「pattern generator」を含む例文一覧(593)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 次へ＞- RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, NEW COMPOUND AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤 - 特許庁 - The CRC checker prepopulates the CRC generator for a unique pattern.
ＣＲＣチェッカは、ユニークパターンのためにＣＲＣジェネレータを予め実装する。 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND, AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および酸発生剤 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, NEW COMPOUND AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND, AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤 - 特許庁 - RESIST MATERIAL CONTAINING NOVEL PHOTOACID GENERATOR AND METHOD FOR FORMING PATTERN
新規光酸発生剤を含有するレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - The scrambler 54 scrambles the test pattern from the pattern generator 52 at a compliance test using a compliant pattern.
スクランブラ５４は、コンプライアントパターンを用いてテストを行うコンプライアンステスト時に、パターンジェネレータ５２からのテストパターンに対してスクランブル処理を行う。 - 特許庁 - The leg pattern editor comprises a walking pattern generator and a motion stabilizer which are the same as those loaded in the real robot.
脚軌跡エディタは、実ロボットに搭載されているものと同じ歩行パターン・ジェネレータとモーション・スタビライザを備える。 - 特許庁 - A pattern generator generate the copy prevention pattern so that a latent image is embedded only in the detected image area in a mask pattern wherein the dot pattern is embedded.
パターン生成部はドットパターンが組み込まれたマスクパターンに対して検出された画像領域内にのみ潜像画像が埋め込まれるように複写防止パターンを生成する。 - 特許庁 - Furthermore, a multi-stage interleave pattern generator with an optional pattern length is configured by combining a plurality of multi-stage interleave pattern generators with different kind of configurations and pattern length.
更にこの構成の種類、パターン長の異なるマルチステージ・インタリーブ・パターン生成器を複数組み合わせて、任意のパターン長のマルチステージ・インタリーブ・パターン生成器を構成する。 - 特許庁 - NEW SULFONIC ACID SALT AND DERIVATIVE THEREOF, PHOTOACID GENERATOR, AND RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE PHOTOACID GENERATOR
新規スルホン酸塩及びその誘導体、光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁 - COMPOUND, POLYMER COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
化合物、高分子化合物、酸発生剤、レジスト組成物、レジストパターン形成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND NOVEL COMPOUND AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND, AND PHOTOBASE GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および光塩基発生剤 - 特許庁 - POLYMERIC COMPOUND, ACID GENERATOR, POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD
高分子化合物、酸発生剤、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - The enhanced pseudo-random pattern generator is disclosed to output a pseudo-random pattern and the trigger signal.
本発明は、擬似ランダムパターンとトリガ信号とを出力する擬似ランダムパターン発生装置に改良を加えたものである。 - 特許庁 - The scanned pattern is put on the pattern sent from the generator 24 by a connecting device 26 and then printed out.
走査されたパターンとテストパターン発生装置２４からのパターンとを結合装置２６で重ね合わせて、印刷出力する。 - 特許庁 - A pattern generator 33 generates a pseudo random pattern and outputs it to an oscillator 31 and a switching unit 25 of a suppression part 20.
パターンジェネレータ３３は擬似ランダムパターンを発生し、発振器３１と抑圧部２０の切り替え器２５とに出力する。 - 特許庁 - Pattern generators are reduced to one set, and two scanning electromagnet power sources can be controlled by one pattern generator.
パターン発生装置を１台に削減し、１つのパターン発生装置で２台のスキャン電磁石電源を制御できる。 - 特許庁 - Operations for reading out the selected test pattern data from the test pattern memory, and writing it into the test pattern signal generator are controlled by a control unit.
選択されたテストパターンデータをテストパターンメモリから読み出す動作と、それをテストパターン信号発生器に書き込む動作は、制御部によって制御される。 - 特許庁 - A standard pattern generator 10 generates the standard pattern that is collated with an on and off pattern for sequencer 2 contact group to which an attention is paid.
基準パターン作成部１０は、シーケンサ２の接点のうち着目している接点群のオンオフのパターンと照合される基準パターンを作成する。 - 特許庁 - TEST PATTERN GENERATOR, TEST CIRCUIT TESTER, TEST PATTERN GENERATION METHOD, TEST CIRCUIT TESTING METHOD, TEST PATTERN GENERATION PROGRAM, TEST CIRCUIT TESTING PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM
試験パターン生成装置、テスト回路試験装置、試験パターン生成方法、テスト回路試験方法、試験パターン生成プログラム、テスト回路試験プログラム、および記録媒体 - 特許庁 - To provide a pattern generator capable of shortening a time for loading a pattern data into a storing part by reducing the circuit scale of the storing part by reducing the pattern data.
パターンデータを削減することで記憶部の回路規模を縮小し、記憶部にロードする時間を短縮することが可能なパターン発生器を実現する。 - 特許庁 - To provide an evaluation method for mask pattern capable of evaluating accurately a proximity-effect by considering a change in the amount of flare deteriorating the dimension of the circuit pattern, a pattern correction method and a mask pattern generator.
パターン評価方法、パターン補正方法及びパターン発生装置に関し、回路パターン寸法を劣化させるフレア量変化を考慮して近接効果を精密に評価する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor testing device provided with a pattern generator capable of bringing a pattern storage capacity stored in the pattern generator equivalently into phase number times of an interleave, in a sequential pattern generation mode wherein a pattern generation mode is not accompanied with a repeating loop and the like.
パターンの発生形態が繰り返しループ等を伴わないシーケンシャルなパターン発生形態の場合において、パターン発生器に格納できるパターン格納容量を等価的にインタリーブの相数倍にすることができるパターン発生器を備える半導体試験装置を提供する。 - 特許庁 - INTERACTIVE TOY, REACTION BEHAVIOR GENERATOR AND REACTION BEHAVIOR PATTERN GENERATION METHOD
対話型玩具、反応行動パターン生成装置および反応行動パターン生成方法 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND ACID GENERATOR
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物およびその製造方法、酸発生剤 - 特許庁 - NONIONIC PHOTOSENSITIVE COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
非イオン性感光性化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁 - The logic BIST circuit 10 has a pattern generator 12 generating input data.
ロジックＢＩＳＴ回路（１０）は、入力データを生成するパターン生成器（１２）を有する。 - 特許庁 - The lighting bodies 15 are subjected to lighting control by a lighting pattern from a lighting signal generator.
照明体１５は、点灯信号発生器からの点灯パターンにより点灯制御される。 - 特許庁 - CHEMICAL COMPOUND FOR PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION BY USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERN
光酸発生剤用化合物及びそれを用いたレジスト組成物、パターン形成方法 - 特許庁 - To obtain a signal generator for generating a pairing wipe pattern and superior in flexibility.
ペアリング・ワイプ・パターンを発生させるための、融通性に優れた信号ジェネレータを提供する。 - 特許庁 - A texture RAM address generator receives calculation results therein to select the optimum pattern.
テキスチャーＲＡＭアドレス発生器は、これらの計算結果を受け、最適なパターンを選択する。 - 特許庁 - PHOTO ACID GENERATOR, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN FROM THE SAME
光酸発生剤、化学増幅レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - A print image generator puts the generated copy prevention pattern and an original image together.
印刷画像生成部は、生成された複写防止パターンと原稿画像とを合成する。 - 特許庁 - PHOTOBASE GENERATOR, PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING RELIEF PATTERN AND ARTICLE
光塩基発生剤、感光性ポリイミド樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法並びに物品 - 特許庁 - To provide a system and a method to modify the spatial response of a pattern generator.
パターンジェネレータの空間的な応答を変更するためのシステム及び方法を提供する。 - 特許庁 - A pattern generator 30 includes an address source for generating an external packet memory address signal.
パターン発生器３０は外部パケットメモリアドレス信号を発生させるアドレスソースを含む。 - 特許庁 - The test aid device comprises a test pattern memory memorizing a plurality of test pattern data corresponding to a plurality of test items, and a test pattern signal generator which writes test pattern data selected from among a plurality of the test pattern data.
テスト補助装置は、複数のテスト項目に対応した複数のテストパターンデータを記憶するテストパターンメモリと、複数のテストパターンデータの中から選択されたテストパターンデータを書き込テストパターン信号発生器を有する。 - 特許庁 - The system includes a pattern generator 104 with multiple pattern generating devices, a projection system 108 for directing light from the pattern generator 104, and an aperture located at or near an object window 210.
複数のパターン生成装置を備えたパターンジェネレータ１０４と、パターンジェネレータ１０４からの光を配向する投影システム１０８と、対象物ウィンドウ２１０のところにまたはその近くに配置されたアパーチャが設けられている。 - 特許庁 - ACTIVE ENERGY RAY-SENSITIVE BASE GENERATOR, ACTIVE ENERGY RAY-SENSITIVE BASE GENERATOR COMPOSITION, BASE REACTIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
感活性エネルギー線塩基発生剤、感活性エネルギー線塩基発生剤組成物、塩基反応性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁 - A pattern generator PG generates a pattern signal S_PTN that describes a test signal S1 to be applied to a DUT1.
パターン発生器ＰＧは、ＤＵＴ１に供給すべき試験信号Ｓ１を記述するパターン信号Ｓ_ＰＴＮを発生する。 - 特許庁 - To provide a pattern data generator which can prepare various types of test pattern data as required by a user through a simple arrangement.
簡単な構成で、使用者の希望に応じて種々のテストパターンデータを用意できるテストパターンデータの生成装置を提供する。 - 特許庁 - To enable semiconductor testing to be performed at a desired low-speed rate time length and cycle ratio by means of a semiconductor testing device equipped with a high-speed pattern generator and a low-speed pattern generator.
高速パターン発生器と、低速パターン発生器とを備えた半導体試験装置で、希望する低速レート時間長とサイクル比とで半導体試験を行なえるようにする。 - 特許庁 - A center generator 13 in this pachinko machine is provided with a main pattern display apparatus 21 and a sub pattern display apparatus 23, and as shown in figure (a), a game pattern 22 displayed widely in the main pattern display apparatus 21 is fluctuated.
パチンコ機のセンター役物１３に、メイン図柄表示器２１とサブ図柄表示器２３を設け、（ａ）に示すように、メイン図柄表示器２１に大きく表示したゲーム用図柄２２を変動させる。 - 特許庁 - A pattern selecting part 104 selects the concentration pattern from the pattern storage part 103 based on the boundary line information, and a dot image generator 105 generates a gradation image by attaching the concentration pattern to each boundary line.
パターン選択部104では、境界線情報に基づいてパターン記憶部103から濃度パターンを選択し、ドット画像発生器105で境界線毎に濃度パターンを貼り付けてグラデーション画像を生成する。 - 特許庁 - A woven pattern generator generates a woven pattern image using a selected image and back ground image, and a controller displays the generated woven pattern as a preview picture on a woven pattern image setting picture.
地紋生成部は選択されたイメージ画像と背景画像を用いて地紋画像を生成し、制御部は生成された地紋画像を地紋画像設定画面上のプレビュー画面に表示させる。 - 特許庁 - A film particle basic pattern 86 in which histogram of random noise is regarded as almost the same as film particle basic pattern information 53 is generated by a basic pattern generator 81.
基本パターン生成装置８１によって、ランダムノイズのヒストグラムがフィルム粒子基本パターン情報５３とほぼ同一とされたフィルム粒子基本パターン８６が生成される。 - 特許庁 - Thereby, the interval between the heat generator 81 and each wiring pattern 83a and the interval between each wiring pattern 81a and each wiring pattern 83a can be enlarged.
これにより、発熱体８１と各配線パターン８３ａとの間隔と、各配線パターン８１ａおよび各配線パターン８３ａ間の間隔とを大きくすることができる。 - 特許庁
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