「partial deposit method」を含む例文一覧(3)

  • The method for eluting amorphous silica comprises using Shirasu that has an igneous rock component from acidity to partial neutrality, much contains volcanic glass namely amorphous silica and is amorphous, a pyroclastic flow deposit of the Quaternary Era, similar to Shirasu or pumice fall deposit as an eluting material for supplying silica.
    シリカを供給するための溶出材料として、酸性から一部中性にかかる火成岩成分を持ち、火山ガラスつまり非晶質シリカを多量に含有し、かつ多孔質であるシラスやシラスと類似する第４紀火砕流堆積物、あるいは降下軽石堆積物を使用する非晶質シリカの溶出する方法である。 - 特許庁
  • The method for depositing germanium silicide includes the step of offering a substrate at least a partial region of which consists of silicon germanium, the step of depositing a metallization layer on the silicon germanium, and the step of heat-treating a substrate having a metallization layer under a high pressure to deposit germanium silicide, in addition the semiconductor device having the germanium silicide is provided.
    少なくとも一部領域がシリコンゲルマニウムからなる基板を提供するステップと、前記シリコンゲルマニウム上に金属層を形成するステップと、金属層が形成された基板を高圧で熱処理してゲルマニウムシリサイドを形成するステップと、を含むことを特徴とするゲルマニウムシリサイドの形成方法及びゲルマニウムシリサイドを形成した半導体デバイスである。 - 特許庁
  • This method comprises sintering the glass particulate deposit synthesized by a vapor phase synthesis process in an He-containing atmosphere to form transparent glass and heat treating the resultant sintered compact in the atmosphere removed of He, in which the atmosphere to perform the heat treatment is added with chlorine so as to attain ≥1% in the partial pressure ratio of the chlorine.
    気相合成法により合成したガラス微粒子堆積体を、Ｈｅ含有雰囲気中で焼結して透明ガラス化し、得られた焼結体をＨｅを除いた雰囲気中で加熱処理する方法において、前記加熱処理を行う雰囲気を塩素分圧比で１％以上となるように塩素を添加した雰囲気とすることを特徴とするガラス母材の製造方法。 - 特許庁

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