and a display screen of the color liquid crystal display panel is maximum.
この蛍光ランプ３１から発せられる青色光のピーク波長をＬｂｐ［ｎｍ］とし、蛍光ランプ３１からカラー液晶表示パネルの表示画面までの間に配された光学部材における青色光の透過率が最大となる波長をＦｂｐ［ｎｍ］としたときに、Ｆｂｐ−２０ ≦ Ｌｂｐ ≦ Ｆｂｐ+１０の関係を満たす。 - 特許庁 - Among light rays which transmit the color correction filter 30 and are made incident for the liquid crystal display panel 10, the light made incident in the vertical direction includes the same hue as the light from the light source 21 and the oblique incident light which is made incident in the oblique direction includes a hue having the maximum value in the wavelength region of 400 nm or more and less than 550 nm.
色補正フィルタ３０を透過して液晶表示パネル１０に対して入射する光のうち、垂直方向に入射する光は光源２１からの光と同じ色相を有し、斜め方向に入射する斜入射光は４００ｎｍ以上５５０ｎｍ未満の波長域に極大値をもつ色相を有している。 - 特許庁
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