METHOD FOR DRAWING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK パターン描画方法及びフォトマスクの製造方法 - 特許庁
FORMING METHOD FOR PATTERN AND MANUFACTURING METHOD FOR MOLD パターンの形成方法及びモールドの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, METHOD FOR VERIFYING MASK PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE マスクパターン補正方法、マスクパターン検証方法、フォトマスク製造方法および半導体装置製造方法 - 特許庁