「pattern intensity」を含む例文一覧(535)
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レーザビーム強度パターン形成装置 - 特許庁 - LIGHT INTENSITY CALCULATING METHOD FOR PATTERN
パターンの光強度計算方法 - 特許庁 - To provide an excellent low beam luminous intensity distribution pattern and high beam luminous intensity distribution pattern.
良好なロービームの配光パターン、ハイビームの配光パターンが得られる。 - 特許庁 - The adjustment unit adjusts irradiation intensity of the pattern light.
調整部は、パターン光の照射強度を調整する。 - 特許庁 - To improve the intensity of a signal obtained from an FG pattern.
ＦＧパターンから得られる信号の強度を改善する。 - 特許庁 - To reduce back ground light intensity and to suppress light intensity contrast of a pattern to be transferred from lowering.
バックグラウンド光強度を低下させ、被転写パターンの光強度コントラスト低下を抑制する。 - 特許庁 - LIGHT INTENSITY DISTRIBUTION SIMULATION SYSTEM, LIGHT INTENSITY DISTRIBUTION SIMULATION METHOD, MASK PATTERN CORRECTING METHOD, AND LIGHT INTENSITY DISTRIBUTION SIMULATION PROGRAM
光強度分布シミュレーションシステム、光強度分布シミュレーション方法、マスクパターン補正方法、及び光強度分布シミュレーションプログラム - 特許庁 - To detect the intensity of light reflected by a reflectance measuring pattern.
反射率測定パターンにより反射した光強度を検出する。 - 特許庁 - To suppress reduction in the intensity of diffracted light from a mask pattern when the pitch of the mask pattern narrows.
マスクパターンのピッチが狭くなった時のマスクパターンからの回折光の強度低下を抑える。 - 特許庁 - A highly-luminous intensity area HZ1 of the auxiliary luminous intensity distribution pattern Pa is formed to be partially overlapped with a highly-luminous intensity area HZ(L) of the low-beam light distribution pattern P(L), to connect the low-beam light distribution pattern P(L) smoothly to the auxiliary luminous intensity distribution pattern Pa.
その際、補助配光パターンＰａの高光度領域ＨＺ１をロービーム配光パターンＰ（Ｌ）の高光度領域ＨＺ（Ｌ）と部分的に重複させるように形成し、これによりロービーム配光パターンＰ（Ｌ）と補助配光パターンＰａとを滑らかに接続する。 - 特許庁 - The changing pattern of α-wave intensity of the user is measured, and the attention degree of the user is measured based on the changing pattern of the α-wave intensity.
また、ユーザのα波強度の変化パターンが測定され、当該α波強度の変化パターンに基づき、ユーザの注意度が測定される。 - 特許庁 - Variations in the intensity of the reflected light can be converted to an electronic pattern
反射光の輝度の変化を電子パターンに変換することができる - コンピューター用語辞典 - The light intensity distribution and the calculative light intensity distribution in a library are compared, and the line width of the virtual pattern to which the light intensity distribution adapts is considered as the line width of the actual pattern.
その光強度分布と，ライブラリ内の計算上の光強度分布が照合され，光強度分布が適合する仮想パターンの線幅が実際のパターンの線幅とされる。 - 特許庁 - PATTERN VERIFICATION-INSPECTION METHOD, METHOD FOR ACQUIRING DISTRIBUTION OF OPTICAL IMAGE INTENSITY, AND PROGRAM FOR ACQUIRING DISTRIBUTION OF OPTICAL IMAGE INTENSITY
パターン検証・検査方法、光学像強度分布取得方法および光学像強度分布取得プログラム - 特許庁 - A control unit calculates average intensity Bave[n] representing received light intensity of [0] data for each reference pattern, and average intensity Wave[n] representing received light intensity of [1] data.
制御部は、参照パターン毎に、「０」データの受光強度を代表する平均強度Ｂａｖｅ［ｎ］、および「１」データの受光強度を代表する平均強度Ｗａｖｅ［ｎ］を算出する。 - 特許庁 - The control unit calculates an intensity difference D[n] for each reference pattern (step S110), and extracts a reference pattern having a largest intensity difference (step S112).
そして、制御部は、参照パターン毎の強度差Ｄ［ｎ］を算出し（ステップＳ１１０）、最大の強度差をもつ参照パターンを抽出する（ステップＳ１１２）。 - 特許庁 - The light intensity distribution of the speckle pattern corresponding to the non-image part is extracted to calculate an average light intensity, and a pattern sample is generated using it as a threshold.
そして、非画像部に対応するスペックルパターンの光強度分布を抽出して、平均光強度を算出し、これを閾値としてパターンサンプルを生成する。 - 特許庁 - By using a previously prepared reflection intensity pattern and a recently prepared reflection intensity pattern, the movement amount in the transverse direction of the preceding vehicle A is computed by a pattern matching operation.
そして、前回作成した反射強度パターンと今回作成した反射強度パターンとを用いてパターンマッチングにより先行車両Ａの横方向の移動量を算出する。 - 特許庁 - Considering that contrast in light intensity of the fine pattern adjacent to the wide pattern is decreased, a pattern processing which reduces a decrease of the contrast in light intensity for the fine pattern is performed to obtain a semiconductor device.
幅広パターンに隣接した微細パターンの光強度コントラストが低下することを考慮して、微細パターンに対する光強度コントラストの低下を軽減するパターン処理を施した半導体装置が得られる。 - 特許庁 - A light intensity pattern is formed by optical simulation using the pattern data (S13), and a model for specifying the quantity of corrections correlated with the difference in size between the light intensity pattern and the test pattern is developed (S14, S15).
パターンデータを用いた光学シミュレーションにより光強度パターンを形成し（Ｓ１３）、テストパターンに対する光強度パターンの寸法相違に相関する補正量を規定するモデルを生成する（Ｓ１４，Ｓ１５）。 - 特許庁 - Thereafter, the sum of forward scatter intensity and backward scatter intensity at an evaluation point is evaluated by using adjacent pattern information and the obtained backward scatter intensity, and a movement amount of a side of a pattern is calculated.
次に、隣接パターン情報と得られた後方散乱強度を用いて、評価点における前方散乱強度と後方散乱強度の和を評価し、パターンの辺の移動量を計算する。 - 特許庁 - In this exposure process, laser beam intensity for the pit pattern exposure and laser beam intensity for the groove exposure are made equal to each other.
この露光工程では、ピットパターン露光用のレーザー光強度と、グルーブ露光用のレーザー光強度を同一とした。 - 特許庁 - Thereby, detection accuracy of the transmission light intensity pattern of the valuable paper sheet is improved.
これにより、有価紙葉の透過光量パターンの検出精度を向上する。 - 特許庁 - To mitigate the non-uniformity of the intensity distribution by the interference pattern of laser beams.
レーザ光の干渉パターンによる強度分布の不均一性を緩和させる。 - 特許庁 - To provide an exposure mask and a pattern forming method for improving the light intensity distribution of a two-dimensional pattern and forming a fine resist pattern.
２次元パターンの光強度分布を改善し、良好なレジストパターンを形成できる露光用マスク及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - By comparing a signal intensity pattern extracted from the CCD 26 to a reference pattern, undulations and recess defects are detected.
ＴＤＩラインＣＣＤ２６から得られた信号強度パターンを標準パターンと比較し、うねりや凹欠陥を検知する。 - 特許庁 - To provide a vertical fringe interference pattern projection lens having high light intensity and capable of projecting a vertical fringe interference pattern at a wide angle.
光強度が大きく縦縞干渉模様を広角に投影可能な縦縞干渉模様投影レンズを提供する。 - 特許庁 - Further, a pattern consisting of a (second segment group in a relation corresponding to the first pattern (about the inversion of the intensity of light and complementary colors) is formed adjacent to the first pattern.
さらに、前記パターンと対応関係（光強度の反転，補色関係）にある（第２の）セグメント群からなるパターンを隣接させて形成する。 - 特許庁 - SIMULATION METHOD OF OPTICAL IMAGE INTENSITY DISTRIBUTION, SIMULATION PROGRAM AND PATTERN DATA CREATING METHOD
光学像強度分布のシミュレーション方法、シミュレーションプログラム及びパターンデータ作成方法 - 特許庁 - The exposure monitor pattern 101 is formed of an opening pattern 102 and an intensity change pattern 103 to monotonously change the irradiation intensity distribution of the exposure light to be transmitted in an x-axis direction and to connect to the pattern in the x-direction.
露光量モニタパターン１０１は、開口パターン１０２と、このパターンに対してｘ軸方向に接続し、透過する露光光の照射強度分布がｘ軸方向に単調に変化する強度変化パターン１０３とから形成されている。 - 特許庁 - The air conditioner is provided with a control pattern for controlling the intensity of the floor heating according to the intensity of air heating by an indoor heat exchanger.
さらに、床暖房加熱の強さを室内熱交換器による空気暖房加熱の強さに応じて制御する制御パターンを備える。 - 特許庁 - A modulation pattern signal generating unit 42 figures out from a projection pattern a laser beam emission intensity matching the scanning angle that has been figured out.
変調パターン信号生成部４２は、求められた走査角度に対応するレーザー発光強度を投影パターンから求める。 - 特許庁 - Then, intensity distribution is calculated based on the geometry characteristics and illumination mode characteristics and mask pattern data of a pattern feature 154.
次に、パターンフィーチャのジオメトリ特徴及び照明モード特徴及びマスクパターンデータに基づき、強度分布が計算される１５４。 - 特許庁 - Shades for forming high beams provided in the right and left lamps 30R and 30L shield a part of light emitting from light sources of the lamps 30R and 30L to form a right side luminous intensity distribution pattern and a left side luminous intensity distribution pattern.
左右灯具に設けられるハイビーム形成用シェードは、灯具の光源から発せられる光の一部を遮蔽して、左側配光パターンおよび右側配光パターンを形成する。 - 特許庁 - As a result, the incident light to the reflecting surface of a reflector is almost fully utilized, and an excellent low beam luminous intensity distribution pattern and high beam luminous intensity distribution pattern can be provided.
この結果、リフレクタ４の反射面４０に入射する光がほぼ１００％有効利用され、かつ、良好なロービームの配光パターンＬＰ及びハイビームの配光パターンＨＰが得られる。 - 特許庁 - By the collator 18, the intensity of the DC magnetic field making the reproduction signal RFD coincide with the specified recording pattern WDK from a pattern generator 19 is decided by the collator 18 as the suitable intensity.
照合器１８は、再生信号ＲＦＤがパターン発生器１９からの所定の記録パターンＷＤＫに一致にする直流磁界の強度を好適な強度と決定する。 - 特許庁 - In the X-ray diffraction pattern of the NOx absorbent material a peak due to the (111) face of BaCO3 is present and the intensity ratio (IA/IF) of the intensity IA of the peak after long-term use to the initial intensity IF is 0.2-1.
そのＸ線回折パターンには、ＢａＣＯ_３の（１１１）面のピークが存在し、このピークの耐久後強度（Ｉ_Ａ）と初期強度（Ｉ_Ｆ）との強度比Ｉ_Ａ／Ｉ_Ｆが、０．２〜１である。 - 特許庁 - A cutoff line changing part 50 controls the widths of the light shielding regions of the shades so that a whole luminous intensity distribution pattern overlapped with the right side luminous intensity distribution pattern and the left side luminous intensity distribution pattern may constitute a light shielding region conformed to the vehicle position detected by the vehicle position detecting part 52.
カットオフライン変更部５０は、左側配光パターンと右側配光パターンとを重ね合わせた全体配光パターンが、車両位置検出部５２により検出される車両位置に合わせた遮光領域を構成するように、ハイビーム形成用シェードの遮光領域の幅を制御する。 - 特許庁 - When the total irradiation intensity in a total irradiation pattern is 400%, the irradiation intensity in each of the irradiation parts becomes 100%.
総照射パターンにおけるパルスの総照射強度が「４００％」とすると、照射部のそれぞれにおける照射強度は、「１００％」となる。 - 特許庁 - To uniformize the light intensity distribution of a laser beam even when the light intensity distribution of incident light is an inclined pattern having inclination in one direction.
本発明は入射光の光強度分布が一方向に傾きをもった傾斜パターンの場合でも均一化することを課題とする。 - 特許庁 - By these processings, the image data are converted to mask pattern data for performing luminous intensity simulation.
これらの処理によって、光強度シミュレーションを行うためのマスクパターンデータに変換される。 - 特許庁 - To improve the detection performance of a transmission light intensity pattern of a paper sheet-discriminating optical sensor device.
紙葉類鑑別用光学センサ装置の透過光量パターンの検出性能を改善する。 - 特許庁 - To change the depth in vertical direction and condensing intensity of a light distribution pattern by one lamp.
配光パターンの上下方向の広がりおよび集光強度を１つの灯具で変更する。 - 特許庁 - Reference pattern data are recorded on a non-user data area with optimum laser intensity at initial starting.
初期起動時に最適レーザ強度にて非ユーザデータ領域に参照パターンデータを記録しておく。 - 特許庁 - The pattern forming device performs the pattern formation by simultaneously irradiating the pattern with a plurality of beams of varying intensity through a plurality of channel light valves, a plurality of irradiation heads, etc.
パターン形成装置は、複数チャンネルライトバルブ、複数の照射ヘッド等を介して、異なる強度の複数のビームを同時に照射することによりパターン形成を行う。 - 特許庁 - The mark is formed with a dot pattern 15 constituting a light modulation pattern that comprises small pieces of numerous pattern materials for modulating the illumination light intensity transmitting through the mark.
マークには、このマークを透過する照明光の量を調節する無数のパターン材料の小片からなる調光パターンを構成するドットパターン１５が形成されている。 - 特許庁 - An emission unit 16 emits stripe pattern light, whose intensity changes periodically to a subject, while shifting the phase of the pattern by π/2.
照射部１６が、強度が周期的に変化する縞パターン光を、パターンの位相をπ／２ずつ移動させつつ被写体に照射する。 - 特許庁 - Beam emission intensity from the auxiliary lamp unit 18 is regulated by a dimming unit to intensity the blightness of the low-beam light distribution pattern P(L) by the auxiliary luminous intensity distribution pattern Pa of blightness in response to a traveling condition of the vehicle.
さらに、調光ユニットによって補助灯具ユニット１８のビーム照射強度を調整することにより、車両走行状況に応じた明るさの補助配光パターンＰａでロービーム配光パターンＰ（Ｌ）の明るさを補強可能とする。 - 特許庁 - In addition, the coefficient of variation of the first peak intensity showing the maximum intensity in an X-ray diffraction pattern inside a stimulable phosphor layer face is set at 40% or lower.
そして、輝尽性蛍光体層面内のＸ線回折パターンにおいて最大強度を示す第１ピーク強度の変動係数を４０％以下とする。 - 特許庁 - Related to the coat 12, A/B is 1 or higher for an X-ray diffraction pattern, where A is a peak intensity on (111) surface while B is a peak intensity on (220) surface.
皮膜１２は，Ｘ線回折パターンにおける，（１１１）面のピーク強度をＡ，（２２０）面のピーク強度をＢとした場合，Ａ／Ｂが１以上である。 - 特許庁
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