To provide a positive radiation-sensitive resin composition which contains a compound good also in compatibility with other components, can optimally control radiation transmittance particularly as a chemically amplified positive resist effectively sensitive to far-ultraviolet radiation, in particular, can effectively suppress a linewidth change of a resist pattern due to a thickness variation of a resist film on a highly reflecting substrate, and excels also in depth of focus latitude. 他の成分との相溶性も良好な化合物を含有し、特に遠紫外線に有効に感応する化学増幅型ポジ型レジストとして、放射線透過率を最適にコントロールすることができると共に、特に、高反射基板上でのレジスト被膜の膜厚変動によるレジストパターンの線幅変化を有効に抑えることが可能で、かつ焦点深度余裕にも優れたポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁