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本発明は、平均一次粒子径が３００ｎｍ以下の金属フッ化物を含有しながら、低屈折率性、ハードコート性、透明性及び耐光性の全てにおいて優れた物性を併せ持つ塗膜を形成可能な経時安定性のある硬化性組成物、及びそれを用いた硬化膜とその積層体を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition capable of producing a cured product having high transparency in the visible wavelength region of 380-780 nm, excellent reliability under high temperature and high humidity conditions, and also excellent flexibility, photosensitive resin varnish, a photosensitive resin film, and a photosensitive resin cured product thereof, and a light guide path of visible light obtained from the cured product.
可視光波長領域３８０〜７８０ｎｍにおける高い透明性、並びに高温高湿信頼性に優れ、更に柔軟性に優れた硬化物となり得る感光性樹脂組成物、感光性樹脂ワニス、感光性樹脂フィルム、及びこれらの感光性樹脂硬化物、並びにその硬化物よりなる可視光導光路を提供すること。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition having a substantially constant sensitivity distribution relative to an exposure light having a wavelength of 400-410 nm, and excelling in pattern reproducibility, highly suppressing variations in pattern form and permitting handling in bright room environment; a pattern forming material and a photosensitive laminate with the photosensitive composition laminated thereon; and a pattern forming apparatus and a pattern forming process.
４００〜４１０ｎｍの波長の露光光に対する感度分布が略一定で、パターン再現性に優れ、パターン形状のバラツキが極めて抑制され、明室環境下の取り扱いが可能な感光性組成物、該感光性組成物を積層したパターン形成材料及び感光性積層体、パターン形成装置、パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a conductive barrier film forming material which can form a film even if conditions are required such as the ratio of the opening of a groove or a hole to the depth thereof (opening/depth) being 1/5 to 1/7 and even if the thickness is 10 nm or less, is excellent in preventing copper diffusion (barrier properties), has small electric resistance, and is excellent in adhesiveness with a copper film.
溝や穴の開口部と深さとの比（開口部／深さ）が１／５〜１／７のような条件を要求されても、又、厚さが１０ｎｍ以下であっても成膜が可能で、かつ、銅の拡散防止（バリア性）に優れ、更には電気抵抗が小さく、銅膜との密着性にも優れた導電性バリア膜形成材料を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition using a new photopolymerization initiator system having high sensitivity over a wide wavelength range of 350 to 450 nm, excellent in work efficiency and economical efficiency, suitable for a CTP system, and usable as a material for a planographic printing plate for scanning exposure having high sensitivity to the oscillation wavelength of an inexpensive short-wavelength semiconductor laser.
作業性、経済性に優れ、ＣＴＰシステムに適合し、安価な短波半導体レーザの発振波長に対し高感度な走査露光用平版印刷版の材料として用いることができ、広く３５０ｎｍから４５０ｎｍの波長に対し高感度な新規な光重合開始系を用いる感光性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition excellent in work efficiency and economical efficiency, adaptable to a CTP system, usable as an image recording material of a lithographic printing plate for scanning exposure having high sensitivity to an oscillation wavelength of an inexpensive short-wavelength semiconductor laser, and using a new photopolymerization initiation system having high sensitivity to various wavelengths of 350-850 nm.
作業性、経済性に優れ、ＣＴＰシステムに適合し、安価な短波半導体レーザの発振波長に対し高感度な走査露光用平版印刷版等の画像記録材料として用いることができ、広く３５０ｎｍから８５０ｎｍの波長に対し高感度な新規な光重合開始系を用いる感光性組成物を提供する。 - 特許庁 - The metallic composite superfine particle 2 has at least a single crystal metal nucleus 4 obtained by aggregating and single-crystallizing organometallic compound-originating metal atoms 4a and an organometallic compound-originating organic matter uncleus 6 connecting and surrounding around the single crystal metal uncleus 4 and has a 1-100 nm particle size.
本発明に係る金属複合超微粒子２は、金属有機化合物起源の金属原子４ａが集合して単結晶化した単結晶金属核４と、この単結晶金属核４の周りに結合して取り巻く金属有機化合物起源の有機物殻６を少なくとも有し、粒径が１〜１００ｎｍの金属超微粒子である。 - 特許庁 - Extremely fine fibers wherein the diameter of a single fiber is 1-3,000 nm are laminated on the fiber structure constituted of fibers charged so as to attract the charged single fibers constituting the extremely fine fibers to form the composite fiber structure wherein the extremely fine fibers are selectively brought into contact with and laminated on the surfaces of fibers constituting the fiber structure.
単繊維の直径が１〜３，０００ｎｍの極細繊維を、電荷を付与し該極細繊維を構成する単繊維と引合うように帯電させた繊維から構成される繊維構造体に積層させることにより、該極細繊維を該繊維構造体を構成する繊維表面に選択的に接触積層させた複合繊維構造体。 - 特許庁 - The copper material or copper alloy material for laser welding is made by coating at least one surface of a copper plate or a copper alloy plate having a plate thickness of 0.05 to 10.0 mm with a resin layer containing a colorant, wherein reflectivity to light of wavelength 1,000 nm of the resin layer surface is 40% or less.
本発明のレーザー溶接用の銅材料または銅合金材料は、板厚０．０５〜１０．０ｍｍの銅板または銅合金板の少なくとも片面が、着色剤を含有する樹脂層で被覆されてなり、前記樹脂層表面の波長１０００ｎｍの光に対する反射率が４０％以下であることを特徴とする。 - 特許庁 - Since a reaction substrate can mainly be irradiated with main reaction light having a wavelength of nearly 370 nm causing the polymerization reaction (main reaction), without an expensive light-irradiation device which irradiates only a monochromatic light, a side reaction can be controlled to obtain the gene transfer agent comprising a branched polymer having a narrow molecular weight distribution.
単色光のみを照射する高価な光照射装置を用いることなく、反応基質に対して重合反応（主反応）を生じさせる３７０ｎｍ付近の波長の主反応光を主に照射することができるため、副反応を抑制して、分子量分布が狭い分岐型重合体よりなる遺伝子導入剤を得ることができる。 - 特許庁 - The laminate structure includes a substrate 11 of 0.5 to 10 in extinction coefficient X within a wavelength range of 300 to 700 nm, a light absorbing layer provided on the substrate 11, an etching layer 13 provided on the light absorbing layer 12, and a resist layer 14 provided on the etching layer 13.
本発明の積層構造体は、波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲における消衰係数Ｘが０．５以上１０以下である基材１１と、基材１１の上に設けられた光吸収層と、光吸収層１２の上に設けられたエッチング層１３と、エッチング層１３の上に設けられたレジスト層１４と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁 - In this invention, a matrix section 11a where nanoparticles 11 of thermoelectric conversion materials with an average particle diameter of 200 nm or less are connected is provided, and continuous pores where a part or all of the holes 12 with nanometer size communicate are formed inside the matrix section 11a, and Seebeck coefficient is comparable to that of thermoelectric conversion materials in bulk form which has non nano-structures.
平均粒径が２００ｎｍ以下の熱電変換材料のナノ粒子１１同士が連結したマトリックス部１１ａを有し、マトリックス部１１ａ内にナノメートルサイズの空孔１２の一部又は全部が連通した連続気孔が形成され、ゼーベック係数が、非ナノ組織を有するバルク状熱電変換材料と同程度となる。 - 特許庁 - The colored coating composition includes a film-forming resin (A), a curing agent (B), a titanium dioxide pigment (C), and a black pigment (D), wherein the black pigment (D) includes not less than 40 mass%, based on the entire weight of the black pigment (D), black pigment (D1) having an average primary particle diameter in the range of 30-500 nm.
被膜形成性樹脂（Ａ）、硬化剤（Ｂ）、二酸化チタン顔料（Ｃ）及び黒色顔料（Ｄ）を含有し、かつ黒色顔料（Ｄ）が、平均一次粒子径が３０〜５００ｎｍの範囲内である黒色顔料（Ｄ１）を、黒色顔料（Ｄ）の総量を基準として、４０質量％以上含有することを特徴とする着色塗料組成物。 - 特許庁 - The coating liquid for inkjet printing includes water, fine polymer particle of which glass transition temperature is 0°C or less and at the same time of which acid value is 100 mgKOH/g or less, and fluororesin particle of which mean particle size is 400 nm or less, wherein the mean particle size of the fluororesin particle is two times or more of the mean particle size of the fine polymer particle.
水と、ガラス転移温度が０℃以下で、且つ酸価が１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である高分子微粒子と、平均粒径が４００ｎｍ以下であるフッ素樹脂粒子とを含んでなり、上記フッ素樹脂粒子の平均粒径が、上記高分子微粒子の平均粒径の２倍以上であることを特徴とするインクジェット印刷用コート液。 - 特許庁 - When the optical part 1 is manufactured by irradiating the photosensitive resin 1A with light through a light pervious substrate 2 in a state that the mold 3 is pressed to the photosensitive resin 1A supplied to the surface of the light pervious substrate 2, the reflectivity of light with a wavelength of 365 nm of the molding surface 3a of the mold 3 to be used is set to 46% or higher.
光透過性基板２上に供給された感光性樹脂１Ａに成形型３を型押しした状態で、上記光透過性基板２を透して光照射し光学部品１を製造するに際し、上記成形型３として、型面３ａでの、波長３６５ｎｍの光の反射率が、４６％以上に設定されているものを用いる。 - 特許庁 - For the myopathy treatment apparatus 1, a filter 16a for absorbing, reflecting, or scattering the light beams emitted from a near infrared ray emitting source 15 having a wavelength of 1,400-1,500 nm and transmitting near infrared rays, is disposed in the middle of a route between the near infrared ray emitting source 15 and the muscular tissue 3 of a living body 2 irradiated with the near infrared rays.
筋疾患治療装置１は、近赤外線出射源１５からの出射光線の内の１４００〜１５００ｎｍの波長を吸収、反射又は散乱させて近赤外線を透過させるフィルタ１６ａが、前記近赤外線出射源１５と前記近赤外線で照射される生体２の筋組織３との経路途中に、配置されている。 - 特許庁 - The vapor deposition film 1 is made of a transparent film having at least a metal oxide vapor deposition film on a base material, and the moisture absorption layer 2 is made of a transparent resin layer molded in the shape of a sheet by using a molten mixture in which a chemically moisture-adsorbable substance having a primary particle size of 100 nm or below is melted/kneaded to be dispersed in a binder resin.
蒸着フィル１ムが、基材上に少なくとも金属酸化物の蒸着膜を有する透明フィルムよりなり、かつ、吸湿層２が、バインダ樹脂中に、１次粒子径が１００ｎｍ以下である化学的水分吸着性物質が溶融混練されて分散されてなる溶融混合物を用いて、シート状に成形された透明樹脂層よりなる。 - 特許庁 - The electromagnetic wave shielding film has a protective layer laminated on a conductive layer comprising (A) metal powder and (B) binder resin, wherein the conductive layer is formed of conductive paste containing (a) flaky metal powder of 50 to 300 nm in mean thickness and 3 to 10 μm in mean particle size and (b) acicular or dendritic metal powder of 3 to 10 μm in mean particle size.
（Ａ）金属粉と（Ｂ）バインダー樹脂とからなる導電層に、保護層が積層されてなる電磁波シールドフィルムにおいて、導電層が（ａ）平均厚さ５０〜３００ｎｍ、平均粒径３〜１０μｍの薄片状金属粉と、（ｂ）平均粒径３〜１０μｍの針状又は樹枝状金属粉とを含有する導電性ペーストから形成されたものとする。 - 特許庁 - In the method for manufacturing the sintered rare earth magnet, sintering is performed to a material composed of: a flake-shaped polycrystal phase that is produced by rapidly solidifying alloy melt of a rare earth magnet composition, and whose average crystal grain size is 10-200 nm; and a low melting point phase that is formed on a surface of the polycrystal phase and whose melting point is lower than that of the polycrystal phase.
希土類磁石組成の合金溶湯の急冷凝固により作製した平均結晶粒径１０〜２００ｎｍの薄片状の多結晶相と、該多結晶相の表面に形成され、該多結晶相より融点が低い低融点相とから成る原料を焼結することを特徴とする焼結希土類磁石の製造方法。 - 特許庁 - The polycarbonate/polydiorganosiloxane copolymer has an aggregation structure with polydiorganosiloxane domains dispersed in a matrix of a polycarbonate polymer, the polydiorganosiloxane domains have an average size of 5-40 nm and a normalized dispersity of ≤40%, and the copolymer has a viscosity average molecular weight of 1.60×10^4-2.20×10^4 and a structural viscosity index (N) of 1.55-1.80.
ポリカーボネートポリマーのマトリックス中にポリジオルガノシロキサンドメインが分散した凝集構造であり、該ポリジオルガノシロキサンドメインの平均サイズが５〜４０ｎｍ、規格化分散が４０％以下であり、粘度平均分子量が１．６０×１０^４〜２．２０×１０^４であり、構造粘性指数（Ｎ）が１．５５〜１．８０であることを特徴とするポリカーボネート−ポリジオルガノシロキサン共重合体。 - 特許庁 - The cosmetic for the lips encapsulates: (a) 0.000001-0.1 wt.% of an epithelial cell growth factor (EGF); (b) 0.001-5 wt.% of deoxyribonucleic acid (DNA) and/or a salt thereof; and (c) 5-30 wt.% of a retinol compound, and includes 0.01-5 wt.% of a nanocapsule having an average particle diameter of ≤200 nm.
（ａ）上皮細胞成長因子（ＥＧＦ）を０．０００００１〜０．１重量％、（ｂ）デオキシリボ核酸（ＤＮＡ）及び／又はその塩類を０．００１〜５重量％、（ｃ）レチノール化合物を５〜３０重量％内包し、かつ平均粒子径が２００ｎｍ以下であるナノカプセルを０．０１〜５重量％を含有することを特徴とする口唇用化粧料。 - 特許庁 - The phosphor layer is formed of phosphor particles with an average particle size of 3.4 to 6.0 μm, and binder particles with 1.1 to 2.5% in weight of the phosphor particles, the binder particles contain alumina particles with a primary particle size of 5 to 15 nm, and a weight of the alumina particle is to be 0.1 to 1.0% of that of the phosphor particle.
蛍光体層は、平均粒径３．４〜６．０μｍの蛍光体粒子および前記蛍光体粒子の重量の１．１〜２．５％の結着剤粒子から形成され、前記結着剤粒子は一次粒径５〜１５ｎｍのアルミナ粒子を含み、このアルミナ粒子の重量は前記蛍光体粒子の重量の０．１〜１．０％であることを特徴とする。 - 特許庁 - The mold for molding an optical glass element, having excellent mold releasability from an optical glass element after press molding is obtained by subjecting a molding face formed on the surface of a preform for a mold to etching treatment by a reverse sputtering process to control the surface roughness (Ra^1) of the molding face to 0.01 to 50 nm and further subjecting the molding face to a sputtering process to thereby form a protective layer.
金型用母材の表面に形成された成形面を逆スパッタリング法によってエッチング処理して、前記成形面の表面粗さ（Ｒａ^１）を０．０１〜５０ｎｍとし、さらにスパッタリング法によって保護層を形成して得た、プレス成形後の光学ガラス素子との離型性に優れる、光学ガラス素子成形用金型。 - 特許庁 - The manufacturing method of an ultraviolet curable printed matter adopts a function separated irradiation system which includes a process (process 1) for forming an image of an ultraviolet curable composition on a base material by offset printing, a process (process 2) for irradiating with ultraviolet rays by light emitting diodes having an emission peak wavelength of 350-420 nm, and a process (process 3) for irradiating with ultraviolet rays by an ultraviolet lamp in this order.
基材上にオフセット印刷で紫外線硬化性組成物の画像を形成する工程（工程１）、発光ピーク波長３５０〜４２０ｎｍの発光ダイオード（ＬＥＤ）で紫外線を照射する工程（工程２）及び紫外線ランプで紫外線を照射する工程（工程３）をこの順に有する機能分離の照射方式を採用する。 - 特許庁 - This optical fiber 100 includes a depressed type refractive index profile constituted of a core 110, an inner clad 120 of low refractive index, and an outer clad 130, and is a quartz optical fiber having 110 μm^2 or more of effective cross-sectional area A_eff in 1,550 nm of wavelength, and 1.3 μm or more to 1.53 μm or less of fiber cutoff wavelength λc.
光ファイバ１００は、コア１１０、低屈折率の内側クラッド１２０、外側クラッド１３０により構成されたディプレスト型屈折率プロファイルを持ち、波長１５５０ｎｍにおいて１１０μｍ^２以上の実効断面積Ａ_ｅｆｆと、１．３μｍ以上、かつ、１．５３μｍ以下のファイバカットオフ波長λｃを有する石英系の光ファイバである。 - 特許庁 - There is provided the fiber structure containing ultrafine polylactic acid fibers, wherein the ultrafine polylactic acid fiber has a single fiber diameter of 10-1,000 nm, a tensile strength of 1.0-6.0 cN/dtex and an elongation of 10-80%, and the fiber structure has a bacteriostatic activity value of ≥2.2 determined by bacteria emulsion absorption method in conformity to JIS-L-1902 (2008).
ポリ乳酸極細繊維を含む繊維構造体であって、ポリ乳酸極細繊維が単糸径が１０〜１０００ｎｍ、引張強度が１．０〜６．０ｃＮ／ｄｔｅｘ、伸度が１０〜８０％であり、ＪＩＳ−Ｌ−１９０２（２００８）に規定された菌液吸収法による静菌活性値が２．２以上であることを特徴とする繊維構造体。 - 特許庁 - Alumina having fine recessed and projecting structure that distance between at least one of adjacent recessed parts and adjacent projecting parts is equal to or below the wavelength of visible ray is formed on a mirror surface of aluminum prototype free from roll mark by anodization and the height of the unevenness due to the crystal grain boundary is ≥600 nm.
圧延痕のないアルミニウム原型の鏡面表面に、隣り合う凹部同士または凸部同士の少なくともいずれか一方の距離が可視光の波長以下の微細凹凸構造を有するアルミナが、陽極酸化により形成され、かつ、結晶粒界による凹凸の高さが６００ｎｍ以上であることを特徴とする鋳型。 - 特許庁 - The coating agent contains a fibrous fine cellulose and the crystallinity of the fine cellulose is within the range of 70-98%, and the fiber breadth of the fine cellulose is within the range of 1 nm-1 μm, and the length of the fine cellulose is within the range of 100-10,000 times the fiber breadth.
繊維状の微細セルロースを含有し、且つ、該微細セルロースの結晶化度が７０％以上９８％以下の範囲内であり、且つ、該微細セルロースの繊維幅が１ｎｍ以上１μｍ以下の範囲内であり、且つ、該微細セルロースの長さが繊維幅の１００倍以上１００００倍以下の範囲内であることを特徴とするコーティング剤。 - 特許庁 - Each space among nano fine particulates is regulated to be 100-1000 nm when coupled with a substrate, in this bioelement comprising the substrate pattern-formed with a monomolecular film of a functional molecule, and for detecting a group having a functional group on a nano fine particulate surface by coupling the group to the functional molecule by a molecular recognition reaction.
機能性分子の単分子膜がパターン形成された基板からなり、前記機能性分子に対してナノ微粒子表面の、機能性官能基を有する基を分子認識反応によって結合させて検出するバイオ素子であって、基板に結合したときの前記ナノ微粒子相互の間隔が１００〜１０００ｎｍになるように調節したバイオ素子。 - 特許庁 - One surface of the lens base is coated with photochromic liquid containing photochromic coloring matter and a photocurable component, and the photochromic liquid is irradiated with light at least through the lens base to cure at least a part of the photocurable component, thereby forming the photochromic film whose outermost surface has a nano indentation hardness of ≥800 nm.
フォトクロミック色素および光硬化性成分を含むフォトクロミック液をレンズ基材の一方の面上に塗布し、前記フォトクロミック液に対して、少なくともレンズ基材を介して光を照射し、前記硬化性成分の少なくとも一部を硬化させることにより、最表面が８００ｎｍ以上の超微小押し込み硬さを有するフォトクロミック膜を形成する。 - 特許庁 - A photomask blank used for forming a photomask to which an exposure light with a wave length less than 200 nm is applied includes a thin film 2 on a translucent substrate 1 where the thin film 2 contains transition metal, silicon and carbon and is formed from a material having a silicon carbide and/or a transition metal carbide.
波長２００ｎｍ以下の露光光が適用されるフォトマスクを作製するために用いられるフォトマスクブランクであって、 透光性基板１上に薄膜２を備え、 前記薄膜２は、遷移金属、ケイ素及び炭素を含み、ケイ素炭化物及び／又は遷移金属炭化物を有する材料からなることを特徴とするフォトマスクブランク。 - 特許庁 - An ink ribbon comprises an ink layer 2 formed on one face of a sheet-shaped base 1 and composed mainly of a dye and a sensor mark section 3 formed on one face of the sheet-shaped base 1, and the sensor mark section 3 contains carbon black of 30 nm or smaller average particle diameter and the 80 cc/100 g or less DBP liquid amount.
シート状基材の一方の面に形成され、染料を主体とするインク層と、上記シート状基材の一方の面に形成されたセンサーマーク部とを備え、上記センサーマーク部は、平均粒子径が３０ｎｍ以下であり、且つ、ＤＢＰ吸液量が８０ｃｃ／１００ｇ以下であるカーボンブラックを含有することを特徴とするものである。 - 特許庁 - To provide an active energy-ray-curing composition in which a curing contraction ratio at polymerization is low and by which a curing material layer excellent in a low water-absorbing property and transparency may be formed and to provide a high-density optical disk having the curing material layer made to cure the composition and corresponding to a short wavelength of about 400 nm with no warp and no turning yellow.
重合時の硬化収縮率が低く、低吸水性及び透明性に優れた硬化物層を形成しうる活性エネルギー線硬化性組成物、および該組成物を硬化せしめた硬化物層を有し、反りや、黄変がなく、波長４００ｎｍ程度の短波長レーザーに対応する高密度光ディスクを目的とする。 - 特許庁 - The molecular element 10 comprises a first electrode 1, a self-organization monomolecular film 2 arranged on the first electrode 1, a metal-including fullerene 3 arranged on the self-organization monomolecular film 2, and a second electrode 4 arranged on the metal-including fullerene 3 while spaced apart by a predetermined distance wherein the self-organization monomolecular film has a thickness of 1.2 nm or less.
分子素子１０は、第１の電極１と、第１の電極１上に配置される自己組織化単分子膜２と、自己組織化単分子膜２上に配置される金属内包フラーレン３と、金属内包フラーレン３上に所定の距離を隔てて配置される第２の電極４と、を備え、自己組織化単分子膜の厚みが１．２ｎｍ以下である。 - 特許庁 - This culture method for long-day plant is provided with a step where far infrared light of which main emission wavelength is in the range from 700 to 800 nm, with a photon flux density of ≥ 0.04 μmol m^-2 s^-1 is continuously irradiated to long-day plants at an ambient temperature while the time when sunshine is not radiated.
長日植物の栽培方法は、太陽光が照射されない時間帯で、かつ、周囲温度が５〜４０℃において、発光主波長が７００〜８００ｎｍにあり、かつ、上記主波長域の光量子束密度が０．０４μｍｏｌ・ｍ^−２・ｓ^−１以上になるように遠赤色光を連続して前記長日植物に対して照射する工程を具備している。 - 特許庁 - The coating film is formed of an aqueous coating composition having, as the main component, a water dispersion type binder obtained by dispersing composite particle bodies having a particle diameter of 20-200 nm obtained by compounding synthetic resin particles with inorganic solid particles into water, and the above inorganic solid particles are interspersed in the interface of the surface of the coating film and a material to be coated.
合成樹脂粒子と無機固形粒子とを複合した粒子径が２０〜２００ｎｍの複合粒子体を水に分散させた水分散型結合材を主成分とした水系塗料組成物により形成された塗膜であって、その塗膜表面及び被塗装物と塗膜との界面に前記無機固形粒子が点在しているものである。 - 特許庁 - At least a reflecting layer, recording layer, lower dielectric layer, upper dielectric layer and solid lubricative layer are stacked in this order on a substrate, the thermal conductivity of the upper dielectric layer is made higher than that of the lower dielectric layer and the total thickness of the lower and upper dielectric layers and the solid lubricative layer is adjusted to be 90 nm or larger.
基板上に少なくとも反射層、記録層、下部誘電体層、上部誘電体層および固体潤滑層をこの順に積層し、上部誘電体層の熱伝導率が下部誘電体層の熱伝導率より大きくかつ下部誘電体層と上部誘電体層と固体潤滑層の合計の膜厚を９０ｎｍ以上とした。 - 特許庁 - The mean roughness Ra of the core surface at the boundary face between the cores 3 and the clads is 100 nm or smaller.
断面形状としてクラッドとなる熱可塑性樹脂Ｂに周りを囲まれたコアとなる熱可塑性樹脂Ａからなる分散体（コア）がフィルム長手方向に延在しながらフィルム幅方向に４個以上配列した構造である光導波路フィルムであって、コアとクラッド間の境界面のコア表面の平均粗さＲａが１００ｎｍ以下である光導波路フィルム。 - 特許庁 - To provide a pattern forming material, having a cushion layer and a photosensitive layer and superior in the shape of a formed pattern because absorbance of the photosensitive layer, when a light of 405 nm is applied is within a certain numerical range, and to provide a pattern forming apparatus with the pattern forming material and a pattern forming method which uses the pattern forming material.
クッション層と感光層とを有し、４０５ｎｍの光を照射する場合の該感光層の吸光度が一定の数値範囲であることにより、形成したパターンの形状に優れるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - The method for formation of a coating film comprises applying a coating fluid to a target substance having a hydrophobic surface so as to form the coating film, provided that the coating fluid used comprises fine particles having hydrophobic surfaces and an average particle size of ≤100 nm that are dispersed in an organic solvent containing ≥65 mass% hydrophobic solvent based on the total mass of the organic solvent.
コーティング膜形成方法は、表面が疎水性で、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の微粒子を、疎水性溶媒を全有機溶媒中６５質量％以上含有する有機溶媒に分散させたコーティング液を用い、このコーティング液を、表面が疎水性の対象物へコーティングして塗膜を形成する方法である。 - 特許庁 - This inkjet recording ink comprises a dispersion comprising a pigment dispersible in water and having an average particle diameter of 50 to 300 nm, and fine polymer particles, having a fine polymer particle concentration of ≥8 wt.%, a glass transition temperature of ≤-10°C, an acid value of ≤100 mgKOH/g, and a cross-linked structure.
顔料を水に分散可能とした平均粒径が５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の分散体と、高分子微粒子とを含んでなり、該高分子微粒子の濃度が８重量％以上であり、ガラス転位温度が−１０℃以下であり、酸価が１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であり、且つ架橋構造を有することを特徴とするインクジェット記録用インク。 - 特許庁 - In the nonaqueous electrolytic solution secondary battery having a negative electrode and a positive electrode containing a graphite which has a face distance (d002) of 0.338 nm or less and an electrolytic solution of organic solvent series containing a nonaqueous solvent, among solvent components of the electrolytic solution, not less than 30% of volume ratio is constituted from phosphates and pyrocarbonates is made to be contained.
面間隔（ｄ_002 ）が０．３３８ｎｍ以下の黒鉛を含む負極、正極および有機溶媒を含む非水溶媒系の電解液を有する非水電解液二次電池において、上記電解液の溶媒成分のうち体積比で３０％以上をリン酸エステルで構成し、かつ該電解液中にピロカーボネート類を含有させる。 - 特許庁 - To provide a coating method which obtains a coating film having a uniform surface condition on a base material to be coated even when a dry film thickness is not more than 500 nm and is free from coating faults such as mottling, streaks, and unevenness caused by various methods and further obtains a uniformly thin film free from uneven drying by drying mechanism.
被塗布基材上に、乾燥膜厚が、５００ｎｍ以下の薄膜であっても、均一な表面状態の塗布膜を得る方法であり、前記各種方式で発生するセルパターンや、泳ぎ、スジ、段ムラなどの塗布欠陥が無く、しかも乾燥機構による乾燥ムラもない均一薄膜を得る塗布方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The average reflectance of a wavelength 400 to 1,100 nm measured from the side of the rough surface is ≤9% and 20-degree specular gloss, 45-degree specular gloss and 60-degree specular gloss on the rough surface are all ≤50.
凹凸表面とその対向面上に形成された透明導電膜３とを備えるガラス基板５であって、凹凸表面側から測定した波長４００〜１，１００ｎｍの平均反射率が９％以下であり、凹凸表面における２０度鏡面光沢度、４５度鏡面光沢度および６０度鏡面光沢度が全て５０以下である光電変換装置用ガラス基板。 - 特許庁 - In the magnetic recording medium provided with a magnetic layer essentially consisting of ferromagnetic metal powder and a binder formed on a substrate, the ferromagnetic metal powder has 8 to 15 nm crystal grain size and the magnetic layer has 145 to 320 kA/m Hc and 0.8 to 1.0 Br/Hc (mT /(kA/m)).
支持体上に強磁性金属粉末と結合剤を主体とする磁性層を設けてなる磁気記録媒体において該強磁性金属粉末は結晶子サイズが８〜１５ｎｍであり，該磁性層のＨｃが１４５ｋＡ／ｍ〜３２０ｋＡ／ｍであり，かつＢｒ／Ｈｃ(ｍＴ／(ｋＡ／ｍ))が０．８〜１．０であることを特徴とする磁気記録媒体。 - 特許庁 - The printing plate material having at least a thermal recording layer and a back coat layer on a plastic support has a surface specific resistance of 1×10^11 to 2×10^13 Ω at 23°C, 20% RH on the back coat layer, and has a light absorbance of 1.0 to less than 1.8 at a wavelength of 805 nm.
プラスチック支持体上に少なくとも感熱記録層及び裏塗り層を有する印刷版材料において、裏塗り層側の２３℃、２０％ＲＨにおける表面比抵抗が１×１０^11〜２×１０^13Ωであり、かつ波長８０５ｎｍにおける吸光度が１．０以上１．８未満であることを特徴とする印刷版材料。 - 特許庁 - The color filter is characterized by disposing the laminated structure on the periphery of the display region of the color filter and the light shielding region countering the TFTs using the coloring layer with at least two or more colors out of three primary colors where the red and blue coloring layers have ≤2.5% average transmittance in the vicinity of 555-575 nm wavelength region.
カラーフィルタの表示領域周縁及びＴＦＴ対向部遮光領域において３原色の内少なくとも２色以上の着色層を用いて積層構造を設け、赤着色層と青着色層で５５５ｎｍ〜５７５ｎｍ波長領域付近の平均透過率が２．５％以下であることを特徴とするカラーフィルタ。 - 特許庁 - The liquid used for an apparatus and a method for immersion exposure which carry out exposure through the liquid filling a space between a lens of a projection optical system and a substrate is refined using sulfuric acid made into microdroplets having an average particle size of ≤1 mm, and the transmission factor is ≥97% in the liquid per an optical path length of 1 mm in 193 nm.
投影光学系のレンズと基板との間に満たされた液体を介して露光する液浸露光装置または液浸露光方法に用いられる液体であって、該液体は平均粒子径１ｍｍ以下の微細液滴化された硫酸を用いて精製され、１９３ｎｍにおける光路長１ｍｍあたりの透過率が９７％以上である。 - 特許庁 - The active energy ray-curable composition comprises (A) a resin having an alkoxysilyl group and a (meth)acryloyl group, (B) a colloidal silica having 1-200 nm primary particle diameter, (C) an ultraviolet light absorbent and/or (D) a light stabilizer and optionally further (E) a (meth)acrylate having two or more (meth)acryloyl groups in the molecule.
（Ａ）アルコキシシリル基及び（メタ）アクリロイル基を有する樹脂、（Ｂ）一次粒子径が１〜２００ｎｍのコロイダルシリカ、（Ｃ）紫外線吸収剤及び／又は（Ｄ）光安定剤を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物、及び更に（Ｅ）分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレートを含有させてなる活性エネルギー線硬化性組成物。 - 特許庁 - The magnetic recording medium wherein a gas barrier layer, the base layer and the magnetic layer are formed in this order on at least one surface of a flexible polymer substrate is characterized in that the magnetic layer has a granular structure consisting of a ferromagnetic metal alloy and a non-magnetic oxide and the base layer and the magnetic layer have 10 to 45 nm total thickness.
可とう性高分子支持体の少なくとも一方の面に、ガスバリヤ層、下地層および磁性層をこの順に形成した磁気記録媒体であって、上記磁性層は強磁性金属合金と非磁性酸化物からなるグラニュラ構造をもち、上記下地層と磁性層の総厚が１０ｎｍ以上４５ｎｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁
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