When the matching (pattern matching) of the input data with any first division data already stored in a first pattern table is not detected, the analyzing part adds the input first division data to a first pattern table and the first analysis buffer. 同部は、入力データが、当該第1の区間データが第1のパターン表にすでに格納されたいずれかの第1の区間データとの一致(パターン一致)を検出しないと、入力した第1の区間データを第1のパターン表および第1の解析バッファに追記する。 - 特許庁
The division rule estimation processing part 14 estimates the optimum division rules in a feature space for discriminating the propriety of the collation pattern based on the analyzed result. 分割ルール推定処理部14は、該解析結果に基づいて照合パターンの正当性を判定するための特徴空間における最適な分割ルールを推定する。 - 特許庁
To provide a liquid crystal display device, enlarging a viewing angle by forming pattern structure for multiplex division and simplifying processes for forming patterns for division alignment. 多重分割のためのパターン構造を形成して視野角を拡大し、分割配向のためのパターンを形成する工程を単純化した液晶表示装置を提供する。 - 特許庁
An image generating section converts the divisionpattern data as vector data into raster data and successively writes the data into a bit map memory. イメージ生成処理部は、ベクタデータである分割パターンデータをラスタデータに変換し、順次ビットマップメモリへ書き込む。 - 特許庁
The second copper foil layer 21 between the division slits 15 forms a conductor pattern for each piezoelectric vibrator. そして、前記分割スリット15の間の第二銅箔層21により、圧電振動子毎の導体パターンが形成される。 - 特許庁
An area of a determination pattern is divided into two or more areas using the area division central point under the same conditions as the step of selecting the representative point of the standard pattern, and a determination pattern pixel position at the maximum distance from the area division central point is selected as a representative point of the determination pattern for each divided area. 被判定パターンの領域を、標準パターン代表点選定ステップと同じ条件で領域分割中心点を用いて2つ以上の領域に分割し、分割領域ごとに領域分割中心点から最大距離にある被判定パターン画素位置を被判定パターン代表点として選定する。 - 特許庁
The point number in grouping is divided by the minimum point number constituting the group for each column and each row to make the basic number of division, and the divisionpattern for dividing the coating image is selected with the minimum basic number of division for column and row as each number of division (S208 and S210). 行および列毎にグループを構成する最小のポイント数でグループ分けの際のポイント数を除して分割基礎数とし、行および列の最小の分割基礎数を各々の分割数として塗装画像を分割する分割パターンを選択する(S208,S210)。 - 特許庁
This building board 10 forming a pattern by a paint film on its surface is provided, and a projecting weir part 15 is formed along an outer peripheral fringe of a pattern part 14 desiring clear division from the other pattern by colors. 表面に塗膜による模様を形成した建築板10であって、他の模様と明確に色分けされることを望む模様部分14の外周縁に沿って凸状堰15が形成されている。 - 特許庁
A pattern recognizing device 1 is provided with a collation pattern acquiring part 11, recognition pattern holding part 12, statistical stochastic density processing part 13, division rule estimation processing part 14 and recognized result processing part 15. パターン認識装置1は、照合パターン取得部11、認識パターン保持部12、確率密度統計処理部13、分割ルール推定処理部14、認識結果処理部15を具備して構成される。 - 特許庁
By controlling the distribution of the dummy pattern PD1 and PD2, the division in the device pattern PM kept as minimum to make the pattern density in a plurality of complementary masks almost equal to one another. ダミーパターンPD1,PD2の振り分けを調整することにより、デバイス本体パターンPMの分割を最小限に保持し、複数のコンプリメンタリーマスクにおけるパターンの密度をほぼ等しくする。 - 特許庁
On the other hand, when the dot pattern addition processing division 208 determines that the sheet is a backing sheet, it does not add the dots to the image data, but supplies the image data, which has been supplied from an intermediate processing division 207, to the PWM processing division 209 as it is. 一方、ドットパターン付加処理部208は、用紙が裏紙であると判断すると、ドットを画像データに付加せずに、中間調処理部207から供給された画像データをそのままPWM処理部209に供給する。 - 特許庁
The division is executed in the preset division points, when preparing the divisionpattern, and a relational expression model in each local area calculates an undetermined coefficient, by carrying out matrix computation reflected with a weight index in response to the quality. 分割パターンを作成する際に、予め設定した分割点で分割を行い、また各局所領域における関係式モデルは、品質に応じた重み指標を反映した行列演算を行うことで未定係数を算出する。 - 特許庁
An area of a standard pattern is divided radially into two or more areas from an arbitrary area division central point, and a standard pattern pixel position at the maximum distance from the area division central point is selected as a representative point of the standard pattern for each divided area. 標準パターンの領域を、任意の点である領域分割中心点から放射線状に2つ以上の領域に分割し、分割領域ごとに領域分割中心点から最大距離にある標準パターン画素位置を標準パターン代表点として選定する。 - 特許庁
To provide an exposure method and an exposure device that can suppress uneven exposure upon carrying out division exposure with a mask pattern. マスクのパターンを分割露光する際に、露光ムラを抑えることができる露光方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁
That is, the binary data is permitted to be arranged only at a pixel position indicated by black in the divisionpattern of the nozzle array. すなわち、2値データは、ノズル列の分割パターンにおいて黒で示される画素位置にのみ配置することが許容される。 - 特許庁
To perform correction with high accuracy by optimizing the microstep division number of an optical motor when a pattern is read in by HS. HSのパターン読み込み時に、光学系モータのマイクロステップ分割数を最的化することで、高精度に補正を行う。 - 特許庁
To improve a pattern in joining accuracy, in an exposure method of division transfer system in which an electron beam is used. 電子線を用いたいわゆる分割転写方式の露光方法において、パターンのつなぎ合わせ精度を向上させる。 - 特許庁
In the first analysis, the changing quantity of a pattern and a stress concentration generated by the opening of a divisionpattern are analyzed based on a first analysis model (step ST13). 第1の解析では、第1の解析モデルに基づいて分割パターンの開口により発生するパターン変位量および応力集中が解析される(ステップST13)。 - 特許庁
A template of the circuit pattern or worked pattern, and mesh division (one-dimensional/two-dimensional/parallel use of the both) for the template are used as a PM model used for the image processing. この画像処理で用いられるPMモデルとして、回路パターンまたは加工パターンのテンプレート、当該テンプレートのメッシュ分割(1次元/2次元/両者併用)が用いられる。 - 特許庁
With this structure, even if a design pattern has a large area (for example, larger pattern than a size of the membrane), the complementary division patterns can be arranged in the membrane group of the stencil mask. これにより、設計パターンが大面積(例えば、メンブレンのサイズより大きいパターン)であっても、相補分割パターンをステンシルマスクのメンブレン群に配置することが出来る。 - 特許庁
Division is performed by the combination form (numerical value of pattern) of the win/loss image and the basic fluctuation pattern or is performed by a random number in the case that the propriety image is a race or a game. 振り分けは基本的変動パターンと当否画像の組み合わせ態様(図柄の数値)による、あるいは当否画像がレースやゲームのような場合は乱数により行う。 - 特許庁
A motion searching unit 102 performs motion search of images for each macroblock from an image input unit 101 while changing the reference images for each of division units, which are formed by dividing the screen according to divisionpattern information from a division designating unit 104 or 105. 画像入力部101からのマクロブロック毎の画像を、動き探索部102が分割指定部104あるいは105からの分割パターン情報に従って分割される分割単位毎に参照画像も変更しながら動き探索を行う。 - 特許庁
Each circuit board 2 has a mounting pattern part 6 for mounting the chip parts 5 and a notch part 7 entering the inside of the circuit board 2 from the division line 3 so as to correspond to the mounting pattern 6 arranged adjacent to the division line 3. 各回路基板2は、チップ部品5を取り付けるための実装用パタン部6と、分割線3に近接して配された実装用パタン部6と対応する様に分割線3から回路基板2の内側に入る切欠部7とを有している。 - 特許庁
When the sheet on which the image is to be formed is not a backing sheet, a dot pattern addition processing division 208 generates dots of a layout pattern which represents the attribution information of the image forming process, and adds it to the image data and supplies it to a PWM processing division 209. ドットパターン付加処理部208は、画像が形成される用紙が裏紙でない場合には、画像形成処理の属性情報を表すような配置パターンのドットを生成し、これを画像データに付加してPWM処理部209に供給する。 - 特許庁
In the process, an area of a drawing pattern before division is obtained in a first area calculation circuit 30, the total of an area of each output pattern after division is obtained in a second area calculation circuit 34 and the obtained two kinds of area are compared. その際、第1の面積計算回路30において分割前の描画パターンの面積を求め、第2の面積計算回路34において分割後の各出力図形の面積の累計を求め、求められた2種の面積を比較する。 - 特許庁
Collation concerning whether input data coincides with register data or not is performed by dividing the writing speed change pattern generated from register data into a plurality of divisions, specifying a part in the writing speed change pattern of input data which is most analogous to the pattern of the division and also the division of the part at each division and paying attention to the position relation of the most analogous divisions between the writing speed change patterns. 入力データが登録データと一致するか否かの照合は、登録データから生成した筆速変化パターンを複数の区間に区切り、各区間毎に、その区間のパターンと最も類似する入力データの筆速変化パターン中の部分、その部分の区間を特定することで、筆速変化パターン間で最も類似している区間の位置関係に着目して行う。 - 特許庁
TRANSMITTER-RECEIVER APPARATUS FOR FAST FREQUENCY HOPPING BY CYCLIC FREQUENCY PATTERN IN ORTHOGONAL FREQUENCY DIVISION MULTIPLE CONNECTION SYSTEM 直交周波数分割多重接続システムで循環周波数パターンによる高速周波数ホッピングのための送受信装置 - 特許庁
In a second exposure process, the region exposed during the first exposure process is doubly exposed at the second divisionpattern portion 20. 第二露光工程において、第一露光工程で露光された露光領域に第二分割パターン部20が二重露光される。 - 特許庁
The third pattern is services companies doing business in Asia together with manufacturers, a division of work meant to reduce their overall project costs and enhance the project's productivity. ③製造業と同様に分業を行い、事業全体のコスト削減と、生産性向上を図るケース、などが考えられる。 - 経済産業省
When constituting a mask 10 for exposure whereby a desired pattern is exposed and transcribed to an exposed substance, the desired pattern is divided into a plurality of after-division patterns A, B in response to differences between the inspection accuracies required by the pattern portions constituting the desired pattern. 被露光体上に所望パターンを露光転写するための露光用マスク10を構成するのにあたり、前記所望パターンを構成するパターン部分が要求する検査精度の違いに応じて当該所望パターンを複数の分割後パターンA,Bに分割する。 - 特許庁
The position with the highest correlative value is deemed the second positioning mark of the measuring pattern, and the mutual second position marks of the measuring pattern and the mask patterns are aligned, so that the mask pattern and the measuring pattern are aligned by each division region (step 109). 最も相関値が高い位置を被測定パターンの第2の位置決めマークと見なし、被測定パターンとマスタパターンの互いの第2の位置決めマークの位置を合わせることにより、マスタパターンと被測定パターンの位置合わせを分割領域毎に行う(ステップ109)。 - 特許庁
In the pattern piece group determination part 19, the divisionpattern piece group table corresponding to the number of holding balls and the result of discriminating whether or not it is winning in a winning determination part 18 is selected and a pattern piece group to be displayed at a pattern display device 4 is determined by drawing. 図柄片群決定部19では、保留球の個数と、当たり決定部18での当たりか否かの判定結果とに対応する分割図柄片群テーブルが選択され、図柄表示装置4に表示させる図柄片群が抽選によって決定される。 - 特許庁
To make possible the automatic complementary division of an original pattern shape difficult to the formed on a charged particle beam transmission mask on a computer and to avoid the occurrence of a micro figure, an acute figure, or the like, by eliminating useless division at the time of complementary division. 荷電粒子線透過マスク上で形成困難な原パターン形状を、コンピュータ上で自動的に相補分割することを可能にするとともに、その相補分割の際に無駄な分割を無くして微小図形や鋭角図形等の発生を回避する。 - 特許庁
A local frequent pattern totaling part determines as a frequent pattern a partial structure pattern which is common to all the subsets output in the second division number Q_1 of the divisions to generate a frequent pattern set F_q, and determines other partial structure patterns as incomplete patterns to generate an incomplete pattern set Sq. そして、局所頻出パターン集計部は、第2の分割数Q_1個に振り分けて出力される部分集合の全てに共通する部分構造パターンを頻出パターンとして判別して頻出パターン集合F_qを生成し、それ以外の部分構造パターンを未完パターンと判別して未完パターン集合S_qを生成する。 - 特許庁
Then the accuracy is improved and the time is shortened about the DP matching by means of the feature points the extracted by employing both an equal-division method and an angle method and by means of the standard pattern of every sub-pattern. また、等分割法と角度法とを併用して抽出した特徴点とサブパターン毎の標準パターンとによってDPマッチングの精度向上と時間短縮を図る。 - 特許庁
To provide a drawing preparing device for automatically generating a hatching pattern for making a boundary or division conspicuous on a drawing such as map. 地図などの図面において境界や区画を目立たせるようなハッチングパターンが自動的に生成される図面作成装置を提供する。 - 特許庁
The wiring pattern is expressed with sides extended to an X direction or Y direction, and the wiring pattern is divided into the rectangular patterns by the division part based on extended lines obtained by extending each side of the wiring pattern to the inside of the pattern, wherein the X direction is orthogonal to the Y direction. 前記配線パターンは、X方向又はY方向に延びる辺によって表現され、前記分割部は、前記配線パターンの各辺をパターン内側に延ばした延長線により、前記配線パターンを前記矩形パターンに分割し、前記X方向と前記Y方向とは直交する方向である。 - 特許庁
Base stations 11, 12 divide the system band into a plurality of bands using the divisionpattern determined by the divisionpattern server 10 and allocate the bands, as pilot transmission frequency bands, to mobile stations 15-20 accommodated in the cells 13, 14 constituting the base stations 11, 12. 基地局11,12は、分割パターンサーバ10によって決定された分割パターンを用いてシステム帯域を複数の帯域に分割し、基地局11,12の構成するセル13,14で収容する移動局15〜20に対して、帯域をパイロット送信周波数帯域として割り当てる。 - 特許庁
A scene index calculation section 255 uses the average of luminance in each region on the taken image divided by a region division section 253, a scene frequency pattern, and an evaluation value conversion table to calculate a division region evaluation value. シーン指数算出部255は、領域分割部253により分割された撮像画像上の各領域の輝度の平均値と、シーン頻度パターンと、評価値変換テーブルとを用いて分割領域評価値を算出する。 - 特許庁
A time-division-duplex (TDD) direction cellular communication system (100) is arranged so as to support up and down link communications allocated to a unicast time division duplex (TDD) direction communication using a reuse pattern of a single cell identifier. 時分割双方向(TDD)セルラ通信システム(100)は、単一セル識別子の再利用パターンを使用するユニキャスト時分割双方向(TDD)通信に割り当てられた上りリンク及び下りリンク通信をサポートするように構成される。 - 特許庁
This resistor network creation device is provided with, a division part for acquiring data of a wiring pattern including its connecting location information with a via to divide the wiring pattern into rectangular patterns; a divisionpattern processing part for setting nodes and resistors so that they correspond to the divided rectangular patterns; and an output part for outputting the positions of the set nodes and resistors as information for specifying a resistor network. ビアとの接続位置情報を含む配線パターンのデータを取得し、前記配線パターンを矩形パターンに分割する分割部と、分割後の前記矩形パターンに対応するように、ノード及び抵抗を設定する分割パターン処理部と、設定したノード及び抵抗の位置を、抵抗網を特定する情報として出力する出力部と、を具備する。 - 特許庁
To provide a drawing preparing device, with which a pattern like a picture pattern to be used for making a boundary or division on a drawing such as map is automatically generated by simple arithmetic and a user can easily register a new pattern. 地図などの図面において境界や区画を明確にするために使用される模様的なパターンが簡単な演算で自動的に生成され、かつユーザが新しいパターンを容易に登録できる図面作成装置を提供することである。 - 特許庁
A transparent electrode layer 2 formed on a transparent substrate 1 is divided into display pattern parts 2Aa-2Ae for a luminescence display and reserve pattern parts 2Ba-2Bc corresponding to virtual division lines 7a-7c of a metal electrode layer 6, and pattern formation is carried out. 透明基板1上に形成された透明電極層2を、発光表示用の表示パターン部2Aa〜2Aeと、金属電極層6の仮想分割ライン7a〜7cに対応する予備パターン部2Ba〜2Bcとに分けて、パターン形成する。 - 特許庁
Whether each division area of each fault is an abnormal part is determined by an abnormality determination part 28, and the pattern of the abnormal part is generated for each fault by a pattern generation part 30. 異常判定部28によって、各断層の各分割領域について、異常箇所であるか否かを判定し、パターン生成部30によって、異常箇所のパターンを各断層について生成する。 - 特許庁
The dummy wiring pattern 16d is divided by a division line 16c in such a manner that a part of the dummy wiring pattern 16d is electrically separated from the sealing material 16s and to be in contact with a liquid crystal. そして、ダミー配線パターン16dの一部がシール材16sから電気的に分離されると共に液晶に接するように、分割線16cによって、ダミー配線パターン16dが分割されている。 - 特許庁
A part except for a division comprising heater pattern out of SOI layers in the SOI substrate used for formation of a thermal type flow sensor S1 is selectively oxidized to form silicon oxide film 13 around the heater pattern. 熱式流量センサS1を形成するために用いるSOI基板のSOI層のうちヒータパターンとなる部分以外を選択酸化し、ヒータパターンの周囲にシリコン酸化膜13を形成する。 - 特許庁
A size of a subfield and a width of a pole in a stencil mask are input as parameters, a division line for dividing a pattern data with keeping a hierarchical structure into the subfields is marked, and the pattern is divided into the subfields. ステンシルマスクのサブフィールドのサイズと支柱の幅をパラメータ入力し、階層構造を保持したままのパターンデータをサブフィールドに分割するための区切り線を入れ、上記パターンをサブフィールドに分割する。 - 特許庁
The recognized result processing part 15 outputs the recognized result by discriminating the propriety of the collation pattern based on the estimated division rules. 認識結果処理部15では、推定された分割ルールに基づいて照合パタンの正当性を判定して認識結果の出力を行う。 - 特許庁
In the drawing processing, the run-length data 212 is stripped, or directly corrected on the basis of each divisionpattern, so as to reconfigure strip data 212a. 一方、描画処理ではストリップ、つまり分割パターン単位でランレングスデータ212が直接補正されてストリップデータ212aが再構築される。 - 特許庁
The alignment film of the counter substrate, the protruding pattern 40 for the alignment division and the columnar spacer 42 are formed from one material into one body. 対向基板の配向膜、配向分割用の突起パターン40、および柱状スペーサ42は、同一材料により一体に形成されている。 - 特許庁