「pattern measuring」を含む例文一覧(1187)

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  • PATTERN MEASURING METHOD AND APPARATUS
    パターン測定方法及びパターン測定装置 - 特許庁
  • PATTERN MEASURING METHOD AND DEVICE
    パターン測定方法及びパターン測定装置 - 特許庁
  • PATTERN LIGHT PROJECTING DEVICE AND MEASURING DEVICE
    パターン光投影装置及び測定装置 - 特許庁
  • BEHAVIORAL PATTERN MEASURING DEVICE, BEHAVIORAL PATTERN MEASURING METHOD, AND HEALTH STATE SUPPOSING DEVICE
    行動パターン測定装置、行動パターン測定方法及び健康状態推測装置 - 特許庁
  • METHOD FOR MEASURING PITCH OF L/S PATTERN
    L/Sパターンのピッチを測定する方法 - 特許庁
  • IMPEDANCE MEASURING CIRCUIT PATTERN AND IMPEDANCE MEASURING CIRCUIT BOARD
    インピーダンス測定用回路パターン及びインピーダンス測定用回路板 - 特許庁
  • PATTERN MEASURING METHOD AND ALIGNING METHOD
    パターン測定方法および位置合わせ方法 - 特許庁
  • PATTERN DIMENSION MEASURING METHOD, AND DEVICE THEREFOR
    パターン寸法計測方法及びその装置 - 特許庁
  • PATTERN MEASURING METHOD AND DEVICE
    パターン測定方法およびパターン測定装置 - 特許庁
  • PATTERN MEASURING SYSTEM, PATTERN MEASURING METHOD, PROCESS MANAGING METHOD, AND EXPOSURE CONDITION RESOLUTION METHOD
    パターン計測システム、パターン計測方法、プロセス管理方法及び露光条件決定方法 - 特許庁
  • EDGE POSITION DETECTING DEVICE, PATTERN MEASURING DEVICE, EDGE POSITION DETECTING METHOD AND PATTERN MEASURING METHOD
    エッジ位置検出装置、パターン測定装置、エッジ位置検出方法およびパターン測定方法 - 特許庁
  • LOW REFLECTION PATTERN FILM AND HEIGHT MEASURING DEVICE
    低反射パターン膜及び高さ測定装置 - 特許庁
  • MASK AND METHOD FOR MEASURING DIMENSION OF MASK PATTERN
    マスクおよびマスクパターンの寸法測定方法 - 特許庁
  • DIMENSION MEASURING PATTERN AND FORMATION METHOD OF THE SAME
    寸法測定パターン、及びその形成方法 - 特許庁
  • MEASURING APPARATUS OF DIMENSION OF PATTERN AND MEASURING METHOD USING THE SAME
    パターンの寸法の測定装置、及びこれを用いる測定方法 - 特許庁
  • PATTERN MEASURING METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
    パターン測定方法、及び荷電粒子線装置 - 特許庁
  • WIRING PATTERN FOR MEASUREMENT AND MEASURING METHOD THEREFOR
    測定用配線パターン及びその測定方法 - 特許庁
  • A measuring-target patterning device controller adjusts the measuring target pattern separately from the product pattern.
    計測ターゲット・パターン化デバイス・コントローラが、製品パターンとは別個に計測ターゲット・パターンを調整する。 - 特許庁
  • To provide a pattern width measuring program and a pattern width measuring device, capable of accurately measuring a pattern width of a drawing pattern in which a contour has periodicity.
    本発明の課題は、輪郭線が周期性を有する描画パターンのパターン幅を、精度よく測定できるパターン幅測定プログラム、パターン幅測定装置を提供する。 - 特許庁
  • PATTERN DRAWING PRESS DEVICE AND PARALLEL DEGREE MEASURING SYSTEM OF PATTERN DRAWING PRESS DEVICE
    型抜きプレス装置および型抜きプレス装置の平行度測定システム - 特許庁
  • POSITIONAL MISALIGNMENT MEASURING METHOD OF SUBSTRATE FRONT/BACK SURFACE PATTERN USING OPENING PATTERN
    開口パターンを用いた基板表裏面パターンの位置ずれ測定方法 - 特許庁
  • TEST PATTERN MEASURING METHOD, AND IMAGE FORMING DEVICE
    テストパターン測定方法および画像形成装置 - 特許庁
  • SCANNING ELECTRON MICROSCOPE AND PATTERN MEASURING METHOD
    走査型電子顕微鏡及びパターン測定方法 - 特許庁
  • PATTERN EXTRACTION SYSTEM, MEASURING POINT EXTRACTION METHOD, PATTERN EXTRACTION METHOD AND PATTERN EXTRACTION PROGRAM
    パターン抽出システム、測定ポイント抽出方法、パターン抽出方法及びパターン抽出プログラム - 特許庁
  • To provide a pattern width measuring device for accurately measuring the pattern width of a pattern formed on a wafer using electron beam.
    電子ビームを用いてウェハ上に形成されたパターンのパターン幅を精度よく測長するパターン幅測長装置を提供する。 - 特許庁
  • MEASURING METHOD OF FINE PATTERN LINE WIDTH AND ITS SYSTEM
    微細パターン線幅測定方法およびそのシステム - 特許庁
  • MEASURING APPARATUS, PATTERN FORMING DEVICE AND LITHOGRAPHY DEVICE
    計測装置、パターン形成装置及びリソグラフィ装置 - 特許庁
  • EQUIPMENT AND METHOD FOR MEASURING PATTERN MATCHING ACCURACY
    パターン重ね合わせ精度測定装置および方法 - 特許庁
  • GRID-PATTERN PROJECTION TYPE SURFACE PROFILE MEASURING APPARATUS
    格子パターン投影型表面形状計測装置 - 特許庁
  • METHOD FOR MEASURING CONVERGENCE THROUGH USE OF MIXED COLOR PATTERN
    混色パターンを使用したコンバージェンス測定方法 - 特許庁
  • PATTERN SIZE MEASURING METHOD FOR PHOTOMASK, AND PHOTOMASK
    フォトマスクのパターン寸法測定方法およびフォトマスク - 特許庁
  • The reflectance measuring pattern is a diffraction grating.
    そして、反射率測定パターンは、回折格子である。 - 特許庁
  • The oblique incidence effect measuring pattern is a rotational symmetric pattern.
    前記斜入射効果測定用パターンは、回転対称なパターンとしておく。 - 特許庁
  • PATTERN MEASURING METHOD AND INSTRUMENT, AND PATTERN PROCESS CONTROL METHOD
    パターン計測方法及びパターン計測装置、並びにパターン工程制御方法 - 特許庁
  • PATTERN DRAWING DEVICE CAPABLE OF MEASURING SIZE OF BEAM SPOT
    ビームスポットのサイズを測定可能なパターン描画装置 - 特許庁
  • PATTERN SIZE MEASURING METHOD, AND SCANNING ELECTRON MICROSCOPE
    パターン寸法計測方法及び走査電子顕微鏡 - 特許庁
  • DIMENSION MEASURING PATTERN, FORMATION METHOD THEREFOR, AND DIMENSION MEASURING METHOD
    寸法測定パターン、寸法測定パターンの形成方法および寸法測定方法 - 特許庁
  • PATTERN FOR MEASURING AMOUNT OF POSITIONAL MISALIGNMENT AND MEASURING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
    位置ずれ量の測定用パターンおよび測定方法、ならびに半導体装置 - 特許庁
  • To provide a method for measuring a pattern which allows the automatization of pattern measurement.
    パタン計測の自動化を図れるパタン計測方法を提供することである。 - 特許庁
  • EXPOSURE MASK, FOCUS MEASURING METHOD, AND PATTERN FORMING METHOD
    露光マスク、フォーカス測定方法及びパターン形成方法 - 特許庁
  • APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING DIMENSION OF PATTERN
    パターン寸法測定装置およびパターン寸法測定方法 - 特許庁
  • METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING PATTERN SIZE
    パターン寸法測定方法およびパターン寸法測定装置 - 特許庁
  • SEMICONDUCTOR PATTERN MEASURING METHOD AND PROCESS CONTROL METHOD
    半導体パターン計測方法、およびプロセス管理方法 - 特許庁
  • PATTERN DIMENSION MEASURING METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
    パターン寸法測定方法、及び荷電粒子線装置 - 特許庁
  • METHOD AND DEVICE FOR MEASURING PATTERN DIMENSION
    パターン寸法測定方法、及びパターン寸法測定装置 - 特許庁
  • METHOD FOR AUTOMATICALLY MEASURING ROUNDNESS AND MEASUREMENT APPARATUS FOR MASK PATTERN QUALITY
    丸み自動計測方法、マスクパターン品質測定装置 - 特許庁
  • OVERLAPPING ERROR MEASURING METHOD AND OVERLAPPING PATTERN
    重ね合わせ誤差測定方法および重ね合わせパターン - 特許庁
  • SUPERPOSITION MEASURING PATTERN AND METHOD FOR CORRECTING SUPERPOSITION
    重ね合わせ測定パターンおよび重ね合わせ補正方法 - 特許庁
  • METHOD FOR MEASURING PATTERN USING SCANNING ELECTRON MICROSCOPE
    走査型電子顕微鏡を用いたパターン計測方法 - 特許庁
  • SCANNING ELECTRON MICROSCOPE AND MICRO-PATTERN MEASURING METHOD
    走査型電子顕微鏡及び微細パターン測定方法 - 特許庁
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