「pattern method」を含む例文一覧(23002)
＜前へ 1 2 .... 77 78 79 80 81 82 83 84 85 .... 460 461 次へ＞- PATTERN INSPECTION METHOD FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD
電子ビーム描画用パターン検査方法及び電子ビーム描画方法 - 特許庁 - PATTERN DRAWING SYSTEM, CHARGED BEAM DRAWING METHOD, AND PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD
パターン描画システム、荷電ビーム描画方法、及びフォトマスク製造方法 - 特許庁 - MULTILEVEL GRADATION PHOTOMASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND PATTERN TRANSFER METHOD
多階調フォトマスク及びその製造方法、並びにパターン転写方法 - 特許庁 - METHOD FOR CORRECTING PHOTOMASK PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK AND RECORDING MEDIUM
フォトマスクパターンの補正方法、フォトマスクの製造方法および記録媒体 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY MASK, AND METHOD FOR EXPOSURE OF PATTERN
荷電粒子線リソグラフィマスクの製造方法及びパターン露光方法 - 特許庁 - LIQUID JET DEVICE, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND METHOD FOR SETTING ROTATIONAL AMOUNT
液体吐出装置、パターン形成方法、及び、回転量設定方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR FORMING PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC EQUIPMENT
パターン形成方法、パターン形成装置および電子機器の製造方法 - 特許庁 - ILLUMINATOR, METHOD FOR PROJECTING PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT
照明装置、パターン投影方法及び半導体素子の製造方法 - 特許庁 - RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR PROCESSING BASE PLATE USING SAME
レジストパターンの形成方法およびそれを利用した基板の加工方法 - 特許庁 - FORMING METHOD OF CONDUCTOR PATTERN, AND MANUFACTURING METHOD OF THIN-FILM CAPACITOR ELEMENT
導体パターンの形成方法および薄膜キャパシタ素子の製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR GENERATING IRRADIATION PATTERN DATA, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, AND DRAWING SYSTEM
照射パターンデータ作成方法、マスク製造方法、及び描画システム - 特許庁 - MEMBRANE MASK, ITS MANUFACTURING METHOD AND POSITION ACCURACY-MAINTAINING METHOD OF MASK PATTERN
メンブレンマスク、その製造方法及びマスクパターンの位置精度保持方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR FORMING THIN FILM PATTERN, MICRO DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND CROSSLINKING RESIN COMPOSITION
レジストパターンの形成方法、薄膜パターンの形成方法、マイクロデバイス及びその製造方法、並びに架橋性樹脂組成物 - 特許庁 - APPARATUS FOR CORRECTING LAYOUT PATTERN, METHOD FOR CORRECTING LAYOUT PATTERN, PROGRAM, STORAGE MEDIUM, METHOD FOR MANUFACTURING RETICLE, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
レイアウトパターン補正装置、レイアウトパターン補正方法、プログラム、記録媒体、レチクルの製造方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - DISPENSER, FORMATION METHOD OF INORGANIC PARTICLE-CONTAINING PASTE PATTERN, PHOSPHOR PATTERN FORMATION METHOD OF DISPLAY, AND MANUFACTURING METHOD OF DISPLAY
ディスペンサー、無機粒子含有ペーストパターンの形成方法、ディスプレイの蛍光体パターン形成方法およびディスプレイの製造方法 - 特許庁 - FINE PATTERN FORMING METHOD, FINE PATTERN FORMING MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE METHOD
微細パターン形成方法、微細パターン形成用材料、およびこの微細パターン形成方法を用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁 - The thin film pattern is formed using the resist pattern 10 by an etching method, a lift-off method or a method using these in combination.
薄膜パターンは、レジストパターン１０を用いて、エッチング法、リフトオフ法、またはこれらを併用した方法によって形成される。 - 特許庁 - DETECTION DEVICE, MOVABLE BODY APPARATUS, PATTERN FORMATION APPARATUS AND PATTERN FORMATION METHOD, EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
検出装置、移動体装置、パターン形成装置及びパターン形成方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 - 特許庁 - HOLOGRAM RECORDING/REPRODUCING DEVICE, HOLOGRAM RECORDING/REPRODUCING METHOD, PHASE MODULATION PATTERN DISPLAY METHOD, AND PHASE MODULATION PATTERN CREATION METHOD
ホログラム記録再生装置、ホログラム記録再生方法、位相変調パターンの表示方法及び位相変調パターンの作成方法 - 特許庁 - REFRACTION LATTICE STRUCTURE, IMAGE DEVELOPING TOOL, METHOD FOR RECOGNIZING REFRACTION LATTICE PATTERN, METHOD FOR JUDGING AUTHENTICITY AND METHOD FOR FORMING REFRACTION LATTICE PATTERN
回折格子構造体、顕像具、回折格子パターンの視認方法、真偽判定方法および回折格子パターン作成方法 - 特許庁 - METHOD FOR ELECTRONIC BEAM DRAWING, MICROSCOPIC PATTERN DRAWING SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING CONCAVE-CONVEX PATTERN SUPPORTER, AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC DISK MEDIUM
電子ビーム描画方法、微細パターン描画システム、凹凸パターン担持体の製造方法および磁気ディスク媒体の製造方法 - 特許庁 - ELECTRON BEAM DRAWING METHOD, FINE PATTERN DRAWING SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING UNEVEN PATTERN CARRIER, AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC DISK MEDIUM
電子ビーム描画方法、微細パターン描画システム、凹凸パターン担持体の製造方法および磁気ディスク媒体の製造方法 - 特許庁 - RETICLE AND EXPOSURE METHOD AND DEVICE USING THE SAME, METHOD FOR FORMING RETICLE PATTERN, PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE
レチクル及びこれを用いた露光方法及び装置、並びにレチクルのパターン作成方法、パターン形成方法及び半導体装置 - 特許庁 - ALIGNMENT-MARK POSITION MEASURING METHOD, PATTERN EXPOSURE SYSTEM, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PLANT, AND PATTERN EXPOSURE SYSTEM MAINTAINING METHOD
アライメントマーク位置計測方法、露光装置、半導体デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 - 特許庁 - PATTERN DEFECT INSPECTING METHOD, PATTERN DEFECT INSPECTING APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK PRODUCT AND METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE FOR DISPLAY DEVICE
パターン欠陥検査方法、パターン欠陥検査装置、フォトマスク製品の製造方法、及び表示デバイス用基板の製造方法 - 特許庁 - The resist pattern measuring method measures the true resist pattern with a shrinkage taken into consideration, after determining correctly the line pattern/space pattern, based on the shrinkage amount.
このシュリンク量により、レジストパターンのＬｉｎｅ／Ｓｐａｃｅを正しく判別した上でシュリンクを考慮した真の寸法を測定することが可能となる。 - 特許庁 - To provide a pattern formation substrate where a fine pattern with a desired aspect ratio, especially, a fine pattern with a large aspect ratio is formed, and a pattern forming method.
所要のアスペクト比の微細なパターン、特にアスペクト比が大きい微細なパターンを形成を有するパターン形成基板及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - ELECTRONICALLY CONTROLLED MACHINE CAPABLE OF EMBROIDERING, EMBROIDERING PATTERN PROVISION SYSTEM, EMBROIDERING PATTERN PROVISION METHOD, EMBROIDERING PATTERN PROVISION SERVER AND EMBROIDERING PATTERN PROVISION PROGRAM
刺繍縫製可能な電子制御ミシン、縫製模様提供システム、縫製模様提供方法、縫製模様提供サーバー及び縫製模様提供プログラム - 特許庁 - A formation method of a resist pattern includes a step of forming a resist pattern before applying the resist pattern improving material so as to cover a surface of the resist pattern.
レジストパターンを形成後に、該レジストパターンの表面を覆うように前記レジストパターン改善化材料を塗布する工程を含むレジストパターンの形成方法である。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition, a compound and a method for forming a pattern to obtain a pattern with few pattern collapses, reduced line edge roughness and having pattern profile.
パターン倒れが少なく、ラインエッジラフネスを小さくでき、パターンプロファイルが優れた感光性組成物、化合物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - VIRTUAL PATTERN-PREPARING APPARATUS, VIRTUAL PATTERN-PREPARING METHOD, VIRTUAL PATTERN-PREPARING PROGRAM AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM IN WHICH VIRTUAL PATTERN-PREPARING PROGRAM IS RECORDED
仮想型紙作成装置、仮想型紙作成方法、仮想型紙作成プログラム及び仮想型紙作成プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR GENERATING REFERENCE DATA, PATTERN INSPECTING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD FOR MASK
参照データ発生方法、発生装置、パターン検査方法およびマスクの製造方法 - 特許庁 - EVALUATING METHOD FOR GROOVE WANDERING PROPERTY OF TIRE AND DESIGNING METHOD FOR TREAD PATTERN USING THIS METHOD
タイヤのグルーブワンダリング性評価方法、およびそれを用いたトレッドパターンの設計方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING PATTERN, MANUFACTURING METHOD FOR ELECTROOPTIC DEVICE, MANUFACTURING METHOD FOR DEVICE AND ELECTRONIC EQUIPMENT
パターンの形成方法、電気光学装置の製造方法、デバイスの製造方法、電子機器 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ELECTROOPTICAL APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE
パターン形成方法及び電気光学装置製造方法並びに電子機器製造方法 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRO-OPTICAL DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONICS
パターン形成方法及び電気光学装置製造方法並びに電子機器製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR INSPECTING MASK PATTERN, METHOD FOR VERIFYING EXPOSURE CONDITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
マスクパターン検査方法、露光条件検証方法、および半導体装置の製造方法 - 特許庁 - FILM PATTERN FORMING METHOD, DEVICE-MANUFACURING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING DRIP DISCHARGE HEAD
膜パターン形成方法及びデバイス製造方法並びに液滴吐出ヘッドの製造方法 - 特許庁 - ALIGNER, EXPOSURE METHOD, DEVICE MANUFACTURING METHOD, PATTERN FORMING DEVICE, AND ALIGNING METHOD
露光装置、露光方法、デバイス製造方法、パターン形成装置および位置合わせ方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY
パターン形成方法、半導体装置の製造方法、および表示装置の製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR DEPOSITING THIN FILM, METHOD FOR DEPOSITING THIN FILM PATTERN AND PATTERNING METHOD FOR THIN FILM
薄膜の形成方法、薄膜パターンの形成方法および薄膜のパターニング方法 - 特許庁 - EXPOSURE METHOD, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, MASK PATTERN, AND METHOD FOR MEASURING POSITIONAL DISPLACEMENT
露光方法、半導体装置の製造方法、マスクパターンおよび位置ずれ測定方法 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD, METHOD OF FORMING CONTACT HOLE, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTROOPTICAL DEVICE
パターン形成方法、コンタクトホールの形成方法、及び電気光学装置の製造方法 - 特許庁 - METHOD OF FORMING CONTACT HOLE, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTROOPTICAL DEVICE
コンタクトホールの形成方法、パターン形成方法、及び電気光学装置の製造方法 - 特許庁 - FILM-PATTERN-FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING DROPLET-DISCHARGING HEAD
膜パターン形成方法及びデバイス製造方法並びに液滴吐出ヘッドの製造方法 - 特許庁 - OPTIMIZATION METHOD OF LIGHTING SHAPE, OPTIMIZATION METHOD OF MASK SHAPE, AND PATTERN FORMATION METHOD
照明形状の最適化方法、マスク形状の最適化方法及びパターン形成方法 - 特許庁 - CALCULATION METHOD OF FAILURE PROBABILITY, PATTERN FORMATION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
不良確率の算出方法、パターン作成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - METHOD OF OPTIMIZING DIE SIZE, PATTERN DESIGNING METHOD, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND COMPUTER PROGRAM PRODUCT
ダイサイズの最適化方法、パターン設計方法、デバイス製造方法、及びコンピュータプログラム製品 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, AND METHOD AND PROGRAM FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
パターン作成方法、マスクの製造方法、半導体装置の製造方法及びプログラム - 特許庁 - METHOD FOR FORMING PROCESS MODEL, METHOD FOR DESIGNING MASK PATTERN, MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
プロセスモデル作成方法、マスクパターン設計方法、マスクおよび半導体装置の製造方法 - 特許庁
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