MANUFACTURING METHOD FOR PARTICLEARRAY SUBSTRATE 粒子配列基板の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING FINE PARTICLEARRAY PATTERN 微粒子配列パターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING ARRAY PARTICLE-CONTAINING FILM 配列粒子含有膜の製造方法 - 特許庁
PARTICLEARRAY MANUFACTURING METHOD AND ITS DEVICE 微粒子アレー作製方法およびその装置 - 特許庁
PRODUCTION METHOD FOR FINE PARTICLE ACCUMULATION BODY, AND FINE PARTICLE NARROW LINE ARRAY 微粒子集積体の製造方法及び微粒子細線アレイ - 特許庁
MICROCOLUMN ARRAY SYSTEM AND MICROCHANNEL PARTICLE STRUCTURE マイクロカラムアレイシステム及びマイクロチャネル粒子構造体 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING FINE PARTICLEARRAY BODY, THIN FILM ARRAY BODY AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM 微粒子配列体、薄膜配列体および磁気記録媒体の製造方法 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM LENS ARRAY AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE DEVICE USING THE SAME 荷電粒子線レンズアレイ及び該レンズアレイを用いた荷電粒子線露光装置 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM LENS ARRAY, EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE 荷電ビームレンズアレイ、露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁
LIQUID DROPLET DISCHARGE DEVICE, MANUFACTURING METHOD OF CELL ARRAY AND MANUFACTURING METHOD OF PARTICLEARRAY 液滴吐出装置、細胞アレイの製造方法及び粒子アレイの製造方法 - 特許庁
DEFLECTOR ARRAY, CHARGED PARTICLE LITHOGRAPHY APPARATUS, METHOD OF MANUFACTURING DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING DEFLECTOR ARRAY 偏向器アレイ、荷電粒子描画装置、デバイス製造方法、偏向器アレイの製造方法 - 特許庁
To provide a particlearray method, regularly arraying particles at desired spaces regardless of particle diameter, a film formed by the above particlearray method, and a particlearray holding method, keeping the particlearray even if heat treatment is performed. 粒子径にかかわらず、所望の間隔で粒子を規則的に配列させることができる粒子の配列方法、この粒子の配列方法によって形成された膜、および熱処理を行っても粒子配列を維持することができる粒子配列の保持方法を提供する。 - 特許庁
PARTICLEARRAY, ITS MANUFACTURING METHOD, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM 微粒子アレイ及びその製造方法並びに磁気記録媒体 - 特許庁
ELECTRICALLY CHARGED PARTICLE BEAM LENS ARRAY AND ELECTRICALLY CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE DEVICE USING THE SAME 荷電粒子線レンズアレイ、及び該荷電粒子線レンズアレイを用いた荷電粒子線露光装置 - 特許庁
NANO-PARTICLE ARRANGING METHOD USING CAPILLARY FORCE AND NANO-PARTICLE ARRAY MANUFACTURED THEREBY 毛管力を利用したナノ粒子配列方法およびそれによって製造されたナノ粒子アレイ - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC PARTICLEARRAY 磁性粒子アレイの作製装置および磁性粒子アレイの作製方法 - 特許庁
FINE PARTICLEARRAY, ITS MANUFACTURING METHOD AND DEVICE USING THE METHOD 微粒子配列体とその製造方法及びこれを用いたデバイス - 特許庁
To provide a production method of a particlearray structure, by which a particlearray structure having a high-quality colloidal crystal can be obtained in a short time. 短時間で良質なコロイド結晶を有する粒子配列体を得ることのできる粒子配列体の製造方法の提供。 - 特許庁
Preferably, the production method of a particlearray structure further includes a step of fixing the particles in the particlearray structure. この粒子配列体の製造方法においては、前記粒子配列体における粒子を固定化する工程をさらに経ることが好ましい。 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM PROJECTION ALIGNER AND BLANKING APERTURE ARRAY USED THEREBY 荷電粒子ビーム露光装置及びそこで使用するブランキング・アパーチャ・アレイ - 特許庁
MANUFACTURING DEVICE AND METHOD FOR PARTICLEARRAY, AND METHOD OF DETECTING TARGET SUBSTANCE 粒子アレイの製造装置及び製造方法と標的物質の検出方法 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM DEFLECTOR ARRAY, ALIGNER USING THE SAME, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 荷電粒子線偏向器アレイ、該アレイを用いた露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁
The obtained particlearray body is used as an etching mask to etch a thin film formed on a substrate to obtain a thin film array body. また、この微粒子配列体をエッチング用マスクとして、基板上に形成した薄膜をエッチングし、薄膜配列体を得る。 - 特許庁
Particle concentration is measured using only one kind of array of light emitting element out of the array of light emitting element 50A to 50C, the array of light emitting element 51A to 51C, or the array of light emitting element 52A to 52C of a concentration sensor 37. 粒子濃度の測定は、濃度センサ37の発光素子列50A〜50C、発光素子列51A〜51C、発光素子列52A〜52Cのうち1種の発光素子列だけを用いて行われる。 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD FOR ARRAY STRUCTURE, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD アレイ構造体の製造方法、荷電粒子ビーム露光装置並びにデバイス製造方法 - 特許庁
ELECTRON OPTICAL SYSTEM ARRAY, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE DEVICE USING IT AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 電子光学系アレイ、これを用いた荷電粒子線露光装置ならびにデバイス製造方法 - 特許庁
Fine particles are selectively adsorbed to the fine regions to obtain a fine particlearray body. この微小領域に微粒子を選択的に吸着させ、微粒子配列体を得る。 - 特許庁
ELECTRONIC-OPTICAL-SYSTEM ARRAY, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE APPARATUS USING IT, AND DEVICE-MANUFACTURING METHOD 電子光学系アレイ、これを用いた荷電粒子線露光装置ならびにデバイス製造方法 - 特許庁
Charged particles emitted from a charged particle beam source having a two-dimensional array shape illuminate a mask 3 by forming spots arranged in a two-dimensional array shape. 2次元アレイ状の荷電粒子線源1から出た荷電粒子2は、マスク3に、2次元アレイ状にスポットを形成し照明する。 - 特許庁
MEASURING APPARATUS FOR PARTICLE SIZE DISTRIBUTION AS WELL AS ARRAY DETECTOR USED THEREFOR AND ITS MANUFACTURE 粒径分布測定装置並びにこの装置に用いるアレイ検出器およびその製作方法 - 特許庁
ELECTRONIC OPTICAL SYSTEM ARRAY, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM PROVIDED THEREWITH, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE 電子光学系アレイ、これを用いた荷電粒子線露光装置ならびにデバイス製造方法 - 特許庁
DEFLECTOR ARRAY, ITS MANUFACTURING METHOD, AND CHARGED PARTICLE LINE EXPOSURE DEVICE USING THE SAME 偏向器アレイおよびその製造方法、ならびに該偏向器アレイを用いた荷電粒子線露光装置 - 特許庁
ELECTRON OPTICAL SYSTEM ARRAY AND PREPARING METHOD THEREOF, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE DEVICE AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 電子光学系アレイとこの作製方法、荷電粒子線露光装置ならびにデバイス製造方法 - 特許庁
ARRAY STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE- MANUFACTURING METHOD アレイ構造体及びその製造方法、荷電粒子ビーム露光装置並びにデバイス製造方法 - 特許庁
In an array of optical tweezers with a lattice constant larger than a size of a particle of interest, particles driven past the array by external force experience an additional interaction with traps of the array. 格子定数が対象とする粒子の寸法よりも大きい光ピンセットのアレイでは、外力によりアレイを通って駆動される粒子はアレイのトラップと別の相互作用を受ける。 - 特許庁
To fix particles to a substrate without dispersing the particles into a plating liquid, as regards a method for producing a particle-array substrate in which many particles are fixed to the surface of the substrate, a particle-array substrate, and a particle holder. 本発明は、基体の表面に多数の粒子を固定してなる粒子配列基体の製造方法、粒子配列基体および粒子保持具に関し、めっき液中に粒子を分散させることなく基体に粒子を固定することを目的とする。 - 特許庁
A particle detector is positioned to detect particles on the substrate which are approaching the lens array as a result of relative displacement between the lens array and the substrate. 粒子検出装置は、レンズ・アレイと基板との間の相対的変位により、レンズ・アレイに近づく基板上の粒子を検出するために位置する。 - 特許庁
In this particlearray manufacturing method for manufacturing the particlearray using the particlearray manufacturing device, the liquid containing the particles is held in the storing means, and the liquid is delivered to the optional position on the solid phase substrate to form the reaction area. また、本発明は、前記粒子アレイ製造装置を用いて粒子アレイを製造する方法であって、前記粒子を含む液体を前記収容する手段に保持し、前記固相基板上の任意の位置に前記液体を吐出することにより、反応領域を形成する、粒子アレイの製造方法を提供するものである。 - 特許庁
DEFLECTOR AND ITS MANUFACTURING METHOD, DEFLECTOR ARRAY, CHARGED PARTICLE BEAM PHOTOLITHOGRAPHY DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE 偏向器、偏向器アレイ、偏向器の作製方法、荷電粒子線露光装置およびデバイス製造方法 - 特許庁
ELECTRONIC-OPTICAL-SYSTEM ARRAY AND ITS MANUFACTURING METHOD, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE 電子光学系アレイ及びその製造方法、荷電粒子線露光装置、並びに、デバイスの製造方法 - 特許庁
To provide a multi-beam deflector array means for a particle beam exposure apparatus using a beam of charged particles. 荷電粒子ビームを使用する粒子ビーム露光装置用のマルチビーム偏向器アレイ手段を提供する。 - 特許庁
To provide a fine particle operation apparatus and a fine particle operation method for easily and quickly arranging a plurality of fine particles at array-like positions one by one. 複数の微粒子を1つずつ速やかに、簡単にアレイ状などの位置に配置させる微粒子操作装置及び操作方法を提供する。 - 特許庁