PROCESSING SOLUTION FOR FORMING RESIST PATTERN AND RESIST PATTERN FORMING METHOD レジストパターン形成用処理液及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR RESIST PATTERN MICROFABRICATION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN レジストパターン微細化組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
CIRCUIT PATTERN INSPECTION DEVICE AND METHOD OF INSPECTING CIRCUIT PATTERN THEREOF 回路パターン検査装置及びその回路パターン検査方法 - 特許庁
PATTERN INSPECTION METHOD AND PATTERN INSPECTION DEVICE AND RECORDING MEDIUM パターン検査方法及びパターン検査装置及び記録媒体 - 特許庁
METHOD OF FORMING PATTERN, PATTERN FORMED BY METHOD OF FORMING PATTERN, MOLD, PROCESSING APPARATUS AND PROCESSING METHOD パターンの形成方法、該パターンの形成方法によって形成されたパターン、モールド、加工装置及び加工方法 - 特許庁
METHOD FOR SETTING DESIGN MARGIN OF WAFER PATTERN, METHOD FOR SETTING PATTERN ACCURACY AND METHOD FOR SETTING DESIGN MARGIN OF MASK PATTERN ウェハパターンの設計マージン設定方法、パターン精度設定方法およびマスクパターンの設計マージン設定方法 - 特許庁
To provide a method of forming a mask pattern structure and a method of forming a fine pattern using the method of forming a mask pattern structure. マスクパターン構造物の形成方法とこれを利用した微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
PATTERN CORRECTION METHOD, PATTERN CORRECTION SYSTEM, PATTERN CORRECTION PROGRAM, METHOD FOR PRODUCING MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE パターン補正方法、パターン補正システム、パターン補正プログラム、マスクの作成方法、および半導体装置の製造方法 - 特許庁
DESIGN PATTERN CORRECTING METHOD, MASK PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, DESIGN PATTERN CORRECTION SYSTEM, AND DESIGN PATTERN CORRECTING PROGRAM 設計パターン補正方法、マスクパターン作成方法、半導体装置の製造方法、設計パターン補正システム、及び設計パターン補正プログラム - 特許庁
METHOD FOR VERIFYING PATTERN DATA, METHOD FOR CREATING PATTERN DATA, METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK, AND PROGRAM パタンデータ検証方法、パタンデータ作成方法、露光用マスクの製造方法およびプログラム - 特許庁
METHOD OF VERIFYING PATTERN, METHOD OF FORMING PATTERN, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PROGRAM パターンの検証方法、パターンの形成方法、半導体装置の製造方法及びプログラム - 特許庁
METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR FORMING THIN-FILM PATTERN AND MANUFACTURING METHOD FOR MICRO-DEVICE レジストパターンの形成方法、薄膜パターンの形成方法及びマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁
PATTERN MEASURING SYSTEM, PATTERN MEASURING METHOD, PROCESS MANAGING METHOD, AND EXPOSURE CONDITION RESOLUTION METHOD パターン計測システム、パターン計測方法、プロセス管理方法及び露光条件決定方法 - 特許庁
METHOD FOR PREPARING DRAWING PATTERN, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR CONTROLLING EXPOSURE APPARATUS 描画パターンの生成方法、レジストパターンの形成方法、及び露光装置の制御方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING METAL THIN FILM PATTERN 金属薄膜パターンの製造方法 - 特許庁
OFFSET TEST PATTERN DEVICE AND METHOD オフセット・テスト・パターン装置および方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING THIN FILM METAL PATTERN 薄膜金属パターンの形成方法 - 特許庁
LENGTH MEASURING PATTERN AND LENGTH MEASURING METHOD 測長パターンおよび測長方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF LIQUID CRYSTAL DEVICE, AND PATTERN FORMING DEVICE パターン形成方法、液晶装置の製造方法及びパターン形成装置 - 特許庁
METHOD FOR MEASURING PATTERN, DEVICE FOR MEASURING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, AND PROGRAM パタン計測方法、パタン計測装置、フォトマスクの製造方法およびプログラム - 特許庁
CHOPSTICK AND PATTERN FORMING METHOD OF CHOPSTICK 箸および箸の模様形成方法。 - 特許庁
PATTERN TRANSFER DEVICE, IMPRINT DEVICE, PATTERN TRANSFER METHOD, AND ALIGNMENT METHOD パターン転写装置、インプリント装置、パターン転写方法および位置合わせ方法 - 特許庁
PATTERN EXPOSING METHOD AND ALIGNER DEVICE パターン露光方法および露光装置 - 特許庁
METHOD FOR FORMING FINE PARTICLE ARRAY PATTERN 微粒子配列パターン形成方法 - 特許庁
METHOD OF WRITING PATTERN REPETITIONS OF IMAGE 映像のパターン反復記述方法 - 特許庁
PATTERN INSPECTION APPARATUS, PATTERN INSPECTION METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE パターン検査装置、パターン検査方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁