「pattern chain」を含む例文一覧(94)

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  • To provide a sugar chain fragmentation pattern analyzer for analyzing a fragmentation pattern of an ionized sugar chain.
    イオン化された糖鎖の断片化パターンを解析するための糖鎖断片化パターン解析装置を提供する。 - 特許庁
  • a basic stitch that is made by forming a ring with every stitch and producing a chain pattern, called chain stitch
    チェーンステッチという,1針ごとに輪を作り鎖状にする刺しゅうなどの基礎ステッチ - EDR日英対訳辞書
  • An original test pattern created by an automatic test pattern generating means (ATPG) is separated into a pattern for a scan chain and patterns except for the scan chain.
    自動テストパターン生成手段（ＡＴＰＧ）で生成されたオリジナルのテストパターンを、スキャンチェーン用のパターンとスキャンチェーン用以外のパターンとに分離する。 - 特許庁
  • To detect a fault on a scan chain using a random pattern.
    ランダムパターンを用いてスキャンチェーン上の故障を検出すること。 - 特許庁
  • SUGAR CHAIN FRAGMENTATION PATTERN ANALYZER AND ANALYZING METHOD
    糖鎖断片化パターン解析装置および糖鎖断片化パターン解析方法 - 特許庁
  • To provide a bit-compressed test pattern to a scanning chain of a circuit under a test, and to handle test patterns of different scanning chain lengths when a decompressed test pattern thereof is applied to the scanning chain.
    テスト中回路中の走査チェーンにビットの圧縮したテストパターンを提供し、これが解凍されたテストパターンを走査チェーンに適用するに際して、異なる走査チェーンの長さのテストパターンを扱えるようにする。 - 特許庁
  • In an automatic musical performance, the section chain data are read out and the section pattern data are reproduced with the section pattern data specified with the section switching data.
    自動演奏時にセクションチェインデータを読み出して、セクション切換データで指定されたセクションパターンデータを再生する。 - 特許庁
  • When a chain knitting yarn 21 is underlapped to laterally swing, in a time for forming the free portion 34 of a pattern yarn 22, the pattern yarn 22 is similarly underlapped as the chain knitting yarn 21.
    柄糸２２の遊離部分３４を形成する期間において、横振りさせるために鎖編糸２１をアンダーラップさせるとき、柄糸２２を鎖編糸２１と同様にアンダーラップさせる。 - 特許庁
  • To provide a scan base ATPG (automatic test pattern generation) test circuit and test method, and a scan chain reconfiguration method.
    スキャンベースＡＴＰＧテスト回路、テスト方法及びスキャンチェーン再配置方法を提供する。 - 特許庁
  • A decompressor 36 in the circuit 34 decompresses the compressed pattern to be applied to the scanning chain 26.
    回路３４内のデコンプレッサー３６は圧縮したパターンを解凍し、走査チェーン２６に適用する。 - 特許庁
  • For confirming the chain of traceability of a specific pattern, discrimination mark or number was given to all pattern pitches, chips and wafers.
    また、特定パターンのトレーサビリティ連鎖を確認できるようにするため、総てのパターンピッチ，チップ，ウェーハに識別符号または番号を施した。 - 特許庁
  • It was isolated from "wachigai," which is a chain-like yusoku design pattern (traditional design motifs of court nobles), and used as kuruma-mon (pattern of wheels or rings) in the Heian period.
    有職の「輪違い」という鎖型に連続した文様から抜き取られたもので、平安時代には車紋として用いられていた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • The automatic musical performance pattern data and section chain data corresponding thereto are recorded on a recording medium and supplied.
    自動演奏パターンデータとそれに対応するセクションチェインデータを記録媒体に記録して供給する。 - 特許庁
  • The sensitivity of the pattern forming material is further enhanced by using a chain transfer compound having a plurality of mercapto groups as the substituents to chain transfer.
    前記連鎖移動可能な置換基として、メルカプト基を複数有する連鎖移動化合物を用いることによって、パターン形成材料の感度がさらに向上する。 - 特許庁
  • To detect a failure in contact chain by effectively utilizing a testing pattern to conduct the voltage contrast test.
    ボルテージコントラスト検査を行う場合における検査パターンを有効に利用してコンタクトチェーンの不良を検出する。 - 特許庁
  • The block chain B has high affinity to the surface of the guide pattern 702 and the block chain B is selectively brought into contact with the surface of the guide pattern 702 when the block copolymer thin film 703 is separated in micro phase.
    また、ブロック鎖Ｂは、ガイドパターン７０２の表面への親和性が高く、ブロック共重合体薄膜７０３をミクロ相分離させた場合、ブロック鎖Ｂが選択的にガイドパターン７０２の表面に接触するものとする。 - 特許庁
  • Thereby, the probes 10 sequentially scan the upper wiring layer 4 exposed on the chip surface of the chain pattern of the through-holes 2.
    これにより、プローブ１０は、スルーホール２の連鎖パターンのチップ表面に露出した上層配線４を順次走査する。 - 特許庁
  • Two probes 10 move on the chip surface keeping a constant spacing d along the chain pattern of the through-holes 2.
    ２個のプローブ１０が一定間隔ｄを保持したまま、スルーホール２の連鎖パターンに沿ってチップ表面を移動する。 - 特許庁
  • A micro computer (ASIC) comprises a scan chain for the LSSD scanning test, and a clock generating circuit 10 which generates a shift clock which has each latch circuit of the scan chain latch a test pattern and a clock for performing the test which imports the output of an circuit to be tested corresponding to the test pattern, and supplies them to the scan chain.
    マイクロコンピュータ（ＡＳＩＣ）に、ＬＳＳＤスキャンテストのためのスキャンチェーンと、テストパターンをスキャンチェーンの各ラッチ回路にラッチさせるためのシフト用クロックおよびテストパターンに対する被テスト回路の出力を取り込むためのテスト実行用クロックを生成し、スキャンチェーンに供給するクロック生成回路１０とを備える。 - 特許庁
  • The member with a protective film for forming a resist pattern comprises: a member for forming a resist pattern having a surface containing an oxide and used by adhering to a resist film 2 for forming a resist pattern; and a protective film 4 formed on the member for forming the resist pattern which contains a straight-chain amphiphilic molecule containing a perfluoro polyether in a main chain and a hydroxyl group in a terminal group.
    保護膜付きレジストパターン形成用部材は、酸化物を含む表面を有し、レジストパターン形成のためレジスト膜に密着して用いられるレジストパターン形成用部材と、レジストパターン形成用部材上に形成され、直鎖状で主鎖がパーフルオロポリエーテルを含み末端基に水酸基を含む両親媒性分子を含む保護膜とを有する - 特許庁
  • To allow the temperature change of a DNA specimen (a reaction solution) to follow a predetermined temperature pattern in a PCR (polymerase chain reaction) method.
    ＰＣＲ法における所定の温度パターンに対して、ＤＮＡ検体（反応溶液）の温度変化を追従させること。 - 特許庁
  • Thereby, the free portion 34 of the pattern yarn 22 is knitted in without crossing the laterally swung portions 26, 28 of the chain knitting yarn 21.
    これによって柄糸２２の遊離部分３４は、鎖編糸２１の横振り部分２６，２８が重なることなく編込まれる。 - 特許庁
  • After calculating the chain resistance R by two terminal resistance measuring process, the current wave form is observed by chain pattern while scanning a laser beams for calculating the defect numbers x by the positive-negative frequency of the current wave form.
    ２端子抵抗測定法でチェーン抵抗Ｒを求めた後、レーザービームを走査しながらチェーンパターンでの電流波形を観測し、電流波形が正負に変化した回数から欠陥数ｘを求める。 - 特許庁
  • In a processing (ST3), according to a test pattern 33 for verification and the event 34, simulation to the virtual scan chain is executed.
    処理（ＳＴ３）では、検証用のテストパターン３３及び事象３４に従って、仮想スキャンチェーンに対するシミュレーションを実行する。 - 特許庁
  • A test pattern is inputted to a flip flop configuring a scan chain whose operating timing is confirmed, and the simulation only of a user circuit section is carried out.
    動作タイミングを確認したスキャンチェーンを構成するフリップフロップにテストパターンを入力し、ユーザ回路部のみのシミュレーションを行う。 - 特許庁
  • A DC power source 12 is connected between the pair of the pads 1 so that a constant current I_0 flows through the chain pattern of the through-holes 2.
    １対のパッド１間に直流電源１２が接続されており、スルーホール２の連鎖パターンに一定の電流Ｉ_０が通電される。 - 特許庁
  • Thereby, the free portion 34 of the pattern yarn 22 can enough be released without relating to the laterally swung portions 26, 28 of the chain knitting yarn 21.
    したがって鎖編糸２１の横振り部分２６，２８に関係なく、柄糸２２の遊離部分３４を十分に遊離させることができる。 - 特許庁
  • To provide a method for easily and accurately evaluating continuity between two terminals of a semiconductor device (specially, a contact chain evaluation pattern) in a wafer state.
    ウェハ状態で半導体装置（特にコンタクトチェーン評価パターン）の２端子間の導通を容易にかつ精度よく評価する方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a high quality image processor, capable of reducing the generation of the chain-shaped specific pattern, in a low density region using an error diffusion method.
    誤差拡散法において低濃度域の鎖状の特異模様の発生を抑えた高画質な画像処理装置を提供するものである。 - 特許庁
  • Thus, it is attainable to create an effective pattern model by properly selecting the chain affecting the positioning precision while validly excluding noise components.
    これにより、ノイズ成分を有効に排除しつつ、位置決めの精度を左右するチェーンを適切に選択して効果的なパターンモデルを作成できる。 - 特許庁
  • Impact of the disrupted supply chain of HDD products and parts on the world exhibits a rather different pattern to the case of automotive production.
    一方、タイからのHDD 製品や部品のサプライチェーン途絶が世界に与えた影響については、自動車の場合と様相を異にする部分がある。 - 経済産業省
  • Any one polymer block chain forms a pattern according to the first and second guides by microphase separation of the block copolymer caused by heat treatment.
    加熱処理によるブロック共重合体のミクロ相分離により、第１及び第２のガイドに従っていずれかのポリマーブロック鎖がパターンを形成する。 - 特許庁
  • After knitted, the free portion 34 of the pattern yarn 22 is permitted to displace on the thickness direction surface side without being restrained with crossing the laterally swung portions 26, 28 of the chain knitting yarn 21.
    編成後、柄糸２２の遊離部分３４は、鎖編糸２１の横振り部分２６，２８に拘束されず、厚み方向表側への変位が許容される。 - 特許庁
  • A block copolymer thin film 703 comprising a block copolymer (di-block copolymer) comprised of for example, two types of a block chain A and a block chain B is formed on a neutral layer 801 to which a guide pattern 702 is formed.
    ガイドパターン７０２が形成された中性層８０１上に、例えば２種類のブロック鎖Ａ及びブロック鎖Ｂから構成されたブロック共重合体（ジブロック共重合体）よりなるブロック共重合体薄膜７０３を形成する。 - 特許庁
  • In this test faciliting circuit, the LFSR is composed of scan flip-flops 107 arranged regularly in a scan chain 109, an output value from the inspected circuit 101 are pattern-compressed, and signature is scanned in the scan chain 109 as a pseudo-random number sequence.
    スキャンチェーン１０９中で規則的に配列されたスキャンフリップフロップ１０７を用いてＬＦＳＲを構成し、被検査回路１０１からの出力値をパターン圧縮し、シグニチャを擬似乱数列としてスキャンチェーンにスキャンインする。 - 特許庁
  • The mold 10 has a base material 11, a primer layer 12 and a pattern layer 13 comprising a film containing a perfluoropolymer, which has a reactive functional group and also has a perfluoroaliphatic ring structure in its main chain, and having a pattern on its surface in this order.
    基材１１と、プライマー層１２と、反応性官能基を有し主鎖にペルフルオロ脂肪族環構造を有するペルフルオロポリマーを含む膜からなり、表面にパターンが形成されたパターン層１３とをこの順に有するモールド１０。 - 特許庁
  • The vapor generated by the rod-like heaters 3 spreads toward the center and peripheral end of the mount 1 during the heating (indicated in a pattern with chain double-dashed lines with arrows).
    加熱時は、各棒状ヒータ３によって発生した蒸気が、載置台１の中心部及び周縁端側に向かって拡がる（矢印を付した２点鎖線で模式的に示す）。 - 特許庁
  • To provide a surface treatment agent for forming a pattern that offers sufficiently high oil/water repellency to an oil repellency area even when there is a short chain Rf group whose number of carbons is 6 or less.
    炭素数6以下の短鎖Rf基を有していても、撥液領域に充分に高い撥水撥油性を与えるパターン形成用表面処理剤の提供 - 特許庁
  • The magnetism-sensitive part 23 is formed of a serpentine magnetoresistance pattern 26 to obtain a predetermined magnetic reluctance value, with having a rectangular area as indicated by a chain line.
    感磁部２３は、所定の磁気抵抗値を得るため蛇行形状の磁気抵抗パターン２６にて構成され、点線で示すように長方形の領域を有している。 - 特許庁
  • The resist pattern is formed by using the liquid for a liquid immersion exposure process containing a straight chain methyl hydrogen silicone oil and an annular silicone oil at a wavelength range of 200 nm or smaller.
    200nm以下の波長範囲において、直鎖メチル水素シリコーンオイルまたは環状シリコーンオイルを含有する液浸露光プロセス用液体を用いてレジストパターンを形成する。 - 特許庁
  • This phosphorus-containing compound containing a vinyl monomer having a phosphorus compound structure in its side chain, a vinyl monomer having a carboxyl group in its side chain and a vinyl monomer having an aryl or ester group in its side chain as structural units, the resin composition containing the compound, the photosensitive film 1 obtained by using the resin composition, the method for forming the resist pattern and the printed wiring board are provide.
    側鎖にリン化合物構造を有するビニルモノマー、側鎖にカルボキシル基を有するビニルモノマー、側鎖にアリール基又はエステル基を有するビニルモノマーを構造単位として含むリン含有化合物、該化合物を含有してなる樹脂組成物及び樹脂組成物を用いた感光性フィルム１、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板。 - 特許庁
  • The pattern forming material has at least a photosensitive layer on a support, wherein the photosensitive layer contains a chain transfer compound having a plurality of substituents to chain transfer, a polymerization inhibitor, a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator.
    支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、連鎖移動可能な置換基を複数有する連鎖移動化合物、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物、並びに光重合開始剤とを含有することを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁
  • When the figures are variably displayed following the pseudo successive variation pattern, the number of the figures clear of a black bomb and a white bomb 204 is displayed as a chain number on a performance image, while a correlationship is set between the chain number and win or loss.
    擬似連続変動パターンにしたがって図柄を変動表示させるときには、演出画像上において黒爆弾や白爆弾２０４が除去された数が連鎖数として表示されるが、この連鎖数と当否の間には相関関係が設定されている。 - 特許庁
  • In the test of the semiconductor device, since the clock of the scan chain need not be longer than the cycle of the clock of the pattern generator, increase in the number of the clocks of the pattern generator necessary for the test is avoided, and thereby the test time is avoided from increasing.
    半導体装置のテストにおいて、スキャンチェインのクロックをパタン発生器のクロックの周期よりも長くする必要がないので、テストに必要なパタン発生器のクロック数の増加が回避され、それによりテスト時間が増加するのが回避される。 - 特許庁
  • A region surrounded by a chain double-dashed line is a required region 2a of the PWB 2 including the outlines of the FPC connectors 4A and 4B, leading-around of each pattern, and the shared FT pad 8.
    また、二点鎖線で囲まれた領域は、ＦＰＣコネクタ４Ａ，４Ｂの外形、各パターンの引き回し及び共用ＦＴパット８を含むＰＷＢ２の必要領域２ａとする。 - 特許庁
  • In the composite type embroidery machine equipped with a lock-stitch sewing machine and a chain-stitch sewing machine, an operation panel is provided with a display part 33, and an editing image 44 for the embroidery pattern data is displayed at the display part 33.
    本縫いミシンと環縫いミシンとを装備した複合型刺繍機において、操作パネルに表示部３３を設け、表示部３３に刺繍柄データの編集画面４４を表示する。 - 特許庁
  • The clear coating film containing the silicone compound or the polyfluorocarbon chain-containing compound is formed by spray coating or flexographic printing so as to have a pattern using coating properties.
    シリコーン化合物やポリフルオロカーボン鎖含有化合物を含有するクリア塗膜は、スプレー塗装またはフレキソ印刷によって塗料性状を利用しパターン模様化させて形成する。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive composition for obtaining a photosensitive layer having good tackiness and forming a permanent pattern having good profile and adhesion by specifying the content of at least one vinyl copolymer having a (meth)acryloyl group and an acidic group in a side chain in a binder containing the vinyl copolymer, a pattern forming material, and a pattern forming apparatus and a pattern forming method using the pattern forming material.
    側鎖に（メタ）アクリロイル基及び酸性基を有するビニル共重合体の少なくとも１種を含むバインダーにおいて、前記ビニル共重合体の含有量を規定することにより、タック性の良好な感光層が得られ、かつ、形状及び密着性が良好な永久パターンを形成可能な感光性組成物及びパターン形成材料、並びに前記パターン形成材料を用いたパターン形成装置及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁
  • The solvent composition for pattern printing of a plasma display is a solvent composition which is used when forming an element pattern constituting the plasma display by a printing method, and includes a compound in which one of the two terminal alkyl groups of dipropylene glycol dialkyl ether is a methyl group, and the other is a 3C or 5C straight-chain or branched-chain alkyl group.
    本発明のプラズマディスプレイパターン印刷用溶剤組成物は、プラズマディスプレイを構成する素子パターンを印刷法により形成する際に使用する溶剤組成物であって、ジプロピレングリコールジアルキルエーテルの２つの末端アルキル基の一方がメチル基であり、もう一方が炭素数３又は炭素数５の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基である化合物を含むことを特徴とする。 - 特許庁
  • The 2nd storage area comprises succeeding data in 1-byte, a 1st address, '0' when other pattern taken by a succeeding 1 byte does not exist, and an address in chain connection to other 2nd storage area storing data of other pattern when existing.
    第２の記憶領域は、後続する１バイトのデータと、第１のアドレスと、後続する１バイトの取り得る他のパターンが存在しない場合には０、存在する場合には、他のパターンのデータを記憶する他の第２の記憶領域とチェーン接続するためのアドレスで構成される。 - 特許庁
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