「nm」を含む例文一覧(14378)
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所望の線径に加工した卑金属系ボンディングワイヤー表面に、１００ｎｍ以下の粒子径の貴金属粒子を含有する液状組成物を塗布した後加熱することによって１μｍ以下の膜厚の貴金属皮膜を形成する。 - 特許庁 - At the time of an exposure of the pattern of a reticle R, the reticle R is illuminated with exposure light IL1 consisting of pulsed light of a wavelength of 193 nm from an ArF excimer laser beam source 1 and the pattern of the reticle R is transferred on a wafer W via a projection optical system PL.
露光時にはＡｒＦエキシマレーザ光源１からの波長１９３ｎｍのパルス光よりなる露光光ＩＬ１でレチクルＲを照明し、レチクルＲのパターンを投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上に転写する。 - 特許庁 - To provide a method for dry processing a fine structure capable of uniformly drying a substrate having a fine pattern of not more than 30 nm and a large diameter of not less than 100 mm in a short period of time without causing the fall-down of the pattern.
本発明の目的は、３０ｎｍ以下の微細パターンを持ち、１００ｍｍ以上の大口径基板をパターン倒れ無く、短時間で均一に乾燥できる微細構造乾燥処理法及びその装置を提供することにある。 - 特許庁 - The plate making method for the flexographic printing plate is characterized in performing (5) surface processing for carrying out irradiation with ultraviolet rays of 200 to 300 nm in wavelength by 3.6 J/cm^2 after (1) back exposure, (2) main exposure, (3) development, and (4) drying.
１）裏露光、２）主露光、３）現像、４）乾燥の後に、５）波長２００〜３００ｎｍの紫外線を３．６Ｊ／ｃｍ^２以上照射する表面処理を行うことを特徴とするフレキソ印刷版の製版方法。 - 特許庁 - To provide a detection method of image containing infra-red ray absorbing pigment capable of enhancing absorption efficiency of infra-red rays (preferably near infra-red ray of 750-1,500 nm) of the image, and suppressing degradation of infrared absorption with age.
赤外線吸収色素を含有する画像の検出方法において、当該画像の赤外線（好ましくは７５０〜１５００ｎｍの近赤外線）の吸収効率を高め、経時での赤外吸収の劣化を抑制すること。 - 特許庁 - To provide a dense and highly-transparent brittle material film structure of the low leak current and the sub-micron order or nm order film thickness which is applicable to an optical waveguide device and a thin film capacitor element by using an inexpensive particle material for a raw material.
原料として安価な微粒子材料を用い、光導波路素子や薄膜キャパシター素子に適用可能な緻密で高透明、低リーク電流のサブミクロンオーダー、ナノメーターオーダー膜厚の脆性材料膜構造体を提供する。 - 特許庁 - In the plastic container with a thin film deposited on its surface, a thin film decorative layer (3) having a high refractive index for giving decorativeness is laminated by tens of nm or more on a surface of a plastic base material (2) of the plastic container (1).
表面に薄膜が形成されたプラスチック容器において、プラスチック容器（１）のプラスチック基材（２）表面に、加飾性を付与するための高屈折率を有する薄膜加飾層（３）を、数１０ｎｍ以上積層させる。 - 特許庁 - This is the high density electrode which is obtained by containing an electrode active material and a carbon fiber of diameter 1-1,000 nm, and of which the percentage of void is 25% or less, and into which a solid polyelectrolyte is impregnated, and this is the battery using this electrode.
電極活物質及び繊維径１〜１０００ｎｍの炭素繊維を含み、かつ空隙率が２５％以下である高密度電極に、高分子固体電解質が含浸してなる高密度電極、及びこの電極を用いた電池。 - 特許庁 - When this oxide film 43 is removed, the surface density of pits existing on the surface of the substrate 41 is becomes not more than the facial density of pits existing on the surface of the substrate 41 before the oxidizing treatment, and the depth of pits existing on the surface of the substrate 41 becomes 50 nm or smaller.
この酸化膜を除去すると、基板表面に存在するピットの面密度が前記酸化処理前の基板表面に存在する面密度以下となり、また基板表面に存在するピットの深さが５０ｎｍ以下となる。 - 特許庁 - Further, a buffer layer 20 of AlGaN having a thickness of about 300 nm is grown on the ion implanted surface of the Si substrate 10, and a GaN layer 30 being an objective semiconductor crystal and having a thickness of about 200 μm is grown on the buffer layer 20.
上記のＳｉ基板１０のイオン注入面上に、ＡｌＧａＮより成るバッファ層２０を約３００ｎｍ成長し、更にその上に、目的の半導体結晶である窒化ガリウム（ＧａＮ）層３０を約２００μｍ成長する。 - 特許庁 - The subject method for forming the metal-containing thin film comprises the application of an inkjet recording ink containing metal oxide fine particles having a primary particle diameter of ≤100 nm to a substrate by an inkjet printing method and the chemical modification of the metal oxide to form a thin film.
１次粒径が１００ｎｍ以下である金属酸化物微粒子を含むインクジェット用インクをインクジェット法により基板上に塗布した後、該金属酸化物を化学変化させて金属含有薄膜を形成する。 - 特許庁 - This organic dispersion is such one free from dispersion auxiliary, and comprise coated or non-coated titanium dioxide 10-100 nm in particle size before flocculated and a branched-chain-bearing organic compound acceptable in cosmetics.
また、或るレベルの二酸化チタンと関連する許容できない重たい感触、残留の着色およびその他の望ましくない性質を排除するとともに適当なSPF レベルを有する化粧用日焼け止め組成物を提供する。 - 特許庁 - Shore hardness (ASTM D 2240) at temperature of 10°C-40°C±3 is within a range of 20-80, a width or a diameter of projected, or recessed structure is 100 nm-5000 μm, aspect ratio of the projection, or the recess is within a range of 0.2-10.0.
温度１０℃〜４０℃±３におけるショア硬度（ＡＳＴＭ Ｄ ２２４０）が、２０〜８０の範囲であり、凸、又は凹構造の幅または直径が１００ｎｍ〜５０００μｍであり、前記凸、又は凹のアスペクト比が０．２〜１０．０の範囲である。 - 特許庁 - (1) The photosensitive resin laminate has at least a substrate, an adhesive layer and a photosensitive resin layer and the absorbance of the photosensitive resin layer of ≤0.3 at 400-600 nm.
少なくとも支持体、接着層および感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体であって、前記感光性樹脂層の４００ｎｍ〜６００ｎｍでの吸光度が０．３以下であることを特徴とする感光性樹脂積層体。 - 特許庁 - Since the particle size of the deposited noble metal is large (1-5 nm) and uniform and deposite state is more metal-like, the electron transfer between NO ad the noble metal is activated and the oxidation activity of NO is improved.
担持されている貴金属の粒径が１〜５nmと大きく均一であって、担持状態がより金属ライクであるため、NOと貴金属との間の電子授受がより活発化されることによってNOの酸化活性がさらに向上する。 - 特許庁 - The CMP process polishing liquid is used, which consists of abrasives (A), having a 1 to 95 nm volume mean particle size (D) and containing ≤10 particles of ≥0.56 μm in diameter per 1 ml, and water.
１ｎｍ以上９５ｎｍ以下の体積平均粒径（Ｄ）を有し、直径０．５６μｍ以上の粒子数が１ｍｌあたり１０万個以下である研磨材（Ａ）と水とからなることを特徴とするＣＭＰプロセス用研磨液を用いる。 - 特許庁 - The dielectric ceramic comprises a polycrystalline substance mainly consisting of oxides which at least comprises rare earth elements (Ln), Al, M (M denotes Ca and/or Sr), and Ti as metal elements, wherein a crystal grain boundary layer has a thickness of 20 nm or less.
金属元素として少なくとも希土類元素（Ｌｎ）、Ａｌ、Ｍ（ＭはＣａおよび／またはＳｒ）、及びＴｉを含有する酸化物を主成分とする多結晶体からなり、結晶粒界層の厚みを２０ｎｍ以下とする。 - 特許庁 - A substrate 101 composed of single crystal silicon and whose main surface is cleaned is prepared, and a BiFeO_3 crystal film 102 with a film thickness of about 200 nm composed of the crystals of BiFeO_3 is formed on the substrate 101.
単結晶シリコンからなり、主表面が清浄化された基板１０１を用意し、基板１０１の上に膜厚２００ｎｍ程度のＢｉＦｅＯ_3の結晶からなるＢｉＦｅＯ_3結晶膜１０２が形成された状態とする。 - 特許庁 - The method for manufacturing the polycarbonate optical retardation film having 40 to 350 nm retardation in the plane direction measured at 550 nm wavelength includes a process of forming a film to produce a film by flow casting a solution of a polycarbonate resin, a stretching process to stretch the produced film at least in one direction to obtain a stretched oriented film, and a heat treatment process to heat-treat the stretched film under low tensile condition.
また、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値が４０〜３５０ｎｍであるポリカーボネート系位相差フィルムの製造方法において、ポリカーボネート系樹脂の溶液を流延製膜して膜を作製する製膜工程と、作製された膜を少なくとも一方向に延伸して延伸フィルムを得る延伸工程と、前記延伸フィルムを低張力条件下で熱処理する熱処理工程とを含むことを特徴とするポリカーボネート系位相差フィルムの製造方法である。 - 特許庁 - The functional film containing at least a heat ray shielding layer 110 is characterized in that the heat ray shielding layer 110 contains the tungsten compound as a heat ray shielding agent and the heat ray shielding layer 110 or other layers 121, 122 contain ultraviolet absorbing agents having maximum absorbing wavelengths within a range from 315 to 420 nm and an ultraviolet absorbing agent b having the maximum absorbing wavelength within a range not higher than 310 nm.
熱線遮蔽層１１０を少なくとも含む機能性フィルムであって、前記熱線遮蔽層１１０は、熱線遮蔽剤としてタングステン化合物を含有し、前記熱線遮蔽層１１０又は別の層１２１，１２２が、３１５〜４２０ｎｍの範囲内に最大吸収波長を有する紫外線吸収剤ａ、及び３１０ｎｍ以下の範囲内に最大吸収波長を有する紫外線吸収剤ｂを含有することを特徴とする機能性フィルム。 - 特許庁 - And the fiber has an average reflectance of 60% or less in a wavelength range of 300 nm to 900 nm, and a saturated moisture absorptivity at 20°C in 65%RH of 15 wt.% or more and 50 wt.% or less.
染着座席となる官能基を有する重合体の領域と、これとは別の領域である架橋構造とカルボキシル基を有する重合体の領域の少なくとも２種類の領域を含み、前記染着座席となる官能基を有する重合体の領域が染料で染色されている繊維であって、かつ、波長３００ｎｍ〜９００ｎｍでの平均反射率が６０％以下であり、２０℃６５％ＲＨ下における飽和吸湿率が１５重量％以上５０重量％以下である保温性繊維。 - 特許庁 - In the gas-barrier film having at least one gas-barrier layer containing a silicon compound on a base material, the gas-barrier layer is formed by modifying a layer formed by applying and drying a silicon compound solution, the film thickness of a layer modified into a layer containing the silicon compound by the modification is 10-100 nm, and the maximum height difference Rpv on the surface of the modified layer is 30 nm or below.
基材上に珪素化合物を含有するガスバリア層を少なくとも１層有するガスバリアフィルムであって、前記ガスバリア層が珪素化合物溶液を塗布乾燥して形成された層を改質処理することにより形成され、改質処理により珪素酸化物を含む層へ改質された層の膜厚が１０〜１００ｎｍであり、かつ前記改質された層の表面の最大高低差Ｒｐｖが３０ｎｍ以下であることを特徴とするガスバリアフィルム。 - 特許庁 - Furthermore the zinc oxide-based particles satisfy R (1,000)/R(λmax)<0.8 when the reflectance at 1,000 nm wavelength obtained by the powder diffusion reflectance measurement is R (1,000) and the maximal reflectance at 380-780 nm wavelength is R(λmax).
別の酸化亜鉛系粒子は、３価および／または４価をとる金属元素（Ｍｄ）とＺｎとを金属成分としＸ線回折学的に酸化亜鉛結晶性を示す酸化亜鉛系粒子において、ＭｄをＺｎに対し０．１〜２０原子％含有し、粉末拡散反射率測定によって得られた波長１０００ｎｍでの反射率をＲ（１０００）とし、波長３８０〜７８０ｎｍでの最大反射率をＲ（λ_max）としたとき、Ｒ（１０００）／Ｒ（λ_max）＜０．８を満足することを特徴とする。 - 特許庁 - The hard coat layer exhibits 40% or over of haze and 0.10 μm or less surface roughness Ra (average roughness on the middle line), and average refraction rate value of 65% or over in 5° mirror reflectance to an average value of integrated reflection rate in a range of 450 nm to 650 nm wave length.
透明支持体上に、少なくとも一層のハードコート層と最外層に位置する低屈折率層とを有する反射防止フィルムであって、ハードコート層のヘイズが４０％以上であり、反射防止フィルムの表面粗さＲａ（中心線平均粗さ）が０．１０μｍ以下であり、且つ４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域における積分反射率の平均値に対する５度鏡面反射率の平均値が６５％以上であることを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁 - In the laminated electrophotographic photoreceptor having a charge generating layer and a charge transfer layer successively formed directly on a conductive supporting body or formed with an intermediate layer interposed, the electrophotographic photoreceptor is irradiated with semiconductor laser light having 400 to 450 nm wavelength as the addressing light, and the charge transfer layer contains at least a polymer type charge transfer material and transmits monochromatic light in 390 to 460 nm wavelength region.
導電性支持体上に直接または中間層を介して電荷発生層、電荷輸送層を順次設けた積層型電子写真感光体において、該電子写真感光体が書込光として４００〜４５０ｎｍの波長を有する半導体レーザー光を照射され、且つ該電荷輸送層が少なくとも高分子型電荷輸送材料を含有し、且つ３９０〜４６０ｎｍ波長領域の単色光を透過することを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁 - A fragile layer is formed in a region located at the depth under 1,000 nm from the one front surface of a single crystal semiconductor substrate and a first impurity semiconductor layer, a first electrode, and an insulating layer are formed in the side of the one front surface of the single crystal semiconductor substrate.
単結晶半導体基板の一表面から１０００ｎｍ未満の深さの領域に脆化層を形成し、且つ単結晶半導体基板の一表面側に第１不純物半導体層、第１電極、絶縁層を形成する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing process of an imprint roll for a double-width roll type nanoimprint apparatus for manufacturing, in the state enlarged to much larger area than an original edition, a structure having a minute pattern below the wave length (380 nm) of a visible light.
可視光の波長（３８０ｎｍ）以下の微小パタンを有する構造体を、原版よりもはるかに大面積に拡大されている状態で製造する、広幅のロール式ナノインプリント装置用のインプリントロールの製造方法を提供する。 - 特許庁 - This substrate for a display device contains at least either particles wherein a number mean particle diameter (D_50) is ≤200 nm or an inorganic layer-shaped compound whose average aspect ratio is ≥20, which is needed by ≥0.05% mass, and resin.
数平均粒径（Ｄ_５０）が２００ｎｍ以下の微粒子、及び、平均アスペクト比が２０以上の無機層状化合物の少なくともいずれかを０．０５質量％以上と、樹脂とを含有することを特徴とする表示装置用基板である。 - 特許庁 - By reducing electric current supplied to a red sub-pixel, and as the case may be, by limiting transmission of light with wavelength 630 nm or more by filtering using material selection or optical thin film coating, the OLED display can be applied as an interchange with an NVIS (night vision image system).
赤サブピクセルに供給される電流を減少させ、場合により資材選択または光学薄膜コーティングを用いたフィルタリングによって６３０nmより上の光の透過を制限することで、OLEDディスプレイをNVISとの互換に対応させることができる。 - 特許庁 - This UV curable hard coat material comprises 100 pts.wt. of multifunctional (meth)acrylate of 100 pts.wt., 3-50 pts.wt. of organic fine particles having a mean primary particle size of 80-500 nm and a nonionic silicone leveling agent containing a polyalkylene oxide as a hydrophilic group.
多官能（メタ）アクリレート１００重量部に対して、平均一次粒子径が８０〜５００ｎｍである有機微粒子を３〜５０重量部配合し、かつ、親水基がポリアルキレンオキサイドから構成される非イオン系のシリコーン系のレベリング剤を配合する。 - 特許庁 - Any one of the electrodes 14, 16, for example, the anode side electrode 14 includes particles 28 (for example, Pt particles and SDC particles) with the particle size of 100 nm or less mutually bonded, and the thickness is established to be 1 μm or less.
電極１４、１６の中のいずれか一方、例えば、アノード側電極１４は、粒径が１００ｎｍ以下である粒子２８（例えば、Ｐｔ粒子及びＳＤＣ粒子）が互いに結合して構成されるとともに、厚みが１μｍ以下に設定される。 - 特許庁 - This method for forming the cured coated film comprises applying an ultraviolet light-curing type coating agent containing a photopolymerizable resin, photopolymerization initiator and photo-stabilizing agent as essential components on a base material, and then irradiating the ultraviolet light having <290 nm wave length thereto.
光重合性樹脂と、光重合開始剤と、光安定剤とを必須成分として含有する紫外線硬化型コーティング剤を基材に塗布後、２９０ｎｍ未満の波長の紫外線を照射して、硬化塗膜を形成する方法。 - 特許庁 - When the recording layer 4 is irradiated with the laser beam having the wavelength λ of ≤500 nm from the protective layer 5 side to record a recording mark, light reflectance of the recording mark is made lower than that of an unrecorded part which is not irradiated with the laser beam.
そして、この保護層５側から波長λが５００ｎｍ以下のレーザ光を記録層４に照射して記録マークを記録する際、記録マークの光反射率は、レーザ光を照射しない未記録部分よりも低くなるようにする。 - 特許庁 - The water dispersion body of resin-coated titanium oxide is configured by hydrophobicizing the surface of titanium oxide having the primary particle size of 100-300 nm, coating with a resin, and dispersing in water, the resin-coated titanium oxide having a resin coverage of ≥100 mass%.
１次粒子径１００〜３００ｎｍの酸化チタンの表面を疎水化処理した後、樹脂で被覆し、その樹脂被覆率を１００質量％以上とした樹脂被覆酸化チタンを水中に分散させてなる樹脂被覆酸化チタン水分散体。 - 特許庁 - The core-shell structure comprises a core portion mainly composed of a first metal oxide, and a shell portion mainly composed of a second metal oxide different from the first metal oxide, and the thickness of the shell portion is 20 nm or less.
第１の金属酸化物を主成分とするコア部と、該第１の金属酸化物とは異なる第２の金属酸化物を主成分とするシェル部とからなり、該シェル部の厚さが２０ｎｍ以下であることを特徴とする、コアシェル構造体が提供される。 - 特許庁 - The patterning employing the photolithography technique is capable of controlling the fine processing of less than 1 μm (in the degree of several 10 nm even at minimum) with a high accuracy whereby the remarkably fine dam can be formed stably compared with same dam formed through solder plating method.
フォトリソグラフィ技術を用いたパターン加工は、１μｍ以下（最小でも数十ｎｍ程度）の微細加工を高精度に制御可能であるため、はんだめっき法に比べて著しく微細なダムを安定して形成することが可能となる。 - 特許庁 - The conductive polymer material has at least one layer of an ultraviolet-ray absorption layer in which the transmittance of the light of a wavelength of 410 nm is 40% or lower on a support body, and a conductive polymer is contained in either of the layers on the support body.
本発明の導電性ポリマー材料は、支持体上に、波長４１０ｎｍの光に対する透過率が４０％以下である少なくとも一層の紫外線吸収層を有し、支持体上のいずれかの層に導電性ポリマーを含有する。 - 特許庁 - In the multilayer interference filter 15, the total of thicknesses of layers 156 and 157 sandwiched between λ/4 multilayer films (a laminate of layers 151 to 153 and a laminate of layers 158 to 160) is set to 91 [nm] in the boundary regions D and E.
多層干渉フィルタ１５では、境界領域Ｄ、Ｅにおいて、λ／４多層膜（層１５１〜１５３の積層体および層１５８〜１６０の積層体）で挟まれる層１５６、１５７の膜厚が、合計で９１［ｎｍ］に設定されている。 - 特許庁 - This piezoelectric element is formed of the piezoelectric composition pressure-sensitive body 1, made by mixing the piezoelectric ceramic powder 3 with the organic polymer 4 having flexibility, the ceramic powder 3, having a mean particle size larger than 2 μm and minute domains equal to or smaller than 50 nm.
平均粒子径が２μｍより大きく５０ｎｍ以下の微細ドメインを有する圧電セラミックス粉末３と、可撓性を有する有機高分子４とを混合してなる圧電組成物感圧体１で構成することにより圧電素子を構成する。 - 特許庁 - Preferably, in this magnetic abrasive grain 1, the average particle diameter of the resin particle is ≤100 μm, the average particle diameter of the abrasive grains is ≤100 nm, and the magnetic layer 3 is an electroless composite plating layer containing diamond particles.
この磁性砥粒１は、樹脂粒子の平均粒径が１００μｍ以下であり、研磨粒子４の平均粒径が１００ｎｍ以下であることが好ましく、また、磁性層３がダイヤモンド粒子を含む無電解分散めっき層であることが好ましい。 - 特許庁 - The light wavelength irradiated from the blue LED 13 is preferably in the range of 465-470 nm, and the energy density of the total light irradiated from the blue LED 13 to the skin is preferably in the range of 5-25 mW/cm^2.
青色ＬＥＤ１３から照射される光の波長は、４６５〜４７０ｎｍの範囲であることが好ましく、青色ＬＥＤ１３から照射される光の合計の皮膚におけるエネルギー密度は、５〜２５ｍＷ／ｃｍ^２の範囲であることが好ましい。 - 特許庁 - The polarizing plate with the thin polarizing layer 5 is manufactured by subjecting a surface of a transparent substrate 1 to rubbing treatment, subsequently applying the aqueous solution containing the tablar pigment to the rubbing treated surface, drying and forming the polarizing layer 5 with 20-1,500 nm thickness.
透明基板１の表面をラビング処理し、次いでそのラビング処理面に平板状色素を含有する水溶液を塗布し、乾燥して、厚みが２０〜１,５００nmである偏光層５を形成し、かかる薄肉の偏光層５を有する偏光板とする。 - 特許庁 - The transparent electric conductive layer is made by applying an organic system solvent on a transparent board, and before the organic system solvent dries, by applying the solution for transparent electric conductive layer formation containing the precious-metal particles of 1 to 100 nm of average particle diameter, and by drying it up.
透明基板上に有機系溶媒を塗布し、その有機系溶媒が乾燥する前に、平均粒径１〜１００ｎｍの貴金属微粒子を含む透明導電層形成用塗液を塗布し、乾燥して透明導電層を形成する。 - 特許庁 - The emulsified cosmetic includes an oily agent, the phospholipid, a carboxyvinyl polymer, and xanthan gum and/or sodium carboxymethyldextran, and has a viscosity of 100-300 mPa s at 25°C, a pH of 6.0-7.0 and an emulsified particle size of 100-300 nm.
油剤と、リン脂質と、カルボキシビニルポリマーと、キサンタンガム及び／又はカルボキシメチルデキストランナトリウムとを含有し、２５℃における粘度が１００〜３００ｍＰａ・ｓであり、ｐＨが６．０〜７．０であって、乳化粒子径が１００〜３００ｎｍである乳化化粧料。 - 特許庁 - The winding layer 3 consist of n-order fiber bundles formed by producing first-order fiber bundles by bundling a plurality of monofilaments with equivalent diameter of 1 to 1,000 nm while entwining the monofilaments and further bundling the first-order fiber bundles n times (n is an integer of 2 or higher) in all.
巻回体層３は、相当直径１〜１０００ｎｍの単繊維を複数本、撚りをかけて集束して１次繊維束とし、この１次繊維束をさらに通算ｎ回（ｎは２以上の整数）集束してｎ次繊維束としたものである。 - 特許庁 - For example, the film thickness of the semiconductor layer is set to 100 nm and the impurity concentration is set higher than 2×10^17 [cm^-3], thereby making the standard deviation of variation in threshold voltage smaller than the variation in power supply voltage.
例えば、半導体層の膜厚を１００ｎｍにすると共に不純物濃度２×１０^１７[ｃｍ^−３]より高くすることによって、しきい値のばらつきの標準偏差が電源電圧のばらつきよりも小さくすることができる。 - 特許庁 - This method for cultivating a plant is characterized by that the plant in growth is irradiated with artificial light comprising blue light having the maximum value of output wavelength of 400-500 nm and a photon flux density of ≥10 μ mol/m2/s.
生育中の植物に対し、出力波長が４００〜５００ｎｍに最大値を有し、かつ、光量子束密度が１０μmol/ｍ^2/ｓ以上である青色光からなる人工光を照射することを特徴とする植物栽培方法。 - 特許庁 - Related to the crystal growth suppressing layer 22, by suppressing crystal growth of a layer formed over it, an average in-plane particle size of the ferromagnetic inside layer 26a comes to be 3-8 nm, resulting in flattened interface of the coupling layer 26b.
結晶成長抑制層２２は、その上に形成される層の結晶成長を抑制することにより、強磁性内側層２６ａの平均面内粒径を３ｎｍ〜８ｎｍとし、これにより結合層２６ｂの界面を平坦化するようになっている。 - 特許庁 - A substrate 1 with a transparent conductive oxide film has a double texture structure with a small crest 4 of 250 to 500 nm high, and a surface coating ratio of the small crest 4 on the substrate 1 is between 10% to 50%.
ダブルテクスチャ構造を有し、小山部４の高さが２５０〜５００ｎｍであり、基体１上における前記小山部４の表面被覆率が１０％以上５０％以下であることを特徴とする透明導電性酸化物膜付き基体１。 - 特許庁 - The resin molding with a multifunction of high strength, high heat resistance and the like is obtained by kneading the molding powder with an acrylic resin liquid containing uniformly dispersed ultrafine grains of 10 nm class such as SiO2 or Al2O3 and molding/hardening the mixture.
被成形粉末に、１０ｎｍクラスのＳｉＯ_2、Ａｌ_2Ｏ_3などの超微粒子を均一分散させたアクリル系樹脂液を混練してこれを成形、固化することで高強度、高耐熱性など多機能化した樹脂成形体を得ることができる。 - 特許庁
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