「nm」を含む例文一覧(14378)

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  • The pneumatic tire contains a rubber composition for clinches containing 0.1 to 10 mass part of zinc oxide particles of 200 nm or less in mean particle diameter with respect to the rubber component of 100 mass part containing 30 to 90 mass% of natural rubber and 10 to 70 mass% of epoxidized natural rubber; and clinch rubber composed of the rubber composition.
    天然ゴム３０〜９０質量％およびエポキシ化天然ゴム１０〜７０質量％を含むゴム成分１００質量部に対して、平均粒径が２００ｎｍ以下の酸化亜鉛粒子を０．１〜１０質量部含有するクリンチ用ゴム組成物、および当該ゴム組成物からなるクリンチゴムを備える空気入りタイヤである。 - 特許庁
  • The heat-conductive sheet 1 comprising plate-like boron nitride particles 2 has a coefficient of thermoconductivity of ≥4 W/m K in the plane direction SD of the heat-conductive sheet 1, and a surface reflectance R to light of wavelength 500 nm of ≥70% on the condition that the surface reflectance of barium sulfate is 100%.
    板状の窒化ホウ素粒子２を含有する熱伝導性シート１であって、熱伝導性シート１の面方向ＳＤの熱伝導率が、４Ｗ／ｍ・Ｋ以上であり、５００ｎｍの光に対する表面反射率Ｒが、硫酸バリウムの表面反射率を１００％としたときの、７０％以上である。 - 特許庁
  • In the plated steel sheet for the positive electrode can of the alkali manganese battery, an Fe-Ni diffusion plated layer or an Fe-Ni diffusion plated layer and an Ni plated layer are deposited on the side to be used as the inside face of the can, and the thickness of an oxidation film in the oustermost surface layer is 50 to 1,000 nm.
    本発明の要旨は、アルカリマンガン電池正極缶用のメッキ鋼板であって、缶内面になる面にＦｅ−Ｎｉ拡散メッキ層、またはＦｅ−Ｎｉ拡散メッキ層とＮｉメッキ層が形成され、その最表層の酸化膜厚みが、５０〜１０００ｎｍであることを特徴とするものである。 - 特許庁
  • The optical information recording medium which enables information to be recorded thereon and to be reproduced therefrom, by irradiation with a laser beam and in which at least pre-pits 10 and pregrooves 20 are formed is characterized in that the laser has ≤600 nm wavelength, and the width of the pre-pit 10 is larger than the width of the pregroove 20.
    レーザの照射により情報の記録再生が可能であり、少なくとも、プリピット１０およびプリグルーブ２０が設けられてなる光情報記録媒体であって、レーザの波長が６００ｎｍ以下であり、プリピット１０の幅が、プリグルーブ２０の幅より大きいことを特徴とする光情報記録媒体である。 - 特許庁
  • The biodegradable matting film material contains a biodegradable resin as a main component, and has a thickness of 10-50 μm, a transmittance of a visible light ray having a wavelength range of 400-700 nm of 10% or more, a surface state of a matting pattern and a tensile elastic modulus of 1.2 GPa or more.
    本発明の生分解性樹脂艶消しフィルム材料は、生分解性樹脂を主成分とする厚み１０〜５０μｍのフィルムであって、４００〜７００ｎｍの波長範囲の可視光線の透過率が１０％以上で、表面状態が艶消し模様であり、引張弾性率が１．２ＧＰａ以上である事を特徴とする - 特許庁
  • The thermoplastic resin film is obtained by a molten film forming method, comprises a film comprising a heat resistant copolymer (A) having a glutaric anhydride unit and a gum-containing polymer (B), and has a film thickness of 5-250 μm, a haze value of 1.0% or less and a surface roughness SRa of 40 nm or less.
    溶融製膜法により得られる熱可塑性樹脂フィルムであって、グルタル酸無水物単位を有する耐熱性共重合体（Ａ）と、ゴム質含有重合体（Ｂ）からなるフィルムであり、フィルム厚みが５〜２５０μｍ、ヘイズ値が１．０％以下、表面粗さＳＲａが４０ｎｍ以下である熱可塑性樹脂フィルムとする。 - 特許庁
  • A filter for the plasma display, which contains at least one kind of near infrared ray absorbing compound in a base material, has average light beam transmittance equal to or less than 10% in 800-900 nm range and further concurrently uses at least one kind of pigment having absorption in a visible ray region for color tone correction, is arranged in front of the plasma display.
    基材中に、近赤外線吸収化合物を少なくとも１種含有し、８００〜９００ｎｍの平均光線透過率が１０％以下であるフィルターに、更に可視領域に吸収を持つ色素を少なくとも１種併用させて色調補正したプラズマディスプレー用フィルターをプラズマディスプレー前面に設置する。 - 特許庁
  • An optical modulator 15 is used, which uses quantum confinement Stark effect of the multi-quantum well of a semiconductor and is characterized by λS-λPL<60 nm, where λS is the wavelength of light which is superposed on a signal, and λPL is the wavelength corresponding to the energy difference between quantum levels of electrons and positive holes of the multi-quantum well.
    半導体の多重量子井戸における量子閉じ込めスタルク効果を利用した光変調器１５を用い、信号を乗せる光の波長をλ_S、多重量子井戸の電子と正孔の量子準位間のエネルギー差に相当する波長をλ_PLとしたとき、λ_S−λ_PL＜６０ｎｍであることを特徴とする。 - 特許庁
  • The electrophotographic photoreceptor having a surface layer containing a charge transport material of a molecular weight 550 to 2,000 on a conductive base is characterized in that the surface layer of the electrophotographic photoreceptor contains domains to lower the surface energy of a number average grain size 1 to 100 nm.
    導電性基体上に分子量５５０〜２０００の電荷輸送物質を含有する表面層を有する電子写真感光体において、該電子写真感光体の表面層が、数平均粒径１〜１００ｎｍの表面エネルギーを低下させるドメインを含有することを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁
  • The glass plate with the transparent electric conducting membrane includes a soda lime glass plate 1 and the transparent electric conducting membrane 2 consisting essentially of the tin oxide and directly formed on the glass plate, the thickness of the transparent electric conducting membrane 2 is ≥ 800 nm, a surface resistance value is ≤ 13 Ω/ square and also the adhesive force is ≥ 90mN.
    ソーダライムガラス板１とこのガラス板上に直接形成された酸化錫を主成分とする透明導電膜２とを含み、この透明導電膜２の膜厚が８００ｎｍ以上であり、表面抵抗値が１３Ω／□以下であり、かつ付着力が９０ｍＮ以上である透明導電膜付きガラス板とする。 - 特許庁
  • This inorganic function-imparting agent is characterized by comprising an inorganic compound whose surface is coated with one or more compounds selected from the group consisting of silicon-containing compounds, aromatic group-containing compounds, and polymers, and having an average particle diameter of 1 to 1,000 nm and a halogen content of ≤1,000 ppm.
    珪素含有化合物、芳香族基を含有する化合物、および重合体から選ばれる１種以上の化合物で表面被覆された無機系化合物からなり、平均粒子径が１ｎｍ以上１０００ｎｍ未満であり、ハロゲン含有量が１０００ｐｐｍ以下であることを特徴とする無機機能付与剤。 - 特許庁
  • To provide a radiation-sensitive resin composition which is adaptable to the formation of a fine resist pattern using a light source of a short wavelength up to 90 nm, excels in resolution, ensures small LWR and good PEB temperature dependency, excels in pattern collapse resistance and hardness to cause defect, and is suitably used even in an immersion exposure step.
    ９０ｎｍ以下の短波長の光源を用いた微細なレジストパターンの形成に対応することができ、解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、ＰＥＢ温度依存性が良好で、パターン倒れ耐性および欠陥性能に優れ、液浸露光工程においても好適に用いられる。 - 特許庁
  • The precursory coating soln. is applied on the surface of a substrate to form a film, thereafter, the thin film is irradiated with ultraviolet light of ≤360 nm wavelength, and the irradiating energy density of the ultraviolet light is controlled, by which the thin film is optionally crystallized to any of anatase, a mixed form of anatase and rutile, and rutile.
    前駆体塗布液を基板の表面に塗布して成膜した後、薄膜に対し波長が３６０ｎｍ以下である紫外光を照射し、その紫外光の照射エネルギー密度を調節することにより薄膜をアナタース、アナタースとルチルとの混合形およびルチルのうちのいずれかに任意に結晶化させる。 - 特許庁
  • The CMP polishing solution contains composite particles having second inorganic abrasive grains deposited at least partially on surfaces of first inorganic abrasive grains, wherein an average secondary particle size of the composite particles is 20 to 800 nm and a mass ratio of the first inorganic abrasive grains to the second inorganic abrasive grains is 1/10 to 10/1.
    第１の無機砥粒の表面の少なくとも一部に第２の無機砥粒が付着した複合粒子を含有してなるＣＭＰ研磨液であって、複合粒子の平均二次粒子径は２０〜８００ｎｍであり、第１の無機砥粒の第２の無機砥粒に対する質量比が１／１０〜１０／１であるＣＭＰ研磨液。 - 特許庁
  • The phosphor has a plurality of wavelength conversion elements containing an yellow phosphor and a band interruption filter, the emitted light from the LED elements becomes white light based on blue light and yellow light, and the spectrum of the emitted light is formed so as to cause its light-emitting intensity at a wavelength band of 480-520 nm to substantially become zero.
    蛍光体は、黄色蛍光体を含む複数の波長変換素子と帯域阻止フィルタとを有し、その出射光が青色光と黄色光による白色光を成す共に、その分光スペクトルが４８０〜５２０ｎｍの波長帯で発光強度が実質的にゼロとなるように形成される。 - 特許庁
  • The process of injection molding, extrusion molding or stretching is applied to a resin composition containing a double refractive crystal which has the major diameter smaller than the wavelength of light used in the optical element and larger than 10 nm and has the aspect ratio of the major diameter to the minor diameter vertical thereto of ≥1:1.1 and optical resin .
    射出成形、押出成形あるいは延伸の工程が、光学素子に使用する光の波長よりも小さく１０ｎｍよりも大きな長径を有し、同長径とそれに垂直な短径のアスペクト比が１：１．１以上である複屈折性結晶と、光学樹脂とを含む樹脂組成物に対して適用される。 - 特許庁
  • To provide a crystallizable polymer microporous membrane that has a minute pore diameter, can efficiently catch fine particles of tens of nm size and has a high flux, to provide a method for manufacturing the crystallizable polymer microporous membrane that can consistently withstand stretching at a high magnification and to provide a filtration filter that has high resistance to pleat collapse.
    微小な孔径を有し、数十ｎｍサイズの微粒子を効率良く捕捉することができ、高流量である結晶性ポリマー微孔性膜、及び高倍率での延伸にも安定して耐え得る結晶性ポリマー微孔性膜の製造方法、並びにプリーツ耐性の高い濾過用フィルタの提供。 - 特許庁
  • The catalyst for producing dimethyl ether comprises primarily alumina, has Si content of 0.1 mass% to 10 mass% and Na content of 0.1 mass% or less, respectively expressed in terms of oxide, and has cumulative volume (V_100) of micro pore having radius 100 nm to 100 μm of 0.05 cm^3/g or more.
    本発明の触媒は、主成分がアルミナであり、酸化物換算で、Ｓｉ含有量が０．１質量％〜１０質量％、Ｎａ含有量が０．１質量％以下であり、半径１００ｎｍ〜１００μｍの細孔の累積容積(Ｖ_100)が０．０５ｃｍ^3／ｇ以上であることを特徴とする。 - 特許庁
  • In the formula, the reflection factor (%) is a reflection factor at the wavelength of 550 nm, the solid content ratio is represented by formula; solid content ratio (%)=100-porosity (%), and porosity (%)=(ρ0-ρ)/ρ0×100, (ρ0: theoretical density from the total of the polyolefine and the inactive fine particles, ρ: apparent density of the porous membrane).
    Ｒ＝反射率／固形分率（１）（ここで、反射率（％）は波長５５０ｎｍにおける反射率であり、固形分率（％）＝１００−空孔率（％）であり、空孔率（％）＝（ρ０−ρ）／ρ０×１００ρ０：前記ポリオレフィンと前記不活性微粒子との合計量より求められる多孔膜の理論密度ρ：見掛けの多孔膜の密度） - 特許庁
  • A metal is patterned on a substrate and vapor-deposited to form a gate electrode 12, and then the gate electrode 12 is directly oxidized at a normal temperature to 100°C in O_2 plasma process to grow a metal oxide film having a thickness of 10 nm or less, thereby the gate insulating film 13 is formed along the surface of the gate electrode.
    基板上に金属をパターニングし、蒸着してゲート電極１２を形成した後、常温乃至100℃以下でO_2プラズマ工程によりゲート電極１２を直接酸化して10nm以下の厚みで金属酸化膜を成長させることで、ゲート電極の表面に沿ってゲート絶縁膜１３を形成する。 - 特許庁
  • The biaxially oriented polyester film has a sea-island structure composed of at least a polyethylene naphthalate (resin A) and a resin B, wherein the average dispersion diameter of the island portion is 30 to 500 nm, and the thermal expansion coefficient (50 to 150°C) at least in one direction of the longitudinal direction and the width direction of the film is 0 to 20 ppm/°C.
    本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、少なくともポリエチレンナフタレート（樹脂Ａ）と樹脂Ｂからなる海島構造を有し、島部分の平均分散径が３０〜５００ｎｍであり、フィルムの長手方向または幅方向の少なくとも一方向の熱膨張係数（５０〜１５０℃）が０〜２0ｐｐｍ／℃のフィルムである。 - 特許庁
  • When the aqueous solution or thin solution film of a water-soluble DNA (for example, a DNA originating from the spermary of salmon) on a support or the thin film of a water-soluble DNA on a support is irradiated with ultraviolet light having wavelengths in the range of 250 to 270 nm, the DNA is changed into the water-insoluble cross-linked product immobilized on the support.
    支持体上の水溶性ＤＮＡ（例えば、サケの精巣由来のＤＮＡ）の水溶液もしくはその液膜、又は支持体上の水溶性ＤＮＡの薄膜液波長が２５０〜２７０ｎｍの範囲の紫外線を照射すると、該ＤＮＡは支持体上に固定された水に不溶性の架橋体に変化する。 - 特許庁
  • To provide a high-quality optical recording medium which realizes recording without any noise increases when information is recorded, and stable reproduction, as an optical recording medium on which information is recorded/reproduced by making incident the semiconductor laser light of a waveform 380 to 430 nm from a thin light transmissive layer side.
    波長３８０〜４３０ｎｍの半導体レーザ光を薄い光透過層側から入射して情報の記録再生を行う光記録媒体において、情報を記録する際にノイズが上昇することなく記録することができ、かつ安定に再生できる高品質な光記録媒体を提供する。 - 特許庁
  • The gas barrier film comprises the base material film having a smooth surface including a mean surface roughness SRa measured in an area of 200 μm×200 μm or more of 20 nm or less on one or both side surfaces, and a gas barrier layer made of an inorganic compound formed on the smooth surface of the base material film.
    ２００μｍ×２００μｍ以上の面積について測定された平均面粗さSRａが２０ｎｍ以下である平滑表面を片面または両面に有する基材フィルムと、該基材フィルムの平滑表面に形成された無機化合物からなるガスバリアー層とからなることを特徴とするガスバリアーフィルム。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive composition using a new photoinitiation system, having high sensitivity to a wavelength of 350-450 nm and excellent in storage stability, and a lithographic printing original plate for a CTP system obtained by disposing such a photosensitive composition on a support and excellent in work efficiency, economical efficiency, and storage stability.
    ３５０〜４５０ｎｍの波長に対し高感度で保存安定性に優れた新規な光開始系を用いた感光性組成物、およびこのような感光性組成物を支持体上に設けた、作業性、経済性、保存安定性に優れたＣＴＰシステム用の平版印刷版原版を提供する。 - 特許庁
  • A semiconductor film as a thin-film having a film thickness of ≤500 nm formed on a substrate functioning as a supporter is crystallized by a laser beam in continuous oscillation, and the chip with a semiconductor element as the thin-film of the total film thickness of 5μm, more desirably ≤2μm is formed by using the crystallized semiconductor film.
    本発明では、支持体として機能する基板上に成膜した膜厚５００ｎｍ以下の薄膜の半導体膜を、連続発振のレーザ光で結晶化し、その結晶化された半導体膜を用いて、トータルの膜厚５μｍ、より望ましくは２μm以下の薄膜の半導体素子を有するチップを形成する。 - 特許庁
  • In the method for manufacturing the low reflective substrate, by specifying film-forming rate of the silicon dioxide film to 20 to 100 nm/h in the process of forming a silicon dioxide film by the method of supersaturation precipitation, so as to control the fluorine content in the silicon dioxide film and to form an antireflection film having ≤1.435 of refractive index.
    過飽和析出法による二酸化珪素被膜の形成に当たり、二酸化珪素被膜の成膜速度を２０〜１００ｎｍ／時とすることにより該二酸化珪素被膜中の弗素含有量を調整し、屈折率１．４３５以下の反射防止層を形成する低反射基板の製造方法。 - 特許庁
  • At the time of manufacturing the solid-state image pickup element by successively laminating at least a photoreceptor element 11, flattening layer 13, primary color-based color filter, transparent resin layer 18, and microlens 19 upon a semiconductor substrate 10; a layer having a transmittance of ≤40% to light having a wavelength of 365 nm is used as the flattening layer 13.
    半導体基板１０上に、少なくとも受光素子１１、平坦化層１３、原色系カラーフィルタ、透明樹脂層１８、マイクロレンズ１９を順次に積層して固体撮像素子を製造する際に、平坦化層として、光の波長３６５ｎｍでの透過率が４０％以下の平坦化層を用いること。 - 特許庁
  • Titanium oxide sol containing a transition metal compound is manufactured, wherein the content of a precipitated component is <10 mass% of the total solid content of the sol, transmittance at a wavelength of 550 nm, as measured by use of a cell having an optical path length of 2 mm is ≥50% when the solvent is water and a solid content is 1 mass%.
    沈降成分量が全固形分量の１０質量％未満であり、水を溶媒として固形分濃度を１質量％としたときに、光路長２ｍｍのセルで測定された波長５５０ｎｍにおける透過率が５０％以上となる、遷移金属化合物を含む酸化チタンゾルを製造する。 - 特許庁
  • The coating film 20 and the hole injection layer 4 are tungsten oxide layers having a thickness of 2 nm or more deposited under certain deposition conditions and, in the electron state thereof, an occupied level is made to exist in a range of bond energy which is 1.8-3.6 eV lower than the lowest bond energy in the valence band.
    被覆膜２０及びホール注入層４は所定の成膜条件で成膜した膜厚２ｎｍ以上の酸化タングステン層とし、かつ、その電子状態において、価電子帯で最も低い結合エネルギーよりも１．８〜３．６ｅＶ低い結合エネルギーの範囲内に占有準位を存在させる。 - 特許庁
  • The residual agricultural chemical detection method of irradiating an agricultural product by light, and detecting a residual agricultural chemical by light irradiation has characteristics wherein the wavelength of the light is 240-400 nm, and the agricultural product is not broken.
    光を農産物に照射し、光の照射を受けて農薬が残留していることを検出する残留農薬検出方法であって、前記光の波長が２４０〜４００ｎｍであることを特徴とする残留農薬検出方法であって、農産物を破壊しないことを特徴とする残留農薬検出方法。 - 特許庁
  • The metal oxide fine particle dispersion material is prepared by dispersing at least metal oxide fine particles and a strong acid in an aqueous solution containing an alcohol, wherein the metal oxide fine particle dispersion material shows the transmittance for rays at a wavelength of 800 nm of not less than 90% or more.
    少なくとも金属酸化物微粒子と、強酸とを、アルコールを含む水溶液中で分散させてなる金属酸化物微粒子分散物であって、前記金属酸化物微粒子分散物における波長８００ｎｍでの光線透過率が９０％以上である金属酸化物微粒子分散物である。 - 特許庁
  • The molding for optical system made of a resin composition which comprises a compound having at least one epoxy group and/or glycidyl group has surface roughness of 50 nm or less and has linear expansion coefficient of 40 ppm or less in a temperature region of the glass transition temperature.
    エポキシ基及び／又はグリシジル基を少なくとも１つ以上有する化合物を含有してなる樹脂組成物から形成された光学系用成形体であって、該光学系用成形体は、表面粗度が５０ｎｍ以下でかつガラス転移温度以下の温度領域での線膨張係数が４０ｐｐｍ以下である光学系用成形体。 - 特許庁
  • The phosphor for the light emitting device is a blue phosphor which essentially comprises a Ce- and Na-activated thiogallate phosphor substantially represented by the formula: BaGa_2S_4:Ce, Na and emits a blue light when excited by an ultraviolet radiation (particularly a near-ultraviolet ray at a wavelength of 370-410 nm).
    本発明の発光装置用蛍光体は、化学式：ＢａＧａ_２Ｓ_４：Ｃｅ，Ｎａで実質的に表されるＣｅおよびＮａで付活されたチオガレート蛍光体を主体とし、紫外線（特に波長３７０〜４１０ｎｍの近紫外線）の放射により励起されて青色光を発光する青色蛍光体である。 - 特許庁
  • The method for manufacturing the heat insulating material includes: a curing step where a dry press molded body that includes fine metal oxide particles having an average particle diameter of ≤50 nm and reinforcing fibers is cured in a steam saturated atmosphere under pressure at a temperature of ≥100°C; and a drying step where the cured dry press molded body is dried.
    本発明に係る断熱材の製造方法は、平均粒径５０ｎｍ以下の金属酸化物微粒子と補強繊維とを含む乾式加圧成形体を、温度１００℃以上の加圧された水蒸気飽和雰囲気で養生する養生工程と、養生された前記乾式加圧成形体を乾燥する乾燥工程と、を含む。 - 特許庁
  • A crystallite size and nonuniform strain of a target material are measured by an X-ray diffraction and, under at least one of conditions that the crystallite size is 30 nm or less and the nonuniform strain is 0.25% or more, a prediction of the formation of rolling fatigue crack of the target material is determined.
    対象材に対してＸ線回折により結晶子サイズおよび不均一ひずみを測定し、結晶子サイズが３０ｎｍ以下であるとの条件及び不均一ひずみが０．２５％以上であるとの条件の少なくとも一方の条件で対象材に対して転がり疲労き裂の発生予測を決定する。 - 特許庁
  • The light diffusive resin composition comprises dispersing porous silica particulates of 1 to 30 μm in the average particle diameter of 500 to 800 m^2/g in specific surface area, and 3 nm in the pore diameter, at a ratio of 0.1 to 20 pts.mass with respect to 100 parts by mass of a translucent resin.
    平均粒子径が１μｍ以上、３０μｍ以下であり、比表面積が５００ｍ^2／ｇ以上、８００ｍ^2／ｇ以下であり、且つ、細孔径が３ｎｍ以下である多孔性シリカ微粒子を、透光性樹脂１００質量部に対し、０．１質量部以上、２０質量部以下の割合で分散してなる。 - 特許庁
  • Highly graphitized carbon powder for a lithium secondary battery negative electrode is obtained by mixing a boron compound to carbon powder and conducting graphitization treatment, has a content of boron as boron nitride(BN) of 0.01-0.5 at.%, and a spacing of (002) planes (d002) as determined by X-ray diffraction of 0.3359 nm or less.
    ホウ素化合物を混合して黒鉛化処理して得た炭素粉末において、窒化ホウ素（ＢＮ）として存在するホウ素の含有量が０．０１〜０．５ａｔ％であり、Ｘ線回折で求めた００２面の面間隔ｄ_002 が０．３３５９ｎｍ以下であるリチウム二次電池負極用高黒鉛化炭素粉末である。 - 特許庁
  • The manicure preparation comprises a film-forming material and an organic solvent and contains a liquid crystal fixing pigment prepared by fixing a liquid crystalline high molecular compound in a film-like form and crushing the same into powder and fine particle silica having ≤20 nm particle size and ≥200 m^2/g specific surface area.
    被膜形成剤および有機溶剤を含有する美爪料において、液晶高分子をフィルム状に固定化してから粉砕することにより得られる液晶固定化顔料と、粒径２０ｎｍ以下、比表面積２００ｍ^2／ｇ以上の微粒子シリカを含有することを特徴とする美爪料。 - 特許庁
  • The carbon monoxide selective oxidation catalyst is such that selectively oxidizes carbon monoxide in the reformed gas with oxygen gas, wherein a catalyst active component 12 is supported in micropores of porous carrier such as zeolite, and surfaces of zeolite and the like that are the porous carriers are covered with a water repellent agent 10 of colloidal silica and the like with particle sizes of a scope of 3 to 20 nm.
    改質ガス中の一酸化炭素を酸素ガスによって選択的に酸化する一酸化炭素選択触媒であって、触媒活性成分12をゼオライト等の多孔質担体の細孔に担持し、多孔質担体であるゼオライト等の表面を粒径が3nmから20nmの範囲にあるコロイダルシリカ等の撥水材10で覆う。 - 特許庁
  • There are provided: a polymerizable composition for a light reflection plate formed by containing a cycloolefin monomer, metathesis polymerization catalyst, an inorganic filler, and a white coating; and a light reflection plate formed by mass polymerizing the polymerizable composition for a light reflection plate and having light reflectance of 80% or higher in a wavelength of 450 nm.
    シクロオレフィンモノマー、メタセシス重合触媒、無機充填剤、及び白色顔料を含有してなる光反射板用重合性組成物、及び該光反射板用重合性組成物を塊状重合してなり、波長４５０ｎｍにおける光反射率が８０％以上である光反射板を提供する。 - 特許庁
  • In oxidation treatment of graphite, the separation of layers is promoted and the decomposition of the inside of each layer is simultaneously prevented, so that the thin film particles of graphite oxide with independent shape having a thickness of 0.4 nm to 10 μm, and a size in a plane direction of ≥500 μm, and having lyophilic properties to liquid having a relative dielectric constant of ≥15 are obtained.
    黒鉛の酸化処理において、層の分離を促進し、同時に各層内部の分解を防止することで、厚さが０．４ｎｍ〜１０μｍ、平面方向の広がりが５００μｍ以上であり、比誘電率が１５以上の液体に親液性のある、独立形状を持つ酸化黒鉛の薄膜状粒子を得る。 - 特許庁
  • A grating 3 is disposed at an angle different from that of a glass substrate 4 in order that an image sensor 8 may not receive reflected light by the grating 3, and only the light of the wavelength around 313 nm is introduced to the image sensor 8 by means of a band-pass filter 6 in order not to be influenced by the reflected light from the backside of the glass substrate 4.
    格子３からの反射光がイメージセンサ８に入らないように、格子３は、ガラス基板４とは異なる角度に配置し、また、バンドパスフィルタ６によって、波長が３１３ｎｍ付近の光だけをイメージセンサ８に導くようにして、ガラス基板４の裏面からの反射光の影響を受けないようにしておく。 - 特許庁
  • The radiation-sensitive resin composition of this invention contains (A) a compound of 0.1-20 pts.wt. of a specific anthracene structure, (B) a compound of 0.1-20 pts.wt. which generates acid by radiation, and (C) resin of 100 pts.wt., and has its sensitivity in the radiation of a wavelength of 300-450 nm.
    本発明に係る感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）特定のアントラセン構造を有する化合物０．１〜２０重量部、（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物０．１〜２０重量部、および（Ｃ）樹脂１００重量部を含有し、波長３００〜４５０ｎｍの放射線に感度を有することを特徴とする。 - 特許庁
  • The metal oxide structure is characterized in that it is composed of a substrate and rod-like crystals which are erected on the substrate via seed crystals, in that the seed crystals are comprised of a first metal oxide, in that the rod-like crystals are comprised of a second metal oxide, and in that the average short diameter of the rod-like crystals is 50 nm or smaller.
    基板と、該基板上に種晶を介して棒状結晶が立設してなり、前記種晶が第１の金属酸化物からなり、前記棒状結晶が第２の金属酸化物からなり、該棒状結晶の平均短径が５０ｎｍ以下であることを特徴とする金属酸化物構造体である。 - 特許庁
  • The cerium oxide abrasive agent for polishing a semiconductor substrate or the SiO_2 insulation film, comprising cerium oxide particles containing 3 to 40 vol.% of particles having 500 nm or larger in diameter, water and a dispersant, and a method of polishing the semiconductor substrate or the SiO_2 insulation film with these agents are provided.
    ５００ｎｍ以上の粒子径の含有量が３〜４０体積％の酸化セリウム粒子、水、及び分散剤を含む半導体基板研磨用またはＳｉＯ_２絶縁膜研磨用酸化セリウム研磨剤、およびこれらの酸化セリウム研磨剤を用いて半導体基板研磨用やＳｉＯ_２絶縁膜を研磨する研磨法。 - 特許庁
  • This onion extract is such that the total peak area of furfuryl alcohol, 5-methylfurfural, acetylfuran, and furfural in a gas chromatograph is twice or above of the peak area of decane when admixing 1 ppm decane with the onion extract, and an absorbance in 450 nm when diluting to 100 times is not more than 1.5.
    ガスクロマトグラフにおけるフルフリルアルコール、５−メチルフルフラール、アセチルフラン、フルフラールのピーク面積の合計が、タマネギエキス中にデカンを１ｐｐｍ添加混合した時のデカンのピーク面積の２倍以上で、かつ１００倍希釈したときの４５０ｎｍにおける吸光度が１．５以下であるタマネギエキスにより、上記課題が解決される。 - 特許庁
  • Thereby, even when light having a wavelength except an ideal wavelength (e.g. 580 nm) is shifted from the equator to be linearly polarized light as seen on a Poincare sphere by the retardation layer 9, the light can be returned in its shift canceling direction, reflection in the state near to the linearly polarized light is made possible and color reproducing properties are enhanced.
    従って、理想的な波長（例えば５８０ｎｍ）以外の波長の光が、位相差層９によりポアンカレ球で見て直線偏光とされる赤道上からずれても、そのずれを相殺するような方向に戻すことができ、より直線偏光に近い状態で反射が可能となり、色再現性が向上する。 - 特許庁
  • The ink set for inkjet recording comprises a first liquid A for at least forming an image and a second liquid B different in composition from the first liquid A, wherein at least one of the liquid A and the liquid B contains organic material particles having an average particle size of 50 nm or less and a coefficient of variation of the particle size of 50%.
    少なくとも画像を形成するための第１の液体Ａと、前記第１の液体Ａと組成が異なる第２の液体Ｂとから構成され、液体Ａ及びＢの少なくとも一方が、平均粒子サイズが５０ｎｍ以下であって粒子サイズの変動係数が５０％である有機材料粒子を含んでいる。 - 特許庁
  • The elliptically polarizing plate comprises an optical retardation plate in which in-plane phase difference at least at a wavelength of 450 to 650 nm becomes smaller on the short wavelength side and becomes larger on the long wavelength side, and a polarizer which is stacked on the optical retardation plate, wherein the polarizer is an elliptically polarizing plate made of a coating film obtained by applying a dichroic pigment.
    少なくとも波長４５０〜６５０ｎｍに於ける面内位相差が短波長側ほど小さく且つ長波長側ほど大きい位相差板と、位相差板上に積層された偏光子とを有し、この偏光子が、二色性色素を塗工して得られたコーティング膜からなる楕円偏光板。 - 特許庁
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